专利名称：一种荧光粉基料的装填装置的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种荧光粉基料的装填装置。
技术背景如图1所示，这是一种荧光粉基料的装填方法装置，该装置包括反应密封容器Al、 荧光粉A2、装置底盘A3、坩埚A4、H2+N2的混合气体输入装置A5。反应密封容器Al是一个封闭的加热体，旁边有热辐射，保证容器内部的反应温度，同时通入吐+队的混合气体，然后送入炉体中进行烧结。其不足之处是1、粉块中心烧结温度和时间不够导致质量不稳定。2、当粉块中心烧成效果良好时，但粉块的外部和上部则出现过烧的现象从而影响荧光粉的得率和发光效率。3、还原性气氛难于完全渗透坩埚中的基料，如还原反应不充分则直接影响发光效率和色度
实用新型内容
本实用新型的目的就是针对现有技术之不足，而提供一种荧光粉基料的装填装置。它提高了产品质量，提高了成品得率，为提高产品技术水平和节能降耗降低成本，提高产品的竞争能力具有一定的现实意义。本实用新型的技术解决措施如下一种荧光粉基料的装填装置，包括反应炉、荧光粉、底盘、坩埚及H2+N2的混合气体输入装置，底盘及坩埚都设于反应炉内，坩埚置于底盘上，荧光粉则装在坩埚中；在坩埚的粉体中心上打有一中心孔。上述技术方案中，反应炉的炉顶呈圆弧形。本实用新型的有益效果在于1、中心打孔后粉壁与坩埚底边和底部保持厚度相同，减少受热体的受热深度，烧结效果明显改善。2、还原性气氛，渗透效果良好。3、烧结效果好和还原性气氛渗透充分，提高发光效率> 3 5%，色度稳定一致性好。
图1为现有技术的结构示意图图2为本实用新型的结构示意图图2中反应炉1、坩埚中的粉体中心孔2、荧光粉3、底盘4、坩埚5、H2+N2的混合气体输入装置6。
具体实施方式
实施例见图2所示，一种荧光粉基料的装填装置，包括反应炉1、荧光粉3、底盘 4、坩埚5及H2+N2的混合气体输入装置6，底盘4及坩埚5都设于反应炉1内，坩埚5置于底盘4上，荧光粉3则装在坩埚5中；在坩埚5的粉体中心上打有一中心孔2。上述技术方案中，反应炉1的炉顶呈圆弧形。工作原理在已装入坩埚的粉体中心打一个可使粉壁尺寸合理的中心孔2，旁边加上热辐射，保证反应容器达到反应必须温度，通入h2+N2的混合气体，那样以保证高温受热均勻，气氛能充分进入荧光粉，以取得更好的发光效率。扩大荧光粉与气氛的接触面积， 提高还原性气氛渗透效果，以保证充分反应，保证荧光粉的发光效率。此方法取得的优点就是中心打孔后粉壁与坩埚底边和底部保持厚度相同，减少受热体的受热深度，烧结效果明显改善。还原性气氛，渗透效果良好。烧结效果和还原性气氛渗透充分，提高发光效率> 3 5%，色度稳定一致性好。达到提高荧光粉发光效率的效果。
权利要求1.一种荧光粉基料的装填装置，包括反应炉(1)、荧光粉(3)、底盘、坩埚(5)及 H2+N2的混合气体输入装置(6)，底盘(4)及坩埚(5)都设于反应炉(1)内，坩埚(5)置于底盘(4)上，荧光粉(3)则装在坩埚(5)中；其特征在于，在坩埚(5)的粉体中心上打有一中心孔(2)。
2.根据权利要求1所述的一种荧光粉基料的装填装置，其特征在于反应炉(1)的炉顶呈圆弧形。
专利摘要本实用新型公开了一种荧光粉基料的装填装置。包括反应炉、荧光粉、底盘、坩埚及H2+N2的混合气体输入装置，底盘及坩埚都设于反应炉内，坩埚置于底盘上，荧光粉则装在坩埚中；在坩埚的粉体中心上打有一中心孔。这是一种荧光粉基料的装填方法，该装置包括反应密封容器、本实用新型在已装入坩埚的粉体中心打一个可使粉壁尺寸合理的中心孔以保证高温受热均匀，气氛能充分进入荧光粉，以取得更好的发光效率。
文档编号C09K11/08GK202221229SQ20112023988
公开日2012年5月16日 申请日期2011年7月8日 优先权日2011年7月8日
发明者朱宝荣 申请人:浙江晶能荧光材料有限公司