水性金刚石抛光液及其制备方法
【专利摘要】本发明提供一种水性金刚石抛光液，由下列重量分数的组分组成：金刚石微粉：0.01%-10%；分散剂：0.2%-6%；悬浮剂：0.1%-3%；pH调节剂：0.1%-5%；杀菌剂：0.1%-0.5%；消泡剂：0.1%-0.5%；悬浮助剂：2%-50%；去离子水：40%-80%。本发明还提供一种上述水性金刚石抛光液的制备方法。
【专利说明】水性金刚石抛光液及其制备方法
【技术领域】
[0001] 本发明涉及一种研磨抛光加工用的抛光液，尤其涉及一种水性金刚石抛光液及其 制备方法。
【背景技术】
[0002] 抛光液是抛光技术中的关键要素，其性能直接影响抛光后的表面质量。金刚石微 粉广泛应用于机械、电子、冶金、建筑及国防等各个领域，是研磨抛光不锈钢、硬质合金、玻 璃、宝石、陶瓷、集成电路等高硬材料的理想磨料。金刚石微粉既可作散粒磨料使用，又可制 成油性或水性的抛光液、研磨膏、研磨片、砂纸等使用。随着精密加工的迅速发展，近年来金 刚石抛光液发展很快。与研磨膏相比，由于抛光液能迅速带走加工过程中所产生的热量及 研磨屑，因而更适宜于大规模工业化生产。与油性抛光液相比，水性金刚石抛光液由于环保 低毒、无腐蚀性、后处理简单等优势应用更为广泛。与硅溶胶等抛光液相比，金刚石抛光液 的抛光效率能提高几倍，表面粗糙度显着降低，因而常用于抛光多种难加工的硬脆材料，例 如多种晶体及硬盘磁头、微晶玻璃等工件。但是由于微米级金刚石微粉比重大而容易沉淀， 致使抛光液体系的稳定性较差，影响了抛光效果，这些问题限制了金刚石抛光液的应用。
【发明内容】
[0003] 有鉴于此，本发明提供一种稳定性好的水性金刚石抛光液。
[0004] 另外，本发明还提供一种上述水性金刚石抛光液的制备方法。
[0005] -种水性金刚石抛光液，由下列重量分数的组分组成：
【权利要求】
1. 一种水性金刚石抛光液，由下列重量分数的组分组成： 金刚石微粉 0.01%-10%; 分散剂 0.2%-6%; 悬浮剂 0.1%-3%; pH 调节剂 0.1%-5°/〇; 杀菌剂 0.1%-0.5%; 消泡剂 0.1%-0.5°/〇; 悬浮助剂 2%-50%; 去离子水 40%-80%。
2. 如权利要求1所述的水性金刚石抛光液，其特征在于：该金刚石微粉的粒径范围为 0· 5 μ m-100 μ m〇
3. 如权利要求1所述的水性金刚石抛光液，其特征在于：该分散剂选用聚乙烯醇、聚氧 乙烯醚、十二烷基苯磺酸钠、聚磷酸钠、六偏磷酸钠、丙烯酸共聚物、聚丙烯酰胺、聚丙烯酸 衍生物、聚乙烯吡咯烷酮中的一种或多种的混合物。
4. 如权利要求1所述的水性金刚石抛光液，其特征在于：所述悬浮剂选用羧甲基纤维 素、羧甲基纤维素钠、羟烷基纤维素、沉淀白炭黑、气相白炭黑、膨润土及其衍生物、有机粘 土、丙烯酸共聚物中的一种或几种的混合物。
5. 如权利要求1所述的水性金刚石抛光液，其特征在于：所述悬浮剂为硅酸镁铝或聚 丙烯酸。
6. 如权利要求1所述的水性金刚石抛光液，其特征在于：该pH调节剂选用氨水、二乙 醇胺、三乙醇胺、二羟乙基乙二胺、盐酸、硫酸、磷酸、硝酸、醋酸、氢氧化钠、氢氧化钾中的一 种或几种的混合物；抛光液的pH值在2-12范围内。
7. 如权利要求1所述的水性金刚石抛光液，其特征在于：该消泡剂选用有机硅化合物、 聚醚、改性聚醚中的一种或几种的混合物。
8. 如权利要求1所述的水性金刚石抛光液，其特征在于：所述悬浮助剂选用甲醇、乙 醇、乙二醇、丙二醇、丙三醇、聚乙二醇、乙二胺中的一种或几种的混合物。
9. 一种水性金刚石抛光液的制备方法，包括如下步骤： 将去离子水、分散剂、悬浮助剂、金刚石微粉混合后，分散成沉淀疏松的金刚石微粉溶 液，该分散方法采用机械搅拌、超声振荡及机械球磨中的一种或几种的配合，分散时间为 1-2小时； 将悬浮剂加入到所述金刚石微粉溶液中，继续分散得到悬浮稳定的水性金刚石抛光 液，该继续分散的方法采用机械搅拌、超声振荡及机械球磨中的一种或几种的配合，分散时 间为1-2小时； 加入杀菌剂、消泡剂和pH调节剂，调节水性金刚石抛光液的pH值为2-12。
10. 如权利要求9所述的水性金刚石抛光液的制备方法，其特征在于：所述悬浮剂为硅 酸镁铝或聚丙烯酸。
【文档编号】C09G1/02GK104293205SQ201310297761
【公开日】2015年1月21日 申请日期:2013年7月16日 优先权日:2013年7月16日
【发明者】张顾耀, 张莎, 唐传梅, 马洪列, 李荣得 申请人:鸿富锦精密工业（深圳）有限公司, 鸿海精密工业股份有限公司