光配向膜及其制备方法、液晶显示基板和装置制造方法
【专利摘要】本发明实施例提供了一种光配向膜及其制备方法、液晶显示基板和装置，属于液晶显示领域，以提高液晶显示装置的显示效果。所述光配向膜的制备方法，包括：在基板上涂覆光配向材料膜层；对涂覆的所述光配向材料膜层进行预固化；对预固化后的所述光配向材料膜层用线偏振光照射，以形成具有配向功能的光配向材料膜层；对所述具有配向功能的光配向材料膜层进行主固化，在所述具有配向功能的光配向材料膜层发生固化反应的同时清除所述固化反应生成的反应副产物，得到所述光配向膜。本发明可用于光配向膜的生产中。
【专利说明】 光配向膜及其制备方法、液晶显示基板和装置
【技术领域】
[0001]本发明涉及液晶显示领域，尤其涉及一种光配向膜及其制备方法、液晶显示基板和装置。
【背景技术】
[0002]薄膜晶体管液晶显不(ThinFilm Transistor Liquid Crystal Display,TFT-1XD)技术已经成为目前液晶显示的主流技术。在TFT-1XD的生产中，液晶分子的配向技术非常重要。目前在TFT IXD生产中最为广泛运用的配向技术是磨擦配向(Rubbingalignment)法,其可以提供液晶分子较强的配向能力,但在磨刷的过程中，利用摩擦布接触式的摩擦往往会产生静电和颗粒(particle)的污染,不但会造成液晶元件的损坏,还会带来各种各样的MURA等画质不良问题。
[0003]为了改善LCD的画面品质和良率，很多厂家在尝试使用光配向技术对液晶进行配向。图1为目前的光配向工艺流程图，步骤100为配向膜的涂覆工艺，步骤110为配向膜的固化和配向系统，即将步骤100之后的基板继续预固化工艺(步骤111)，在对配向膜的溶剂进行加热挥发后，进行主固化工艺(步骤112)，在彻底固化配向膜后，对预固化的基板进行偏振紫外光的照射(步骤113)，在对配向膜进行配向后，对配向后的配向膜进行2次固化(步骤114)，清除配向膜光反应后的杂质。
[0004]但是以上工艺技术中至少存在如下问题:在对配向膜进行主固化后，部分的反应副产物(尤其是分子量较大的副产物)不能通过加热挥发或转变的方式被去除，即在加热后仍可能有分解产物残存；而且，即使反应产物发生转变，也不能保证其最终的反应产物就对液晶分子的取向完全不产生任何影响。所以，在现有的光配向膜中仍可能会残存有影响液晶分子取向的杂质，从而导致液晶显示装置出现对比度低、漏光、残像等不良。
【发明内容】
[0005]本发明实施例提供了一种光配向膜及其制备方法、液晶显示基板和装置，以提高液晶显示装置的显示效果。
[0006]为达到上述目的，本发明的实施例采用如下技术方案:
[0007]本发明的一方面提供了一种光配向膜的制备方法，包括:
[0008]在基板上涂覆光配向材料膜层；
[0009]对涂覆的所述光配向材料膜层进行预固化；
[0010]对预固化后的所述光配向材料膜层用线偏振光照射，以形成具有配向功能的所述光配向材料膜层用线偏振光照射；
[0011]对所述具有配向功能的光配向材料膜层进行主固化，在所述具有配向功能的光配向材料膜层发生固化反应的同时清除所述固化反应生成的反应副产物，得到所述光配向膜。
[0012]可选的，在所述得到所述光配向膜之后，还包括
[0013]对所述光配向膜进行清洗，以进一步清除所述光配向膜中残留的反应副产物。
[0014]可选的，所述方法在所述形成具有配向功能的光配向材料膜层后进一步包括:
[0015]对所述具有配向功能的光配向材料膜层进行清洗，以清除在偏振光照射时形成的配向副产物；
[0016]对所述具有配向功能的光配向材料膜层进行主固化，在所述具有配向功能的光配向材料膜层发生固化反应的同时进一步清除所述固化反应生成的反应副产物。
[0017]可选的，所述光配向材料为由芳香族二胺与环丁烷四酸二酐及其衍生物反应生成的聚酰亚胺，其中，所述聚酰亚胺的重复单元具有如下结构:
[0018]
【权利要求】
1.一种光配向膜的制备方法，其特征在于，包括: 在基板上涂覆光配向材料膜层； 对涂覆的所述光配向材料膜层进行预固化； 对预固化后的所述光配向材料膜层用线偏振光照射，以形成具有配向功能的光配向材料膜层； 对所述具有配向功能的光配向材料膜层进行主固化，在所述具有配向功能的光配向材料膜层发生固化反应的同时清除所述固化反应生成的反应副产物，得到所述光配向膜。
2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，在所述得到所述光配向膜之后，还包括对所述光配向膜进行清洗，以进一步清除所述光配向膜中残留的反应副产物。
3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述方法在所述形成具有配向功能的光配向材料膜层后进一步包括: 对所述具有配向功能的光配向材料膜层进行清洗，以清除在偏振光照射时形成的配向副产物； 对所述具有配向功能的光配向材料膜层进行主固化，在所述具有配向功能的光配向材料膜层发生固化反应的同时进一步清除所述固化反应生成的反应副产物。
4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述光配向材料为由芳香族二胺与环丁烷四酸二酐及其衍生物反应生成的聚酰亚胺，其中，所述聚酰亚胺的重复单元具有如下结构:
其中，A为所述芳香族二胺中的芳香族基团，R5> R6> R7、R8均为甲基。
5.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于， 所述芳香族二胺选自通式(1)-(15)中的至少一种:
其中，1^、1?2、1?3、1?4独立的选自H、F、C1~C6烷基、Cl~C6烷氧基、乙烯基或乙炔基中的一种； 其中，所述乙烯基结构式为-(CH2)m-CH = CH2, m为O、I或2， 所述乙炔基结构式为-(CH2)n-CH = CH，η为0、1或2， 通式(4)中的X为选自-S-、-CO-、-NH-中任意一种的结合基。
6.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，所述环丁烷四酸二酐及其衍生物的通式(16)如下:
其中，R5、R6、R7、R8独立的选自H、F、Cl~C6烷基、Cl~C6烷氧基。
7.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述光配向膜包含光降解型配向膜、光异构型配向膜、光聚合型配向膜中的一种或多种。
8.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述进行预固化的步骤温度为50-120°C，时间为 0.5-10 分钟。
9.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述进行主固化的步骤温度为180-300°C，时间为5分钟-2小时。
10.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述线偏振光的波长选自254nm、313nm和365nm中的一种或几种的组合。
11.根据权利要求2或3所述的制备方法，其特征在于，所述清洗采用超声波清洗、大气压等离子清洗、浸泡清洗、喷淋清洗中的一种或多种清洗方法。
12.根据权利要求2或3所述的制备方法，其特征在于，所述清洗所使用的清洗剂包括臭氧水溶液、氟气水溶液、氯气水溶液、溴气水溶液、碘水溶液、过氧化氢、水、乙醇、异丙醇、乳酸乙酯、丙二醇甲醚醋酸酯中的一种或多种。
13.一种根据权利要求1-12任一项所述的光配向膜的制备方法制备得到的光配向膜。
14.一种液晶显示基板，其特征在于，包括根据权利要求1-12任一项所述的光配向膜的制备方法制备得到的光配向膜。
15.一种液晶显示装置，其特征在于，包括权利要求14所述的液晶显示基板。
【文档编号】C09K19/56GK104166274SQ201410351368
【公开日】2014年11月26日 申请日期:2014年7月22日 优先权日:2014年7月22日
【发明者】杨发禄 申请人:京东方科技集团股份有限公司, 成都京东方光电科技有限公司