真空喷涂限位架的制作方法

文档序号:3719366阅读:228来源:国知局
真空喷涂限位架的制作方法
【专利摘要】本实用新型公开了一种真空喷涂限位架,包括本体,所述的本体呈圆环状,所述本体包括限位圈和连接杆,所述的连接杆包括内圈连接杆和外圈连接杆,相邻的两个限位圈之间通过一根内圈连接杆和一根外圈连接杆连接,所述的内圈连接杆和外圈连接杆之间设有固定杆,所述的固定杆中部设有支撑底座固定孔。本实用新型用于真空喷涂设备底座上,结构简单牢固,可对喷涂设备的结构进行约束,使得结构布置更为合理,实现底座驱动固定柱和工件固定架分离,工作时无干扰,真空喷涂设备运行流畅。
【专利说明】真空喷涂限位架
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及一种喷涂设备领域,具体地说是一种真空喷涂限位架。
【背景技术】
[0002]现有的真空喷涂设备的限位架结构设计不合理,使得真空喷涂设备内部结构分布较为杂乱,工作时工件固定架和底座驱动固定柱相互之间会发生干扰,真空喷涂设备运行不流畅,影响生产效率。

【发明内容】

[0003]本实用新型的目的是提供一种真空喷涂限位架。
[0004]本实用新型要解决现有的真空喷涂设备的限位架结构设计不合理,工作时工件固定架和底座驱动固定柱相互之间会发生干扰,设备运行不流畅,影响生产效率的问题。
[0005]本实用新型的技术方案是:一种真空喷涂限位架,包括本体,所述的本体呈圆环状,所述本体包括限位圈和连接杆,所述的连接杆包括内圈连接杆和外圈连接杆,相邻的两个限位圈之间通过一根内圈连接杆和一根外圈连接杆连接,所述的内圈连接杆和外圈连接杆之间设有固定杆,所述的固定杆中部设有支撑底座固定孔。
[0006]本实用新型的有益效果为:本实用新型用于真空喷涂设备底座上,结构简单牢固,可对喷涂设备的结构进行约束,使得结构布置更为合理,实现底座驱动固定柱和工件固定架分离,工作时无干扰,真空喷涂设备运行流畅。
【专利附图】

【附图说明】
[0007]图1是本实用新型的结构示意图。
[0008]图2是本实用新型的立体结构示意图。
【具体实施方式】
[0009]下面结合附图及实施例对本实用新型作进一步说明。
[0010]如图所示,它包括本体,所述的本体呈圆环状,所述本体包括限位圈I和连接杆,所述的连接杆包括内圈连接杆4和外圈连接杆2,相邻的两个限位圈I之间通过一根内圈连接杆4和一根外圈连接杆2连接,所述的内圈连接杆4和外圈连接杆2之间设有固定杆5,所述的固定杆5中部设有支撑底座固定孔3。
【权利要求】
1.一种真空喷涂限位架,包括本体,其特征在于所述的本体呈圆环状,所述本体包括限位圈和连接杆,所述的连接杆包括内圈连接杆和外圈连接杆,相邻的两个限位圈之间通过一根内圈连接杆和一根外圈连接杆连接,所述的内圈连接杆和外圈连接杆之间设有固定杆,所述的固定杆中部设有支撑底座固定孔。
【文档编号】B05B13/02GK203711284SQ201420054331
【公开日】2014年7月16日 申请日期:2014年1月28日 优先权日:2014年1月28日
【发明者】沈忠林 申请人:嘉兴超纳金真空镀膜科技有限公司
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