1.一种研磨组合物，含有以下(A)～(E)成分，
(A)成分：选自金刚石、氮化硼、碳化硼和碳化硅中的1种以上的磨粒，
(B)成分：碳原子数为10以上22以下的脂肪酸，
(C)成分：非离子性表面活性剂，
(D)成分：有机胺化合物，
(E)成分：分散介质，
(A)成分的磨粒的平均粒径大于1.0μm且为10.0μm以下，(C)成分的含量为0.30～10质量％，(D)成分相对于(B)成分的摩尔比(D)/(B)为45/55～90/10。
2.如权利要求1所述的研磨组合物，(A)成分的含量为0.03～3.0质量％，(B)成分的含量为0.10～10质量％，(D)成分的含量为1.0～20质量％，并且，(E)成分的含量为60～98质量％。
3.如权利要求1或2所述的研磨组合物，所述磨粒是金刚石。
4.如权利要求1或2所述的研磨组合物，所述脂肪酸是选自月桂酸和油酸中的1种以上。
5.如权利要求1或2所述的研磨组合物，所述非离子性表面活性剂是选自聚醚胺和失水山梨糖醇酯－环氧乙烷加成物中的1种以上。
6.如权利要求1或2所述的研磨组合物，所述非离子性表面活性剂是选自聚氧乙烯月桂基胺、聚氧乙烯牛脂烷基胺、聚氧乙烯失水山梨糖醇单月桂酸酯和聚氧乙烯失水山梨糖醇单油酸酯中的1种以上。
7.如权利要求1或2所述的研磨组合物，所述有机胺化合物是烷醇胺。
8.如权利要求1或2所述的研磨组合物，所述有机胺化合物是三乙醇胺。
9.如权利要求1或2所述的研磨组合物，所述分散介质含有选自乙二醇、二甘醇和丙二醇中的1种以上。
10.如权利要求1或2所述的研磨组合物，所述分散介质为水溶性有机溶剂与水的混合物，水溶性有机溶剂相对于水的质量比，即水溶性有机溶剂/水为30/70～95/5。
11.如权利要求1或2所述的研磨组合物，所述分散介质为选自乙二醇、二甘醇和丙二醇中的1种以上与水的混合物。
12.一种研磨方法，将由选自蓝宝石、碳化硅、氮化镓、氮化铝中的1种以上的材料构成的基板使用权利要求1～11的任一项所述的研磨组合物进行研磨。
13.如权利要求12所述的研磨方法，所述基板是由蓝宝石构成的发光二极管用基板。