一种封闭结构的精密研磨抛光机的制作方法
【专利摘要】本实用新型提供一种封闭结构的精密研磨抛光机，包括机台、悬臂控制箱以及电箱，所述机台外部设有壳体，所述电箱安装在所述壳体的一侧，所述机台顶端设有与壳体连接的封板，所述悬臂控制箱的悬臂端安装在所述封板上，所述封板上固设有盖板，所述盖板上开设有可连接排气管的排气口。本实用新型封闭结构的精密研磨抛光机对晶片研磨抛光过程中，使用的研磨抛光液分解散发出的气味经排气口通过排气管由排气设备排放至外部，给工作人员创造良好地工作环境。
【专利说明】
一种封闭结构的精密研磨抛光机
技术领域
[0001 ]本实用新型涉及一种封闭结构的精密研磨抛光机。
【背景技术】
[0002]研磨抛光机在晶片加工行业中应用比较广泛，主要用于晶片的铜抛光与CMP抛光，属于高精密加工，产品尺寸的精度要求较高。目前研磨机在晶片的研磨抛光等精加工过程中所使用的研磨抛光液，在加工过程中分解散发出比较刺激的气味，给操作人员在工作上带来诸多不便。
【发明内容】
[0003]鉴于以上所述，本实用新型有必要提供一种晶片在研磨抛光过程中研磨抛光液产生的气体排放出去的封闭结构的精密研磨抛光机。
[0004]本实用新型提供的技术方案如下:一种封闭结构的精密研磨抛光机，包括机台、悬臂控制箱以及电箱，所述机台外部设有壳体，所述电箱安装在所述壳体的一侧，所述机台顶端设有与壳体连接的封板，所述悬臂控制箱的悬臂端安装在所述封板上，所述封板上固设有盖板，所述盖板上开设有可连接排气管的排气口。
[0005]进一步的，所述壳体包括的上壳体和下壳体，所述上壳体两侧分别开设有第一观察窗口，第一观察窗口上安装有第一门板，所述上壳体的一端开设有第二观察窗口，第二观察窗口上安装有第二门板，所述第一门板通过第一滑轨固定在上壳体上，所述第二门板通过第二滑轨固定在上壳体上。
[0006]进一步的，所述电箱安装在上壳体上相对于第二门板的一端。
[0007]与现有技术相比，本实用新型封闭结构的精密研磨抛光机对晶片研磨抛光过程中，使用的研磨抛光液分解散发出的气味经排气口通过排气管由排气设备排放至外部，给工作人员创造良好地工作环境。
【附图说明】
[0008]图1是本实用新型封闭结构的精密研磨抛光机的主视图；
[0009]图2是本实用新型封闭结构的精密研磨抛光机的左视图；
[0010]图3是本实用新型封闭结构的精密研磨抛光机的右视图；
[0011 ]图4是本实用新型封闭结构的精密研磨抛光机的俯视图。
【具体实施方式】
[0012]下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例，在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互组合，下面将参考附图并结合实施例来详细说明本实用新型。
[0013]请参阅图1、图2，一种封闭结构的精密研磨抛光机，包括机台、悬臂控制箱10以及电箱20。
[0014]机台对晶片研磨抛光。
[0015]悬臂控制箱10用以控制机台的工作状态。
[0016]电箱20与机台连接。
[0017]所述机台外部设有壳体30，壳体30包括的上壳体31和下壳体32。结合参阅图2、图3，上壳体31两侧(图示左右两侧)分别开设有第一观察窗口，第一观察窗口上安装有第一门板311。请再次参阅图1，上壳体31的一端(图示前端)开设有第二观察窗口，第二观察窗口上安装有第二门板312。第一门板311通过第一滑轨(图未示)固定在上壳体31上，第一门板311在第一滑轨的行程内左右滑动，第二门板312通过第二滑轨(图未示)固定在上壳体31上，并由气缸控制第二门板312在有效行程内上下运动。通过第一门板311与第二门板312便于在机台上取放晶片。
[0018]电箱20安装在壳体30的一侧，具体地，电箱20安装在上壳体31上相对于第二门板312的一端，电箱20在上壳体31的后方独立悬挂，以使电气部分从设备中独立出来，提高电气安全等级。
[0019]请参阅图4，所述机台顶端设有与壳体30连接的封板40，悬臂控制箱10的悬臂端安装在封板40上，控制箱面板置于壳体30的一侧，便于操作。
[0020]封板40上固设有盖板50，盖板50上开设有可连接排气管的排气口51。以便于在排气口 51处连接排气管的一端，并使排气管的另一端接入至排气设备，工作时，研磨抛光液分解散发出的气味经排气口 51通过排气管由排气设备排放至外部。
[0021]晶片研磨抛光时，工作人员把晶片置放在机台上，并将第一门板311与第二门板312关闭，使机台外部形成封闭结构，通过操作悬臂控制箱10的控制箱面板，控制机台对晶片研磨抛光，此加工过程中研磨抛光液分解散发出的气味经排气口 51通过排气管由排气设备排放至外部，给工作人员创造良好地工作环境。
[0022]综上所述，本实用新型封闭结构的精密研磨抛光机对晶片研磨抛光过程中，使用的研磨抛光液分解散发出的气味经排气口通过排气管由排气设备排放至外部，给工作人员创造良好地工作环境。
[0023]以上所述仅为本实用新型的实施例，并非因此限制本实用新型的专利范围，凡是利用本实用新型说明书内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本实用新型的专利保护范围内。
【主权项】
1.一种封闭结构的精密研磨抛光机，包括机台、悬臂控制箱(10)以及电箱(20)，其特征在于:所述机台外部设有壳体(30)，所述电箱(20)安装在所述壳体(30)的一侧，所述机台顶端设有与壳体(30)连接的封板(40)，所述悬臂控制箱(10)的悬臂端安装在所述封板(40)上，所述封板(40)上固设有盖板(50)，所述盖板(50)上开设有可连接排气管的排气口(51)。2.根据权利要求1所述的封闭结构的精密研磨抛光机，其特征在于:所述壳体(30)包括的上壳体(31)和下壳体(32)，所述上壳体(31)两侧分别开设有第一观察窗口，第一观察窗口上安装有第一门板(311)，所述上壳体(31)的一端开设有第二观察窗口，第二观察窗口上安装有第二门板(312)，所述第一门板(311)通过第一滑轨固定在上壳体(31)上，所述第二门板(312)通过第二滑轨固定在上壳体(31)上。3.根据权利要求2所述的封闭结构的精密研磨抛光机，其特征在于:所述电箱(20)安装在上壳体(31)上相对于第二门板(312)的一端。
【文档编号】B24B37/34GK205438163SQ201620163116
【公开日】2016年8月10日
【申请日】2016年3月3日
【发明人】洪志清
【申请人】东莞金研精密研磨机械制造有限公司