粘合剂组合物、表面保护薄膜、以及光学薄膜的制作方法

本发明涉及粘合剂组合物、表面保护薄膜、以及光学薄膜。

本发明的反射型偏光薄膜用粘合剂组合物可以用于为了保护液晶显示器等中使用的反射型偏光薄膜的表面而使用的反射型偏光薄膜用的表面保护薄膜，是有用的。

背景技术：

近年来，在光学部件/电子部件的输送、向印刷基板的安装时，将各个部件在用规定的片包装的状态、贴附有粘合带的状态下进行运输。其中，表面保护薄膜被广泛用于特别是光学/电子部件的领域。

表面保护薄膜通常借助涂布于基材薄膜侧的粘合剂层而粘贴于被保护体，用于防止被保护体的加工、搬运时产生的划痕、污垢(专利文献1)。例如，液晶显示器的面板通过在液晶单元上借助粘合剂层来粘贴偏光薄膜、反射型偏光薄膜(例如，增亮薄膜)等光学薄膜而形成。这些光学薄膜中，借助粘合剂层粘贴有表面保护薄膜，防止了在被保护体的加工、搬运时产生的划痕、污垢。

特别是近年来，光学薄膜的一体化推进，反射型偏光薄膜有时在借助粘合剂层、粘接剂层而与偏振片、偏光薄膜等光学薄膜成为一体的状态下粘贴于液晶显示器的面板来利用。

反射型偏光薄膜(例如，增亮薄膜)为具有透过与其反射轴方向正交的偏振光、且反射与其反射轴方向平行的偏振光的功能的光学薄膜，使用将由折射率各向异性不同的材料形成的薄膜交替层叠而制成多层结构的薄膜。

除了直至将反射型偏光薄膜与偏光薄膜一体化为止的期间之外，在将带反射型偏光薄膜的偏光薄膜用于面板时，在反射型偏光薄膜的表面借助粘合剂层粘贴表面保护薄膜，但在之后不需要表面保护薄膜的阶段从反射型偏光薄膜剥离时会带静电，在用于面板时产生了如下问题：发生面板的白化现象，引起检查效率的降低。特别是在反射型偏光薄膜形成了多层结构的情况下，容易带电，成为问题。

近年来，在构成表面保护薄膜的粘合剂层中使用作为抗静电剂的碱金属盐等来实现防剥离带电性的提高，例如实施了用于在从偏光薄膜剥离表面保护薄膜时抑制面板的白化现象的尝试。但现状是，即使在能对偏光薄膜赋予了防剥离带电性的情况下，对于由容易带电的多层结构形成的反射型偏光薄膜，也无法防止面板的白化现象。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2017-203167号公报

技术实现要素：

发明要解决的问题

因此，迫切期望开发不仅能保护偏光薄膜的表面、还能保护由多层结构形成的反射型偏光薄膜的表面的表面保护薄膜。

于是，本发明的目的在于，为了解决针对现有反射型偏光薄膜的问题，提供反射型偏光薄膜用的粘合剂组合物，其能够用于对反射型偏光薄膜的防剥离带电性优异的、反射型偏光薄膜用途的表面保护薄膜。

用于解决问题的方案

即，本发明的反射型偏光薄膜用粘合剂组合物的特征在于，含有在室温(25℃)下呈液态且粘度(25℃)为550mpa·s以下的离子性化合物、以及粘合性聚合物。

本发明的反射型偏光薄膜用粘合剂组合物优选的是，前述粘合性聚合物为选自由(甲基)丙烯酸类聚合物、氨基甲酸酯系聚合物和有机硅系聚合物组成的组中的至少1种。

本发明的反射型偏光薄膜用粘合剂组合物优选含有有机硅成分。

本发明的反射型偏光薄膜用表面保护薄膜优选在基材薄膜的至少单面具有由前述反射型偏光薄膜用粘合剂组合物形成的粘合剂层。

本发明的光学薄膜优选具有前述反射型偏光薄膜用表面保护薄膜、以及反射型偏光薄膜。

发明的效果

本发明能够提供能用于对反射型偏光薄膜的防剥离带电性优异的、专用于反射型偏光薄膜用途的表面保护薄膜中的反射型偏光薄膜用粘合剂组合物，是有用的。

附图说明

图1为示出本发明的实施方式的贴附有表面保护薄膜的带反射型偏光薄膜的偏光薄膜的截面示意图。

图2为实施例等中用于测定剥离带电电压的电位测定部的概要构成图。

附图标记说明

1表面保护薄膜

2带反射型偏光薄膜的偏光薄膜

2’偏光薄膜

3固定台

4电位测定器

10抗静电层

20基材薄膜

30粘合剂层

40反射型偏光薄膜

50粘接剂层

60偏振片

70导电性粘合剂层(b)

具体实施方式

以下，详细说明本发明的实施方式。

＜表面保护薄膜的整体结构＞

此处公开的表面保护薄膜通常为被称为粘合片、粘合带、粘合标签、粘合薄膜等的形态，特别适宜作为在反射型偏光薄膜的加工时、搬运时保护反射型偏光薄膜表面的表面保护薄膜。前述表面保护薄膜中的粘合剂层代表性的是连续形成，但不限定于该形态，例如可以是形成为点状、条纹状等有规则的或无规的图案的粘合剂层。另外，此处公开的表面保护薄膜可以为卷状，也可以为片状。

＜基材薄膜＞

本发明的反射型偏光薄膜用表面保护薄膜(以下有时简称为“表面保护薄膜”。)优选具有基材薄膜。此处公开的技术中，构成基材薄膜的树脂材料可以没有特别限制地使用，例如优选使用透明性、机械强度、热稳定性、水分遮蔽性、各向同性、挠性、尺寸稳定性等特性优异的材料。特别是通过基材薄膜具有挠性，从而能够利用辊涂机等来涂布粘合剂组合物，能够卷取成卷状，是有用的。

作为前述基材薄膜，例如可以优选地使用由以聚对苯二甲酸乙二醇酯(pet)、聚萘二甲酸乙二醇酯(pen)、聚对苯二甲酸丁二醇酯等聚酯系聚合物；二醋酸纤维素、三醋酸纤维素等纤维素系聚合物；聚碳酸酯系聚合物；聚甲基丙烯酸甲酯等丙烯酸类聚合物；环烯烃系聚合物等作为主要树脂成分(树脂成分中的主成分、代表性地为占50重量％以上的成分)的树脂材料形成的塑料薄膜作为前述基材薄膜。作为前述树脂材料的其它例子，可列举出以聚苯乙烯、丙烯腈-苯乙烯共聚物等苯乙烯系聚合物；聚乙烯、聚丙烯、具有环状和/或降冰片烯结构的聚烯烃、乙烯-丙烯共聚物等烯烃系聚合物；氯乙烯系聚合物；尼龙6、尼龙6,6、芳香族聚酰胺等酰胺系聚合物；等作为树脂材料的物质。作为前述树脂材料的另外的例子，可列举出酰亚胺系聚合物、砜系聚合物、聚醚砜系聚合物、聚醚醚酮系聚合物、聚苯硫醚系聚合物、乙烯醇系聚合物、偏二氯乙烯系聚合物、乙烯醇缩丁醛系聚合物、芳基化物系聚合物、聚氧亚甲基系聚合物、环氧系聚合物等。也可以为由上述聚合物的2种以上的共混物形成的基材薄膜。

作为前述基材薄膜，可以优选地采用由透明的热塑性树脂材料形成的塑料薄膜。前述塑料薄膜中，使用聚酯薄膜是更优选的方式。此处，聚酯薄膜是指，以聚对苯二甲酸乙二醇酯(pet)、聚萘二甲酸乙二醇酯(pen)、聚对苯二甲酸丁二醇酯等具有以酯键为基本的主骨架的聚合物材料(聚酯树脂)作为主要树脂成分的薄膜。上述聚酯薄膜具有光学特性、尺寸稳定性优异等作为表面保护薄膜的基材薄膜而优选的特性，另一方面，具有其原样状态下容易带电的性质。

构成前述基材薄膜的树脂材料中，根据需要也可以配混有抗氧化剂、紫外线吸收剂、增塑剂、着色剂(颜料、染料等)等各种添加剂。例如，也可以实施电晕放电处理、等离子体处理、紫外线照射处理、酸处理、碱处理、底涂剂的涂布等公知或惯用的表面处理。这种表面处理例如可以为用于提高基材薄膜与粘合剂层的密合性(粘合剂层的锚固性)的处理。

本发明的表面保护薄膜也可以使用实施过抗静电处理的塑料薄膜作为前述基材薄膜。通过使用前述基材薄膜，剥离时的表面保护薄膜自身的带电被抑制，故而优选。另外，基材薄膜为塑料薄膜，通过对前述塑料薄膜实施抗静电处理，能够得到减少了表面保护薄膜自身的带电、且对被粘物(反射型偏光薄膜)的抗静电能力优异的表面保护薄膜。需要说明的是，作为赋予抗静电功能的方法，没有特别限制，可以使用现有公知的方法，例如可列举出：涂布由抗静电剂和树脂成分形成的抗静电性树脂、导电性聚合物、含有导电性物质的导电性树脂的方法；蒸镀或镀覆导电性物质的方法；另外，掺入抗静电剂等的方法；形成抗静电层的方法等。

作为前述基材薄膜的厚度，通常为5～200μm、优选为10～100μm左右。前述基材薄膜的厚度处于前述范围内时，向被粘物(反射型偏光薄膜)上粘贴的粘贴操作性和从被粘物剥离的剥离操作性优异，故而优选。

此处公开的表面保护薄膜也可以以除了基材薄膜和粘合剂层之外还包含抗静电层、进而其它层的方式来实施。作为前述其它层，可列举出提高抗静电层、粘合剂层的锚固性的底涂层(锚固层)等。

＜粘合剂组合物＞

本发明的反射型偏光薄膜用粘合剂组合物的特征在于，含有在室温(25℃)下呈液态且粘度(25℃)为550mpa·s以下的离子性化合物、以及粘合性聚合物。通过使用前述离子性化合物，从而与偏光薄膜等光学薄膜相比，在贴附于由容易带电的多层结构形成的反射型偏光薄膜后，即使在剥离后，防剥离带电性也优异，是优选的方式。

本发明的粘合剂组合物只要含有具有粘合性的粘合性聚合物，就可以没有特别限制地使用，可以由前述粘合剂组合物形成粘合剂层。作为前述粘合剂组合物，例如也可以使用丙烯酸类粘合剂、氨基甲酸酯系粘合剂、合成橡胶系粘合剂、天然橡胶系粘合剂、有机硅系粘合剂等，其中，更优选前述粘合性聚合物为选自由(甲基)丙烯酸类聚合物、氨基甲酸酯系聚合物和有机硅系聚合物组成的组中的至少1种，进一步优选使用(含有)选自由含有(甲基)丙烯酸类聚合物的丙烯酸类粘合剂、含有氨基甲酸酯系聚合物的氨基甲酸酯系粘合剂、以及含有有机硅系聚合物的有机硅系粘合剂组成的组中的至少1种，特别优选使用丙烯酸类粘合剂，该丙烯酸类粘合剂采用作为前述粘合性聚合物的(甲基)丙烯酸类聚合物。

前述粘合剂层使用丙烯酸类粘合剂的情况下，构成前述丙烯酸类粘合剂的粘合性聚合物即(甲基)丙烯酸类聚合物中，作为构成其的原料单体，可以使用具有碳数1～14的烷基的(甲基)丙烯酸类单体作为主单体。作为前述(甲基)丙烯酸类单体，可以使用1种或2种以上。通过使用前述具有碳数为1～14的烷基的(甲基)丙烯酸类单体，容易将对被粘物(反射型偏光薄膜)的剥离力(粘合力)控制得较低，能得到轻剥离性(再剥离性)优异的表面保护薄膜。

需要说明的是，本发明中的(甲基)丙烯酸类聚合物是指，丙烯酸类聚合物和/或甲基丙烯酸类聚合物，另外，(甲基)丙烯酸酯是指，丙烯酸酯和/或甲基丙烯酸酯。另外，作为前述(甲基)丙烯酸类单体，可以使用1种或2种以上作为主成分。

作为前述具有碳数1～14的烷基的(甲基)丙烯酸类单体的具体例，例如可列举出(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸仲丁酯、(甲基)丙烯酸叔丁酯、(甲基)丙烯酸异丁酯、(甲基)丙烯酸己酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸正辛酯、(甲基)丙烯酸异辛酯、(甲基)丙烯酸正壬酯、(甲基)丙烯酸异壬酯、(甲基)丙烯酸正癸酯、(甲基)丙烯酸异癸酯、(甲基)丙烯酸正十二烷基酯、(甲基)丙烯酸正十三烷基酯、(甲基)丙烯酸正十四烷基酯等。

其中，前述表面保护薄膜中，可列举出(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸己酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸正辛酯、(甲基)丙烯酸异辛酯、(甲基)丙烯酸正壬酯、(甲基)丙烯酸异壬酯、(甲基)丙烯酸正癸酯、(甲基)丙烯酸异癸酯、(甲基)丙烯酸正十二烷基酯、(甲基)丙烯酸正十三烷基酯、(甲基)丙烯酸正十四烷基酯等具有碳数4～14的烷基的(甲基)丙烯酸类单体作为适宜的单体。特别是通过使用具有碳数4～14的烷基的(甲基)丙烯酸类单体，容易将对被粘物(反射型偏光薄膜)的剥离力(粘合力)控制得较低，轻剥离性(再剥离性)变得优异。

特别是相对于构成前述(甲基)丙烯酸类聚合物的单体成分总量100重量％，优选含有70重量％以上的具有碳数1～14的烷基的(甲基)丙烯酸类单体、更优选为80重量％以上，进一步优选为85～99重量％、特别优选为88～98重量％。不足70重量％时，粘合剂组合物的适度的润湿性、粘合剂层的内聚力变差，不优选。

另外，前述(甲基)丙烯酸类聚合物优选含有含羟基的(甲基)丙烯酸类单体作为单体成分。作为前述含羟基的(甲基)丙烯酸类单体，可以使用1种或2种以上。通过使用前述含羟基的(甲基)丙烯酸类单体，容易控制粘合剂组合物的交联等，从而容易控制基于流动的润湿性的改善与剥离时的剥离力(粘合力)的降低之间的平衡。

作为前述含羟基的(甲基)丙烯酸类单体，例如可列举出(甲基)丙烯酸2-羟基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羟基丙酯、(甲基)丙烯酸4-羟基丁酯、(甲基)丙烯酸6-羟基己酯、(甲基)丙烯酸8-羟基辛酯、(甲基)丙烯酸10-羟基癸酯、(甲基)丙烯酸12-羟基月桂酯、丙烯酸(4-羟基甲基环己基)甲酯、n-羟甲基(甲基)丙烯酰胺等。特别是通过使用烷基的碳数为4以上的含羟基的(甲基)丙烯酸类单体，高速剥离时的轻剥离化变得容易，是优选的。

相对于构成前述(甲基)丙烯酸类聚合物的单体成分总量100重量％，优选含有20重量％以下的前述含羟基的(甲基)丙烯酸类单体、更优选为18重量％以下、进一步优选为0.1～16重量％、特别优选为1～14重量％。处于前述范围内时，容易控制粘合剂组合物的润湿性与所得粘合剂层的内聚力之间的平衡，故而优选。

另外，作为其它聚合性单体成分，从容易取得粘合性能的平衡的理由出发，可以在不损害本发明的效果的范围内使用用于使tg为0℃以下(通常-100℃以上)、调整(甲基)丙烯酸类聚合物的玻璃化转变温度和/或剥离性的聚合性单体等。

作为前述(甲基)丙烯酸类聚合物中可使用的除了前述具有碳数1～14的烷基的(甲基)丙烯酸类单体和前述含羟基的(甲基)丙烯酸类单体之外的其它聚合性单体，可以使用含羧基的(甲基)丙烯酸类单体。通过使用前述含羧基的(甲基)丙烯酸类单体，能抑制表面保护薄膜(粘合剂层)的粘合力经时上升，轻剥离性(再剥离性)、粘合力上升防止性和操作性优异，另外，与粘合剂层的内聚力一起，剪切力也优异，是优选的。

作为前述含羧基的(甲基)丙烯酸类单体，例如可列举出(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸羧基乙酯、(甲基)丙烯酸羧基戊酯等。

相对于构成前述(甲基)丙烯酸类聚合物的单体成分总量100重量％，前述含羧基的(甲基)丙烯酸类单体优选为0～3重量％、更优选为0.001～2重量％、进一步优选为0.005～1重量％、特别优选为0.001～0.5重量％。处于前述范围内时，容易控制粘合剂组合物的润湿性与所得粘合剂层的内聚力之间的平衡，故而优选。

进而，作为其它聚合性单体，只要在不损害本发明的特性的范围内，则可以无特别限定地使用。例如，可以适宜使用含氰基单体、乙烯基酯单体、芳香族乙烯基单体等提高内聚力/耐热性的成分、含酰胺基单体、含酰亚胺基单体、含氨基单体、含环氧基单体、n-丙烯酰吗啉、乙烯基醚单体等提高剥离力(粘合力)、具有作为交联化基点发挥作用的官能团的成分。其中，优选使用含氰基单体、含酰胺基单体、含酰亚胺基单体、含氨基单体和n-丙烯酰吗啉等含氮单体。这些聚合性单体可以使用1种或2种以上。

作为前述含氰基单体，例如可列举出丙烯腈、甲基丙烯腈。

作为前述含酰胺基单体，例如可列举出丙烯酰胺、甲基丙烯酰胺、二乙基丙烯酰胺、n-乙烯基吡咯烷酮、n,n-二甲基丙烯酰胺、n,n-二甲基甲基丙烯酰胺、n,n-二乙基丙烯酰胺、n,n-二乙基甲基丙烯酰胺、n,n’-亚甲基双丙烯酰胺、n,n-二甲基氨基丙基丙烯酰胺、n,n-二甲基氨基丙基甲基丙烯酰胺、双丙酮丙烯酰胺等。

作为前述含酰亚胺基单体，例如可列举出环己基马来酰亚胺、异丙基马来酰亚胺、n-环己基马来酰亚胺、衣康酰亚胺等。

作为前述含氨基单体，例如可列举出(甲基)丙烯酸氨基乙酯、(甲基)丙烯酸n,n-二甲基氨基乙酯、(甲基)丙烯酸n,n-二甲基氨基丙酯等。

作为前述乙烯基酯单体，例如可列举出乙酸乙烯酯、丙酸乙烯酯、月桂酸乙烯酯等。

作为前述芳香族乙烯基单体，例如可列举出苯乙烯、氯苯乙烯、氯甲基苯乙烯、α-甲基苯乙烯、其它的取代苯乙烯等。

作为前述含环氧基单体，例如可列举出(甲基)丙烯酸缩水甘油酯、(甲基)丙烯酸甲基缩水甘油酯、烯丙基缩水甘油醚等。

作为前述乙烯基醚单体，例如可列举出甲基乙烯基醚、乙基乙烯基醚、异丁基乙烯基醚等。

前述其它聚合性单体相对于构成前述(甲基)丙烯酸类聚合物的单体成分总量100重量％优选为0～30重量％、更优选为0～20重量％。前述其它聚合性单体可以为了得到期望的特性而适宜调节。

另外，前述(甲基)丙烯酸类聚合物也可以进一步含有含环氧烷基的反应性单体作为单体成分。

前述(甲基)丙烯酸类聚合物的重均分子量(mw)优选为10万～200万、更优选为20万～100万、进一步优选为30万～80万、特别优选为30万～70万。重均分子量小于10万的情况下，粘合剂层的内聚力变小，从而有产生残胶的倾向。另一方面，重均分子量超过200万的情况下，聚合物的流动性降低，对被粘物(反射型偏光薄膜)的润湿不充分，有成为在被粘物与表面保护薄膜的粘合剂层之间发生鼓起的原因的倾向。需要说明的是，重均分子量是指通过gpc(凝胶渗透色谱法)而测定得到的值。

另外，前述(甲基)丙烯酸类聚合物的玻璃化转变温度(tg)优选为0℃以下、更优选为-20℃以下、进一步优选为-40℃以下、特别优选为-50℃以下(通常-100℃以上)。玻璃化转变温度高于0℃的情况下，聚合物难以流动，例如，对被粘物(反射型偏光薄膜)的润湿不充分，有成为在被粘物与表面保护薄膜的粘合剂层之间发生鼓起的原因的倾向。其中特别是通过使玻璃化转变温度为-60℃以下，容易得到对被粘物的润湿性和轻剥离性(再剥离性)优异的粘合剂层。需要说明的是，(甲基)丙烯酸类聚合物的玻璃化转变温度可以通过适宜改变所使用的单体成分、组成比来调整至前述范围内。

前述(甲基)丙烯酸类聚合物的聚合方法没有特别限制，可以通过溶液聚合、乳液聚合、本体聚合、悬浮聚合等公知的方法来聚合，特别是从操作性的观点、对被粘物(反射型偏光薄膜)的低污染性等特性方面出发，溶液聚合为更优选的方式。另外，所得的聚合物可以为无规共聚物、嵌段共聚物、交替共聚物、接枝共聚物等中任一者。

前述粘合剂层中使用氨基甲酸酯系粘合剂的情况下，可以采用任意的适当的氨基甲酸酯系粘合剂。作为这种氨基甲酸酯系粘合剂，优选可列举出包含使多元醇与多异氰酸酯化合物反应而得到的粘合性聚合物即氨基甲酸酯系聚合物的粘合剂。作为多元醇，例如可列举出聚醚多元醇、聚酯多元醇、聚碳酸酯多元醇、聚己内酯多元醇等。作为多异氰酸酯化合物，例如可列举出二苯基甲烷二异氰酸酯、甲苯二异氰酸酯、六亚甲基二异氰酸酯等。

前述粘合剂层中使用有机硅系粘合剂的情况下，可以采用任意的适当的有机硅系粘合剂。作为这种有机硅系粘合剂，优选可采用通过将作为粘合性聚合物的有机硅系聚合物共混或聚集而得到的粘合剂。

另外，作为前述有机硅系粘合剂，可列举出加成反应固化型有机硅系粘合剂、过氧化物固化型有机硅系粘合剂。这些有机硅系粘合剂之中，从不使用过氧化物(过氧化苯甲酰等)，不产生分解物的方面出发，优选加成反应固化型有机硅系粘合剂。

作为前述加成反应固化型有机硅系粘合剂的固化反应，例如得到聚烷基有机硅系粘合剂的情况下，通常可列举出利用铂催化剂使聚烷基氢硅氧烷组合物固化的方法。

＜离子性化合物＞

前述粘合剂组合物的特征在于，含有在室温(25℃)下呈液态且粘度(25℃)为550mpa·s以下的离子性化合物。前述离子化合物为所谓的离子液体，其是指在室温(25℃)下呈液态的熔盐。通过含有前述离子性化合物，能够赋予优异的抗静电性、防剥离带电性。通过使用前述离子性化合物而得到优异的抗静电特性的理由的详细情况尚不明确，但可以认为，由于在室温(25℃)下呈液态，因此与在室温下为固体的抗静电剂相比，向粘合剂(粘合剂组合物)中的添加以及分散或溶解容易进行，能得到优异的抗静电能力。特别是在谋求对被粘物(反射型偏光薄膜)的抗静电时，可以认为，通过离子性化合物极微量转印至被粘物，实现了被粘物的优异的防剥离带电性。

作为前述离子化合物，25℃(室温)下的粘度为550mpa·s以下、优选为500mpa·s以下、更优选为450mpa·s以下、进一步优选为10～400mpa·s、特别优选为15～250mpa·s。离子性化合物的25℃下的粘度为前述范围内时，有离子性化合物的电导率(导电率)变高的倾向，能够快速释放所产生的剥离带电电压，另外，离子性化合物的流动性高，在粘合剂层中的分散也良好，在与被粘物(反射型偏光薄膜)接触的粘合剂层表面，离子性化合物容易移动，能够防止高维的剥离带电，是优选的方式。需要说明的是，关于本发明中的粘度的测定，为使用粘度计(东机产业株式会社制、re-85u)，在25℃下测定的值。锥形转子使用1°34’×r24，旋转速度设为12rpm来进行测定。

作为前述离子化合物的电导率(25℃)，优选为0～20ms/cm、更优选为0.01～18ms/cm、进一步优选为0.1～16ms/cm。离子性化合物的25℃下的电导率(导电率)为前述范围内时，能够快速释放所产生的剥离带电电压，对于多层结构且容易带电的被粘物(反射型偏光薄膜)，也能够发挥优异的防剥离带电性，是优选的方式。

作为前述离子化合物，只要在室温(25℃)下呈液态、且粘度(25℃)为550mpa·s以下即可，例如优选使用由阳离子成分(有机阳离子成分)和阴离子成分形成的化合物，特别是从低粘度且高电导率(导电率)的观点出发，优选使用以下所述的离子性化合物。

例如，作为前述离子性化合物，可列举出1-乙基-3-甲基咪唑鎓四氟硼酸盐、1-乙基-3-甲基咪唑鎓双(氟磺酰)亚胺盐、1-乙基-3-甲基咪唑鎓双(三氟甲磺酰)亚胺盐、1-甲基-3-丙基咪唑鎓双(三氟甲磺酰)亚胺盐、1-丁基-3-甲基咪唑鎓双(三氟甲磺酰)亚胺盐、1-己基-3-甲基咪唑鎓双(三氟甲磺酰)亚胺盐、1-癸基-3-甲基咪唑鎓双(三氟甲磺酰)亚胺盐、1-丁基-3-十二烷基咪唑鎓双(三氟甲磺酰)亚胺盐、1-乙基-2,3-二甲基咪唑鎓双(三氟甲磺酰)亚胺盐、1,2-二甲基-3-丙基咪唑鎓双(三氟甲磺酰)亚胺盐、1-丁基-2-3-二甲基咪唑鎓双(三氟甲磺酰)亚胺盐、1-乙基-3-乙烯基咪唑鎓双(三氟甲磺酰)亚胺盐、1-丁基-3-乙烯基咪唑鎓双(三氟甲磺酰)亚胺盐、1-甲基-1-丙基吡咯烷鎓双(三氟甲磺酰)亚胺盐、1-丁基-1-甲基吡咯烷鎓双(三氟甲磺酰)亚胺盐、1-丁基-1-甲基哌啶鎓双(三氟甲磺酰)亚胺盐、4-(2-乙氧基乙基)-4-甲基吗啉鎓双(三氟甲磺酰)亚胺盐、1-丁基吡啶鎓四氟硼酸盐、1-丁基吡啶鎓双(三氟甲磺酰)亚胺盐、1-丁基-3-甲基吡啶鎓双(三氟甲磺酰)亚胺盐、1-丁基-4-甲基吡啶鎓四氟硼酸盐、1-丁基-4-甲基吡啶鎓双(三氟甲磺酰)亚胺盐、1-己基-4-甲基吡啶鎓双(三氟甲磺酰)亚胺盐、1-辛基-4-甲基吡啶鎓双(三氟甲磺酰)亚胺盐、三丁基十二烷基鏻双(三氟甲磺酰)亚胺盐、三甲基丙基铵双(三氟甲磺酰)亚胺盐、丁基三甲基铵双(三氟甲磺酰)亚胺盐、三乙基锍双(三氟甲磺酰)亚胺盐、1-丁基-3-甲基吡啶鎓三氟甲磺酸等，其中特别是从低粘度且电导率(导电率)的观点出发，优选使用1-乙基-3-甲基咪唑鎓四氟硼酸盐、1-乙基-3-甲基咪唑鎓双(氟磺酰)亚胺盐、1-乙基-3-甲基咪唑鎓双(三氟甲磺酰)亚胺盐、三乙基锍双(三氟甲磺酰)亚胺盐和1-丁基-3-甲基吡啶鎓三氟甲磺酸。

这些离子性化合物可以单独使用，另外，也可以混合使用2种以上。

前述离子性化合物的含量例如相对于构成前述粘合剂组合物的(甲基)丙烯酸类聚合物100重量份优选为0.01～5重量份、更优选为0.02～4重量份、进一步优选为0.05～3重量份、特别优选为0.1～2重量份。处于前述范围内时，本发明的表面保护薄膜对于被粘物(反射型偏光薄膜)容易兼顾抗静电性与低污染性，故而优选。

＜有机硅成分＞

本发明的反射型偏光薄膜用表面保护薄膜优选含有有机硅成分。通过使用有机硅成分，由前述粘合剂组合物形成的粘合剂层表面的表面自由能降低，能够实现剥离时的轻剥离化，另外，促进离子性化合物向粘合剂层表面移动，因此能够抑制剥离带电电压，是优选的方式。

＜具有氧亚烷基链的有机聚硅氧烷＞

作为前述有机硅成分，例如可以使用具有氧亚烷基链的有机聚硅氧烷。前述有机聚硅氧烷可以适宜使用公知的具有聚氧亚烷基主链的有机聚硅氧烷，优选为下述式所示的物质。

(式中，r1和/或r2具有碳数1～6的氧亚烷基链，前述氧亚烷基链中的亚烷基可以为直链或支链，前述氧亚烷基链的末端可以为烷氧基或羟基。另外，r1或r2中的任一者可以为羟基，或可以为烷基、烷氧基，前述烷基、烷氧基的一部分可以为被杂原子取代的官能团。n为1～300的整数。)

前述有机聚硅氧烷使用以包含硅氧烷的部位(硅氧烷部位)作为主链、在该主链的末端键合有氧亚烷基链的物质。推测通过使用前述具有氧亚烷基链的有机硅氧烷，取得与粘合性聚合物和离子性化合物的相容性的平衡，实现了轻剥离化。

另外，作为本发明中的前述有机聚硅氧烷，例如可以使用以下那样的构成。具体而言，式中的r1和/或r2具有包含碳数1～6的烃基的氧亚烷基链，作为前述氧亚烷基链，可列举出氧亚甲基、氧亚乙基、氧亚丙基、氧亚丁基等，其中，优选氧亚乙基、氧亚丙基。需要说明的是，r1和r2均具有氧亚烷基链的情况下，可以相同，也可以不同。

另外，前述氧亚烷基链的烃基可以为直链、也可以支化。

进而，前述氧亚烷基链的末端可以为烷氧基或羟基，其中更优选为烷氧基。出于保护粘合面的目的而在粘合剂层表面粘贴隔离膜的情况下，末端为羟基的有机聚硅氧烷有时与隔离膜发生相互作用，在将隔离膜从粘合剂层表面剥离时粘合(剥离)力上升。

另外，n为1～300的整数、优选为10～200、更优选为20～150。n处于前述范围内时，取得与基础聚合物的相容性的平衡，是优选的方式。进而，分子中也可以具有(甲基)丙烯酰基、烯丙基、羟基等反应性取代基。前述有机聚硅氧烷可以单独使用，另外，也可以混合使用2种以上。

作为上述具有氧亚烷基链的有机聚硅氧烷的具体例，例如作为市售品，可列举出商品名x-22-4952、x-22-4272、x-22-6266、kf-6004、kf-889(以上，信越化学工业株式会社制)、by16-201、sf8427(以上，东丽道康宁株式会社制)、im22(asahikaseiwacker株式会社制)等。这些化合物可以单独使用，另外，也可以混合使用2种以上。

另外，作为前述有机硅成分，除了在主链中具有(键合)氧亚烷基链的有机硅氧烷之外，还可以使用在侧链中具有(键合)氧亚烷基链的有机硅氧烷，与主链相比，使用在侧链中具有氧亚烷基链的有机硅氧烷是更优选的方式。前述有机聚硅氧烷可以适宜使用公知的具有聚氧亚烷基侧链的有机聚硅氧烷，优选为下述式所示的物质。

(式中，r1为1价有机基团，r2、r3和r4为亚烷基，r5为氢或有机基团，m和n为0～1000的整数。其中，m、n不同时为0。a和b为0～100的整数。其中，a、b不同时为0。)

另外，作为本发明中的前述有机聚硅氧烷，例如可以使用以下那样的构成。具体而言，式中的r1为由甲基、乙基、丙基等烷基、苯基、甲苯基等芳基或苄基、苯乙基等芳烷基例示的1价有机基团，分别可以具有羟基等取代基。r2、r3和r4可以使用亚甲基、亚乙基、亚丙基等碳数1～8的亚烷基。此处，r3和r4为不同的亚烷基，r2可以与r3或r4相同，也可以不同。为了提高在该聚氧亚烷基侧链中能溶解的离子性化合物的浓度，优选r3和r4中的任一者为亚乙基或亚丙基。r5可以为由甲基、乙基、丙基等烷基或乙酰基、丙酰基等酰基例示的1价有机基团，分别可以具有羟基等取代基。这些化合物可以单独使用，另外，也可以混合使用2种以上。另外，分子中也可以具有(甲基)丙烯酰基、烯丙基、羟基等反应性取代基。上述具有聚氧亚烷基侧链的有机硅氧烷之中，推测具备具有羟基末端的聚氧亚烷基侧链的有机硅氧烷容易取得相容性的平衡，故而优选。

作为上述有机硅氧烷的具体例，例如可列举出作为市售品的商品名kf-351a、kf-352a、kf-353、kf-354l、kf-355a、kf-615a、kf-945、kf-640、kf-642、kf-643、kf-6022、x-22-6191、x-22-4515、kf-6011、kf-6012、kf-6015、kf-6017、x-22-2516(以上，信越化学工业株式会社制)sf8428、fz-2162、sh3749、fz-77、l-7001、fz-2104、fz-2110、l-7002、fz-2122、fz-2164、fz-2203、fz-7001、sh8400、sh8700、sf8410、sf8422(以上，东丽道康宁株式会社制)、tsf-4440，tsf-4441、tsf-4445、tsf-4450、tsf-4446、tsf-4452、tsf-4460(momentiveperformancematerials公司制)、byk-333、byk-307、byk-377、byk-uv3500、byk-uv3570(bykjapankk制)等。这些化合物可以单独使用，另外，也可以混合使用2种以上。

作为本发明中使用的上述有机硅氧烷，hlb(亲水亲油平衡)值优选为1～16、更优选为3～14。hlb值处于前述范围外时，对被粘物(反射型偏光薄膜)的污染性变差，不优选。

＜含离子性基团的有机硅＞

另外，作为前述有机硅成分，可以使用含离子性基团的有机硅。通过使用前述含离子性基团的有机硅，表面能低的有机硅成分与离子性化合物形成为一体，从而离子性化合物向粘合剂层表面的移动变得容易，是优选的方式。

作为前述含离子性基团的有机硅，优选使用下述式(1)所示的含离子性基团的有机硅。通过在前述粘合剂组合物中包含前述含离子性基团的有机硅，利用有机硅链的低表面自由能，即使以将粘合剂层贴附于被粘物(反射型偏光薄膜)表面的状态在高温环境下保存的情况下，前述含离子性基团的有机硅也不会向被粘物中(自被粘物表面向被粘物内部)渗透，而是停留在粘合剂层表面，因此即使时间经过，剥离带电特性也稳定，能长期维持抗静电性能，是优选的方式。需要说明的是，关于前述粘合剂层的“内部”，例如在使用配混有前述含离子性基团的有机硅的前述粘合剂组合物来形成粘合剂层的情况下，是指被包含在前述粘合剂层中的情况。另外，关于前述粘合剂层的“表面”，例如在使用配混有或未配混前述含离子性基团的有机硅的前述粘合剂组合物来形成粘合剂层的情况下，在为了保护前述粘合剂层表面而贴附的隔离膜表面预先涂布(层叠)有前述含离子性基团的有机硅，将前述隔离膜贴附于前述粘合剂层的情况下，是指前述含离子性基团的有机硅从前述隔离膜表面转印(转移)到前述粘合剂层表面的情况。

需要说明的是，上述式(1)中的r1～r4可以相同也可以不同，包含碳数1～10的烷基、烷氧基、芳基、脂环族基团、氟取代烷基、离子性基团中的任意者，r1～r4中的1个以上包含离子性基团。n为0～100的整数。

另外，作为r1～r4中的1个以上所包含的离子性基团，优选具有铵阳离子基或鏻阳离子基的离子性基团。其中，r1～r4中的1个以上优选由下述式(a)或(b)所示的阳离子结构和阴离子成分形成，或者，优选为(c)或(d)所示的双性离子结构。

上述式(a)中的r5～r7可以相同也可以不同，表示碳数1～10的烷基、芳基、氟取代烷基中的任意者。m为1～10的整数。

上述式(b)中的r8～r10可以相同也可以不同，表示碳数1～10的烷基、芳基、氟取代烷基中的任意者。m为1～10的整数。

另一方面，作为阴离子成分，没有特别限定，例如可以使用cl^-、br^-、i^-、alcl4^-、al2cl7^-、bf4^-、pf6^-、clo4^-、no3^-、ch3coo^-、cf3coo^-、ch3so3^-、cf3so3^-、c4f9so3^-、(cf3so2)2n^-、(c2f5so2)2n^-、(c3f7so2)2n^-、(c4f9so2)2n^-、(cf3so2)3c^-、asf6^-、sbf6^-、nbf6^-、taf6^-、f(hf)n^-、(cn)2n^-、c4f9so3^-、(c2f5so2)2n^-、c3f7coo^-、(cf3so2)(cf3co)n^-、c9h19coo^-、(ch3)2po4^-、(c2h5)2po4^-、c2h5oso3^-、c6h13oso3^-、c8h17oso3^-、ch3(oc2h4)2oso3^-、c6h4(ch3)so3^-、(c2f5)3pf3^-、ch3ch(oh)coo^-和(fso2)2n^-等。

上述式(c)中的r11、r12可以相同也可以不同，表示碳数1～10的烷基、芳基、氟取代烷基中的任意者，r11、r12可以形成环，此时表示亚烷基。m为1～10的整数，p为1～6的整数。

上述式(d)中的r13、r14可以相同也可以不同，表示碳数1～10的烷基、芳基、氟取代烷基中的任意者，r13、r14可以形成环，此时表示亚烷基。m为1～10的整数，p为1～6的整数。

这种含离子性基团的有机硅包含有机硅链，因此利用有机硅链的低表面自由能，即使以将粘合剂层贴附于被粘物(反射型偏光薄膜)表面的状态在高温环境下保存的情况下，前述含离子性基团的有机硅也不会向被粘物中(自被粘物表面向被粘物内部)渗透，而是停留在粘合剂层表面，因此即使时间经过，剥离带电特性也稳定，能长期维持抗静电性能，能够适宜地用作抗静电剂。

作为前述含离子性基团的有机硅，例如作为市售品，例如可列举出x-40-2450、x-40-2750(以上，信越化学工业株式会社制)等。这些化合物可以单独使用，另外，也可以混合使用2种以上。

另外，例如，相对于作为粘合性聚合物的前述(甲基)丙烯酸类聚合物100重量份，前述有机硅成分的含量优选为0.01～5重量份、更优选为0.03～3重量份、进一步优选为0.05～1重量份。处于前述范围内时，容易兼顾防剥离带电性与轻剥离性(再剥离性)，故而优选。

＜氟系低聚物＞

前述粘合剂组合物中可以含有氟系低聚物。通过在前述粘合剂组合物中包含氟系低聚物，在将所得的粘合剂层(表面保护薄膜)粘贴于被粘物(反射型偏光薄膜)的情况下，能够发挥由氟系低聚物中的氟部位的低表面自由能带来的轻剥离效果。

另外，作为前述氟系低聚物，优选羟值为1以上、更优选为5以上、进一步优选为10以上，特别优选为20以上、最优选为40以上。通过前述氟系低聚物的羟值为1以上，氟系低聚物与粘合性聚合物的相互作用变强，向被粘物(反射型偏光薄膜)的转印量变少，能抑制表面保护薄膜的滑动(偏移)、浮起、剥脱等。进而，羟值为20以上时，耐污染性(低污染性)更优异，故而优选。另外，前述氟系低聚物的羟值优选为500以下、更优选为400以下。前述氟系低聚物的羟值超过500时，会使氟系低聚物与交联剂的反应优先，妨碍本来的交联剂与粘合性聚合物的反应，有内聚力下降的担心，故不优选。

作为前述氟系低聚物的具体例，例如可列举出市售品的商品名megafacf-477、f-556、f-559、f-562、f-563、f-569、f-571(以上，dic株式会社制)等。这些化合物可以单独使用，另外，也可以混合使用2种以上。

前述氟系低聚物的含量相对于构成前述粘合剂组合物的粘合性聚合物(为基础聚合物，例如，(甲基)丙烯酸类聚合物、氨基甲酸酯系聚合物、有机硅系聚合物等)100重量份优选为0.01～5重量份、更优选为0.02～4重量份、进一步优选为0.04～3重量份、最优选为0.06～2重量份。处于前述范围内时，将本发明中使用的表面保护薄膜粘贴于被粘物(反射型偏光薄膜)后，能够抑制滑动(偏移)、浮起、剥脱等，进而，轻剥离效果优异，是优选的。另外，为了满足作为表面保护薄膜的外观，相对于前述粘合性聚合物100重量份，前述氟系低聚物的含量优选为0.01～1.5重量份。

＜交联剂＞

本发明的表面保护薄膜优选的是，前述粘合剂组合物含有交联剂。另外，本发明中，可以使用前述粘合剂组合物来制成粘合剂层。例如，前述粘合剂组合物为含有前述(甲基)丙烯酸类聚合物的丙烯酸类粘合剂的情况下，通过适宜调节前述(甲基)丙烯酸类聚合物的构成单元、构成比率、交联剂的选择和添加比率等来进行交联，能够得到耐热性更优异的表面保护薄膜(粘合剂层)。

作为本发明中使用的交联剂，可以使用异氰酸酯化合物、环氧化合物、三聚氰胺系树脂、氮丙啶衍生物、以及金属螯合化合物等，使用异氰酸酯化合物是尤其优选的方式。另外，这些化合物可以单独使用，也可以混合使用2种以上。

作为前述异氰酸酯化合物，例如可列举出三亚甲基二异氰酸酯、亚丁基二异氰酸酯、六亚甲基二异氰酸酯(hdi)、二聚酸二异氰酸酯等脂肪族多异氰酸酯类、亚环戊基二异氰酸酯、亚环己基二异氰酸酯、异佛尔酮二异氰酸酯(ipdi)、1,3-双(异氰酸根合甲基)环己烷等脂环族异氰酸酯类、2,4-甲苯二异氰酸酯、4,4’-二苯基甲烷二异氰酸酯、苯二亚甲基二异氰酸酯(xdi)等芳香族异氰酸酯类、将前述异氰酸酯化合物用脲基甲酸酯键、缩二脲键、异氰脲酸酯键、脲二酮键、脲键、碳二亚胺键、脲酮亚胺键、噁二嗪三酮键等改性而成的多异氰酸酯改性体。例如，作为市售品，可列举出商品名takenate300s、takenate500、takenate600、takenated165n、takenated178n(以上，三井化学株式会社制)、sumijulet80、sumijulel、desmodurn3400(以上，sumikabayerurethaneco.,ltd.制)、milionatemr、milionatemt、coronatel、coronatehl、coronatehx(以上，tosohcorporation制)等。这些异氰酸酯化合物可以单独使用，也可以混合使用2种以上，也可以组合使用2官能的异氰酸酯化合物与3官能以上的异氰酸酯化合物。通过同时使用交联剂，从而能够兼顾粘合性与耐回弹性(对曲面的粘合性)，能够得到粘合特性更优异的表面保护薄膜。

作为前述环氧化合物，例如可列举出n,n,n’,n’-四缩水甘油基-间二甲苯二胺(商品名tetrad-x、三菱瓦斯化学株式会社制)、1,3-双(n,n-二缩水甘油基氨基甲基)环己烷(商品名tetrad-c、三菱瓦斯化学株式会社制)等。

作为前述三聚氰胺系树脂，可列举出六羟甲基三聚氰胺等。作为氮丙啶衍生物，例如可列举出作为市售品的商品名hdu、tazm、tazo(以上，sogopharmaceuticalco.,ltd.制)等。

关于前述金属螯合化合物，作为金属成分，可列举出铝、铁、锡、钛、镍等，作为螯合成分，可列举出乙炔、乙酰乙酸甲酯、乳酸乙酯等。

本发明中使用的交联剂的含量例如相对于前述(甲基)丙烯酸类聚合物100重量份优选为0.01～20重量份、更优选为0.1～15重量份、进一步优选为0.5～10重量份、特别优选为1～5重量份。前述含量少于0.01重量份的情况下，基于交联剂的交联形成不充分，所得的粘合剂层的内聚力变小，也有时得不到充分的耐热性，另外，有成为残胶的原因的倾向。另一方面，含量超过20重量份的情况下，聚合物的内聚力大，流动性降低，对被粘物(反射型偏光薄膜)的润湿不充分，有成为在被粘物与粘合剂层(粘合剂组合物层)之间产生鼓起的原因的倾向。

前述粘合剂组合物中可以进一步含有用于更有效地进行上述任一交联反应的交联催化剂。作为上述交联催化剂，例如可以使用二月桂酸二丁基锡、二月桂酸二辛基锡等锡系催化剂、三(乙酰丙酮)合铁、三(己烷-2,4-二酮)合铁、三(庚烷-2,4-二酮)合铁、三(庚烷-3,5-二酮)合铁、三(5-甲基己烷-2,4-二酮)合铁、三(辛烷-2,4-二酮)合铁、三(6-甲基庚烷-2,4-二酮)合铁、三(2,6-二甲基庚烷-3,5-二酮)合铁、三(壬烷-2,4-二酮)合铁、三(壬烷-4,6-二酮)合铁、三(2,2,6,6-四甲基庚烷-3,5-二酮)合铁、三(十三烷-6,8-二酮)合铁、三(1-苯基丁烷-1,3-二酮)合铁、三(六氟乙酰丙酮合)铁、三(乙酰乙酸乙酯)铁、三(乙酰乙酸正丙酯)铁、三(乙酰乙酸异丙酯)铁、三(乙酰乙酸正丁酯)铁、三(乙酰乙酸仲丁酯)铁、三(乙酰乙酸叔丁酯)铁、三(丙酰乙酸甲酯)铁、三(丙酰乙酸乙酯)铁、三(丙酰乙酸正丙酯)铁、三(丙酰乙酸异丙酯)铁、三(丙酰乙酸正丁酯)铁、三(丙酰乙酸仲丁酯)铁、三(丙酰乙酸叔丁酯)铁、三(乙酰乙酸苄酯)铁、三(丙二酸二甲酯)铁、三(丙二酸二乙酯)铁、三甲氧基铁、三乙氧基铁、三异丙氧基铁、氯化铁等铁系催化剂。这些交联催化剂可以为1种，也可以组合使用2种以上。

前述交联催化剂的含量没有特别限制，例如，相对于前述(甲基)丙烯酸类聚合物100重量份，优选设为约0.0001～1重量份、更优选0.001～0.5重量份。处于前述范围内时，形成粘合剂层时交联反应的速度快，是优选的方式。

进而，前述粘合剂组合物中可以含有产生酮-烯醇互变异构性的化合物。例如，可以优选采用如下方式：在包含交联剂的粘合剂组合物或可配混交联剂来使用的粘合剂组合物中，包含前述产生酮-烯醇互变异构性的化合物的方式。由此，抑制交联剂配混后的粘合剂组合物的过度的粘度上升、凝胶化，能实现延长粘合剂组合物的适用期的效果。至少使用异氰酸酯化合物作为前述交联剂的情况下，含有产生酮-烯醇互变异构性的化合物是特别有意义的。该技术例如在前述粘合剂组合物为有机溶剂溶液或无溶剂的形态的情况下可优选地应用。

作为前述产生酮-烯醇互变异构性的化合物，可以使用各种的β-二羰基化合物。作为具体例，可列举出乙酰丙酮、2,4-己二酮、3,5-庚二酮、2-甲基己烷-3,5-二酮、6-甲基庚烷-2,4-二酮、2,6-二甲基庚烷-3,5-二酮等β-二酮类；乙酰乙酸甲酯、乙酰乙酸乙酯、乙酰乙酸异丙酯、乙酰乙酸叔丁酯等乙酰乙酸酯类；丙酰乙酸乙酯、丙酰乙酸乙酯、丙酰乙酸异丙酯、丙酰乙酸叔丁酯等丙酰乙酸酯类；异丁酰乙酸乙酯、异丁酰乙酸乙酯、异丁酰乙酸异丙酯、异丁酰乙酸叔丁酯等异丁酰乙酸酯类；丙二酸甲酯、丙二酸乙酯等丙二酸酯类；等。其中，作为适宜的化合物，可列举出乙酰丙酮和乙酰乙酸酯类。上述产生酮-烯醇互变异构性的化合物可以单独使用，也可以组合使用2种以上。

前述产生酮-烯醇互变异构性的化合物的含量例如相对于前述(甲基)丙烯酸类聚合物100重量份可以设为0.1～20重量份，通常设为0.5～15重量份(例如1～10重量份)是适当的。前述化合物的量过少时，有时难以发挥充分的使用效果。另一方面，使用多得超出必要的前述化合物时，会残留在粘合剂层中，有时使内聚力降低。

进而，前述粘合剂组合物中也可以含有其它公知的添加剂，例如可以根据使用用途而适当添加润滑剂、着色剂、颜料等粉体、增塑剂、增粘剂、低分子量聚合物、表面润滑剂、流平剂、抗氧化剂、防腐蚀剂、光稳定剂、紫外线吸收剂、阻聚剂、硅烷偶联剂、无机或有机的填充剂、金属粉、颗粒状、箔状物等。

＜粘合剂层和表面保护薄膜＞

本发明的表面保护薄膜优选在前述基材薄膜的至少单面具有由前述粘合剂组合物形成的粘合剂层。需要说明的是，前述粘合剂层由前述粘合剂组合物交联得到，通常在粘合剂组合物的涂布后进行，但也可以将交联后的粘合剂组合物所形成的粘合剂层转印至基材薄膜等。

另外，在基材薄膜上形成粘合剂层的方法没有特别限制，例如通过将前述粘合剂组合物(溶液)涂布到基材薄膜，将聚合溶剂等干燥去除而将粘合剂层形成在基材薄膜上，从而制作。然后，可以出于粘合剂层的成分移动的调整、交联反应的调整等目的而实施熟化。另外，在将粘合剂组合物涂布到基材薄膜上而制作表面保护薄膜时，为了能在基材薄膜上均匀涂布，可以在前述粘合剂组合物中新加入聚合溶剂以外的一种以上溶剂。

另外，作为制造本发明的表面保护薄膜时的粘合剂层的形成方法，使用粘合带类的制造中使用的公知的方法。具体而言，例如可列举出辊涂、凹版涂布、反向涂布、辊刷、喷涂、气刀涂布法、利用模涂机等的挤出涂布法等。

本发明的表面保护薄膜通常以前述粘合剂层的厚度为0.1～100μm、优选为1～80μm左右的方式制作。粘合剂层的厚度处于前述范围内时，容易获得适度的再剥离性与粘合性的平衡，故而优选。

另外，本发明的表面保护薄膜的总厚度优选为8～300μm、更优选为10～200μm、最优选为20～100μm。处于前述范围内时，粘合特性(再剥离性、粘合性等)、操作性、外观特性优异，是优选的方式。需要说明的是，前述总厚度是指包括基材薄膜、粘合剂层、其它层等所有层的厚度的总和。

＜隔离膜＞

本发明的表面保护薄膜中，优选在前述粘合剂层的与接触前述基材薄膜的面相反的面上贴附隔离膜。关于前述隔离膜，可以根据需要出于保护粘合面的目的，在粘合剂层表面粘贴隔离膜，在贴附于反射型偏光薄膜表面时，可以剥离前述隔离膜来使用。

作为构成前述隔离膜的材料，有纸、塑料薄膜，但从表面平滑性优异的观点出发适宜使用塑料薄膜。作为该薄膜，只要是能保护前述粘合剂层的薄膜就没有特别限定，例如可列举出聚乙烯薄膜、聚丙烯薄膜、聚丁烯薄膜、聚丁二烯薄膜、聚甲基戊烯薄膜、聚氯乙烯薄膜、氯乙烯共聚物薄膜、聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜、聚对苯二甲酸丁二醇酯薄膜、聚氨基甲酸酯薄膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物薄膜等。

前述隔离膜的厚度通常为5～200μm、优选为10～100μm左右。处于前述范围内时，向粘合剂层粘贴的粘贴操作性与从粘合剂层剥离的剥离操作性优异，故而优选。对于前述隔离膜，可以根据需要实施利用有机硅系、氟系、长链烷基系或脂肪酸酰胺系的脱模剂、二氧化硅粉等的脱模和防污处理、涂布型、混炼型、蒸镀型等的抗静电处理。

＜反射型偏光薄膜＞

作为贴附前述表面保护薄膜(的粘合剂层表面)来保护的目标的由多层结构形成的反射型偏光薄膜(例如，单独的增亮薄膜、或者将增亮薄膜层叠于偏光薄膜而成者(贴合而成者)等)使用将由折射率各向异性不同的材料形成的薄膜交替层叠而制成多层结构的偏光薄膜，因此一旦带电，则即使使用通常使用的为抗静电剂的碱金属盐等、室温下为固体的离子性化合物等，也难以消除静电，有防剥离带电性、抗静电性比其它光学薄膜(例如，偏光薄膜等)差的倾向。但是，通过使用本发明中使用的前述离子性化合物，即使对于容易带电的反射型偏光薄膜，防剥离带电性、抗静电性也优异，是优选的方式。特别是将近年来使用增加的与偏光薄膜等一体化的反射型偏光薄膜安装到液晶显示器等中时(剥离表面保护薄膜后)，能够抑制面板的白化现象，操作性、效率性也优异，是优选的方式。

需要说明的是，本发明中的反射型偏光薄膜是指，单独的具有多层结构的增亮薄膜、以及层叠有前述增亮薄膜的偏光薄膜等。

关于前述反射型偏光薄膜中包含的前述增亮薄膜，表现出通过液晶显示装置等的背光、来自背侧的反射等而射入自然光时反射规定偏振轴的直线偏振光或规定方向的圆偏振光、透过其它光的特性，进而，层叠增亮薄膜与偏光薄膜而成者使来自背光等光源的光射入而得到规定的偏光状态的透射光，并且使前述规定偏光状态以外的光反射而不透过。将由该增亮薄膜反射出的光进一步借助设置于其后侧的反射层等反转，再射入到增亮薄膜，使其一部分或全部以规定偏光状态的光的形式透过而实现透过增亮薄膜的光的增量，并且，对偏振片供给难以被吸收的偏振光而实现液晶显示等图像显示所能利用的光量的增大，从而提高亮度。将偏光薄膜与增亮薄膜粘贴而成的一体型的偏光薄膜往往设置于液晶单元的背光侧来使用，但也可以如wo2006/038404号国际公开小册子中公开那样设置在液晶单元的观看侧来使用。

作为增亮薄膜，例如可以适宜使用：电介质的多层薄膜、折射率各向异性不同的薄膜膜的多层层叠体那样的表现出透过规定偏振轴的直线偏振光且反射其它光的特性的薄膜；如胆甾型液晶聚合物的取向薄膜、将其取向液晶层支撑在薄膜基材上而成者那样表现出反射逆时针或顺时针的任一圆偏振光且透过其它光的特性的薄膜等适宜的薄膜。

＜光学薄膜＞

本发明的光学薄膜优选具有前述反射型偏光薄膜用表面保护薄膜和反射型偏光薄膜。前述表面保护薄膜在反射型偏光薄膜的表面贴附后进行剥离时的防剥离带电性优异，因此在不需要表面保护薄膜的阶段从反射型偏光薄膜剥离时，能够抑制由静电造成的面板的白化现象，能够抑制检查效率的降低，是优选的方式。需要说明的是，关于本发明中的光学薄膜，记载为层叠表面保护薄膜与反射型偏光薄膜而成的光学薄膜，但也可以为除了反射型偏光薄膜之外进一步层叠偏光薄膜、其它光学薄膜等而成的光学薄膜。

实施例

以下，对于具体示出本发明的构成和效果的实施例等进行说明，本发明不限定于这些。实施例等中的评价项目如下所述地进行测定。需要说明的是，以下的说明中的“份”和“％”在没有特别说明的情况下为重量基准。

另外，以下的说明中的各特性分别如下测定或评价。

＜重均分子量(mw)的测定＞

使用的聚合物的重均分子量(mw)使用tosohcorporation制gpc装置(hlc-8220gpc)进行测定。测定条件如下。

样品浓度：0.2重量％(thf溶液)

样品注入量：10μl

洗脱液：thf

流速：0.6ml/分钟

测定温度：40℃

柱：

样品柱；tskguardcolumnsuperhz-h(1根)+tskgelsuperhzm-h(2根)

参比柱；tskgelsuperh-rc(1根)

检测器：差示折光仪(ri)

需要说明的是，重均分子量以聚苯乙烯换算值求出。

＜玻璃化转变温度(tg)的理论值＞

玻璃化转变温度tg(℃)使用下述文献值作为各单体所形成的均聚物的玻璃化转变温度tgn(℃)，利用下述式求出。

式：1/(tg+273)＝σ[wn/(tgn+273)]〔式中，tg(℃)表示共聚物的玻璃化转变温度，wn(-)表示各单体的重量分数，tgn(℃)表示各单体所形成的均聚物的玻璃化转变温度，n表示各单体的种类。〕

文献值：

丙烯酸2-乙基己酯(2eha)：-70℃

丙烯酸4-羟基丁酯(4hba)：-32℃

丙烯酸(aa)：106℃

需要说明的是，作为上述文献值，参照《丙烯酸类树脂的合成·设计和新用途展开》(中央经营开发中心出版部发行)和《聚合物手册》(johnwiley&sons)。

〔实施例1〕

〔(甲基)丙烯酸类聚合物(a)的制备〕

在具备搅拌叶片、温度计、氮气导入管、冷却器的四口烧瓶中投入丙烯酸2-乙基己酯(2eha)91重量份、丙烯酸4-羟基丁酯(4hba)9重量份、丙烯酸(aa)0.02重量份、作为聚合引发剂的2,2’-偶氮二异丁腈0.2重量份、乙酸乙酯150重量份，边缓缓搅拌边导入氮气，将烧瓶内的液温保持在65℃附近进行6小时聚合反应，制备(甲基)丙烯酸类聚合物(a)溶液(40重量％)。前述丙烯酸类聚合物(a)的重均分子量(mw)为54万、玻璃化转变温度(tg)为-67℃。

〔丙烯酸类粘合剂的溶液的制备〕

将上述丙烯酸类聚合物(a)溶液(40重量％)用乙酸乙酯稀释至20重量％，在该溶液500重量份(固体成分100重量份)中添加将离子性化合物(离子液体：1-乙基-3-甲基咪唑鎓双(三氟甲磺酰)亚胺盐、东京化成工业株式会社制)用乙酸乙酯稀释至10％的溶液1重量份(固体成分0.1重量份)、作为有机硅成分的聚醚改性硅油(信越化学株式会社制、kf-353)0.8重量份(固体成分0.8重量份)、作为交联剂的3官能异氰酸酯化合物即六亚甲基二异氰酸酯的异氰脲酸酯体(tosohcorporation制、coronatehx)3重量份(固体成分3重量份)、作为交联催化剂的二月桂酸二辛基锡(1重量％乙酸乙酯溶液)3重量份(固体成分0.03重量份)，进行混合搅拌，制备丙烯酸类粘合剂溶液。

〔抗静电处理薄膜的制作〕

将作为粘结剂的聚酯树脂vylonalmd-1480(25％水溶液、toyoboco.,ltd.制)以固体成分量计100重量份、作为导电性聚合物的聚(3,4-乙撑二氧噻吩)(pedot)/聚苯乙烯磺酸(pss)(baytronp、h.c.starck公司制)以固体成分量计100重量份、作为交联剂的六羟甲基三聚氰胺以固体成分量计10重量份添加到水/乙醇(1/1)的混合溶剂中，搅拌约20分钟充分混合。如此制备nv(不挥发成分)约0.4％的抗静电剂溶液。

将所得的抗静电剂溶液使用迈耶棒涂布到作为基材薄膜的聚对苯二甲酸乙二醇酯(pet)薄膜(厚度：38μm)上，在130℃下干燥1分钟，从而去除溶剂，形成抗静电层(厚度：0.2μm)，制作抗静电处理薄膜。

〔表面保护薄膜的制作〕

将上述丙烯酸类粘合剂溶液涂布到上述抗静电处理薄膜的与具有抗静电层的面相反的面，在130℃下加热2分钟，形成厚度10μm的粘合剂层。接着，在上述粘合剂层的表面粘贴单面实施了有机硅处理的聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜(厚度：25μm)的有机硅处理面，制作表面保护薄膜。

〔带反射型偏光薄膜的偏光薄膜〕

对吸水率0.75％、tg75℃的非晶质的ipa共聚合pet薄膜(厚度：100μm)基材的单面实施电晕处理，在该电晕处理面上涂布以9：1的比包含聚乙烯醇(聚合度4200、皂化度99.2摩尔％)和乙酰乙酰基改性pva(聚合度1200、乙酰乙酰基改性度4.6％、皂化度99.0摩尔％以上，日本合成化学工业株式会社制、商品名“gohsefimerz200”)的水溶液，在60℃下干燥，从而在基材上形成厚度11μm的pva系树脂层，制作层叠体。

将所得层叠体在115℃的烘箱内在圆周速度不同的辊间沿长度方向进行自由端单轴拉伸至2.0倍(空中拉伸)。

接着，将层叠体在液温30℃的不溶化浴(相对于水100重量份配混硼酸3重量份而得到的硼酸水溶液)中浸渍30秒(不溶化处理)。

接着，将层叠体在30℃的染色溶液(相对于水100重量份，碘化钾3.5重量份、以及碘0.5重量份)中浸渍30秒，进行染色(染色处理)。

接着，在液温30℃的交联浴(相对于水100重量份配混碘化钾3重量份、硼酸3重量份而得到的硼酸水溶液)中浸渍30秒(交联处理)。

然后，将层叠体边在液温70℃的硼酸水溶液(相对于水100重量份配混硼酸4重量份、碘化钾5重量份而得到的水溶液)中浸渍，边在圆周速度不同的辊间沿长度方向进行单轴拉伸至2.7倍(水中拉伸)。

然后，将层叠体在液温30℃的清洗浴(相对于水100重量份配混碘化钾4重量份而得到的水溶液)中浸渍10秒后，用60℃的热风进行60秒干燥(清洗/干燥工序)。

如此，在树脂基材上形成厚度5μm的pva系树脂层(偏振片)，得到偏振片层叠体。

(制造例1：紫外线固化型粘接剂的制备)

将n-羟基乙基丙烯酰胺(heaa)40重量份与丙烯酰吗啉(acmo)60重量份与光引发剂“irgacure819”(basf公司制)3重量份混合，制备紫外线固化型粘接剂。

(制造例2：导电性粘合剂层(b)的制作)

在具备搅拌叶片、温度计、氮气导入管、冷却器的4口烧瓶中投入含有丙烯酸丁酯99份和丙烯酸4-羟基丁酯1份的单体混合物。进而，相对于上述单体混合物(固体成分)100份，将作为聚合引发剂的2,2′-偶氮二异丁腈0.1份与乙酸乙酯一起投入，边缓缓搅拌边导入氮气进行氮气置换后，将烧瓶内的液温保持在60℃附近进行7小时聚合反应。然后，在所得反应液中添加乙酸乙酯，将固体成分浓度调整至30％。如此，制备重均分子量140万的丙烯酸类聚合物(基础聚合物)的溶液。

相对于上述丙烯酸类聚合物溶液的固体成分100份，配混作为抗静电剂的双(三氟甲磺酰)亚胺锂(mitsubishimaterialselectronicchemicalsco.,ltd.制)1.0份和乙基甲基吡咯烷鎓双(三氟甲磺酰)亚胺盐(东京化成工业株式会社制)0.7份、作为交联剂的三羟甲基丙烷苯二亚甲基二异氰酸酯(三井化学株式会社制：takenated110n)0.095份和过氧化二苯甲酰0.3份、作为硅烷偶联剂的有机硅烷(综研化学株式会社制：a100)0.2份和含巯基硅烷偶联剂(信越化学工业株式会社制：x41-1810)0.2份、再加工改良剂(kanekacorporation、silylsat10)0.03份、以及抗氧化剂(basf公司制、irganox1010)0.3份，制备粘合剂组合物(溶液)。

将所得粘合剂组合物以形成的粘合剂层的厚度成为20μm的方式涂布到经脱模处理的聚对苯二甲酸乙二醇酯基材上，用120℃的干燥机进行3分钟干燥，从而制作带隔离膜的导电性粘合剂层(b)。

在前述偏振片层叠体的偏振片侧的面上涂布制造例1的紫外线固化型粘接剂，使得固化后的厚度成为1μm，粘贴具有多层结构的反射型偏光薄膜(3m公司制、产品名“apfv3”、厚度：26μm)，使紫外线固化型粘接剂固化。

接着，从偏振片层叠体剥离pet薄膜，在剥离面粘贴制造例2的带隔离膜的导电性粘合剂层(b)(厚度：20μm)的粘合面，从而制作带反射型偏光薄膜的偏光薄膜。

前述带反射型偏光薄膜的偏光薄膜得到的是具有导电性粘合剂层(b)(20μm)/偏振片(5μm)/粘接剂层(1μm)/反射型偏光薄膜(26μm)的层叠构成者。

〔偏光薄膜〕

作为不含前述反射型偏光薄膜的偏光薄膜，使用日东电工株式会社制、产品名“seg1423du”。

＜实施例2～11和比较例1～2＞

按照表1的配混比例，与实施例1同样地操作，制作表面保护薄膜、评价用样品等。需要说明的是，表1中的配混量表示有效成分。

＜初始剥离带电电压的测定＞

将各例的表面保护薄膜1切成宽70mm、长130mm的尺寸，将剥离衬垫剥离后，在粘贴于玻璃板上的宽度：70mm、长度：100mm的带反射型偏光薄膜的偏光薄膜2的反射型偏光薄膜的表面、或偏光薄膜2’(无反射型偏光薄膜、未图示)的表面，以表面保护薄膜的一个端部从前述偏光薄膜2或偏光薄膜2’的端部伸出30mm的方式，用手压辊压接(参照图1)。

将该样品在23℃×50％rh的环境下放置1日后，如图2所示，安装到高度20mm的样品固定台3的规定位置。将从偏光薄膜2或偏光薄膜2’伸出30mm的表面保护薄膜1的端部固定于自动卷取机(未图示)，以剥离角度150°、剥离速度30m/分钟进行剥离。对于此时产生的被粘物(偏光薄膜2或偏光薄膜2’)表面的电位，利用固定在与偏光薄膜2或偏光薄膜2’的中央相距高度30mm的位置的电位测定器4(shishidoelectrostatic,ltd.制、型号“statirondz-4”)，测定“初始剥离带电电压”。测定在23℃、50％rh的环境下进行。

＜70℃保存剥离带电电压的测定＞

将各例的表面保护薄膜1切成宽70mm、长130mm的尺寸，将剥离衬垫剥离后，在粘贴于玻璃板上的宽度：70mm、长度：100mm的带反射型偏光薄膜的偏光薄膜2的反射型偏光薄膜的表面、或偏光薄膜2’(无反射型偏光薄膜、未图示)的表面，以表面保护薄膜的一个端部从前述偏光薄膜2或偏光薄膜2’的端部伸出30mm的方式，用手压辊压接(参照图1)。

将该样品在70℃的环境下放置1日后，如图2所示，安装到高度20mm的样品固定台3的规定位置。将从偏光薄膜2或偏光薄膜2’伸出30mm的表面保护薄膜1的端部固定于自动卷取机(未图示)，以剥离角度150°、剥离速度30m/分钟进行剥离。对于此时产生的被粘物(偏光薄膜2或偏光薄膜2’)表面的电位，利用固定在与偏光薄膜2或偏光薄膜2’的中央相距高度30mm的位置的电位测定器4(shishidoelectrostatic,ltd.制、型号“statirondz-4”)测定“70℃保存剥离带电电压”。测定在23℃、50％rh的环境下进行。

作为针对前述带反射型偏光薄膜的偏光薄膜的初始和在70℃下放置1日后的剥离带电电压的绝对值，优选为0.7kv以下、更优选为0.6kv以下、进一步优选为0.5kv以下。为0.7kv以下时，即使是反射型偏光薄膜，也能够抑制面板白化，不会损害操作效率，是优选的方式。

另外，作为针对前述偏光薄膜(无反射型偏光薄膜)的初始和在70℃下放置1日后的剥离带电电压的绝对值，优选为0.7kv以下、更优选为0.6kv以下、进一步优选为0.5kv以下。为0.7kv以下时，能够抑制面板白化，不会损害操作效率，是优选的方式。

按照上述方法，进行制得的表面保护薄膜的针对带反射型偏光薄膜的偏光薄膜、以及针对偏光薄膜(无反射型偏光薄膜)的剥离带电电压的测定/评价。将所得结果示于表2。

【表1】

注)离子性化合物等的份数表示相对于聚合物100重量份的配混量。

以下说明表1中的简称。

＜离子性化合物＞

emitfsi：离子液体、1-乙基-3-甲基咪唑鎓双(三氟甲磺酰)亚胺盐(东京化成工业株式会社制)

bmpytfsi：离子液体、1-丁基-3-甲基吡啶鎓双(三氟甲磺酰)亚胺盐(japancarlitco.,ltd.制)

bmpytfs：离子液体、1-丁基-3-甲基吡啶鎓三氟甲磺酸(japancarlitco.,ltd.制)

emifsi：离子液体、1-乙基-3-甲基咪唑鎓双(氟磺酰)亚胺盐(第一工业制药株式会社制)

mpptfsi：离子液体、1-甲基-1-丙基吡咯烷鎓双(三氟甲磺酰)亚胺盐(东洋合成株式会社制)

tmpatfsi：离子液体：三甲基丙基铵双(三氟甲磺酰)亚胺盐(东洋合成株式会社制)

mtoatfsi：离子液体、甲基三辛基铵双(三氟甲磺酰)亚胺盐(和光纯药工业株式会社制)

litfs：碱金属盐、三氟甲磺酸锂(东京化成工业株式会社制)

＜有机硅成分＞

kf-353：具有氧亚烷基链的有机聚硅氧烷(信越化学工业株式会社制、商品名：kf-353)

x-40-2450：含离子性基团的有机硅(信越化学工业株式会社制、商品名：x-40-2450)

＜氟系低聚物＞

f-562：氟系低聚物(dic株式会社制、商品名：megafacf-562)

【表2】

根据上述表2的结果，在所有实施例中，能够将初始和高温加热后(70℃下放置1日)的剥离带电电压抑制得较低，对于具有多层结构的反射型偏光薄膜那样容易带电的光学薄膜，也能够确认到优异的防剥离带电性。

与此相对，比较例中，由于未使用特定的离子性化合物，因此虽然确认到抑制对偏光薄膜的剥离带电电压，但关于对容易带电的反射型偏光薄膜的防剥离带电性，确认其较差，特别是关于高温加热后(70℃下放置1日)的剥离带电电压，确认到显示出高的值。另外，根据对偏光薄膜的剥离带电电压的结果，即使在对偏光薄膜的防剥离带电性包含在期望的范围内的情况下，对反射型偏光薄膜的防剥离带电性也成为比实施例差的结果，还确认到具有多层结构的反射型偏光薄膜容易带电，难以消除静电。