1.一种阻隔层用涂布液，其特征在于，所述涂布液的组成及质量份数为：
含羧基的聚合物(a)0.4～20，
含羟基的水溶性聚合物(b)0.20～5.0，
带有与羧基反应性基团的偶联剂(c)0.01～3，
金属醇盐(l)的水解缩合物1.7～13，
溶剂30～95。
2.根据权利要求1所述阻隔层用涂布液，其特征在于，所述含羧基的聚合物(a)为聚丙烯酸、聚甲基丙烯酸、聚(丙烯酸/甲基丙烯酸)共聚物中的一种，分子量控制在3000～1500,000范围内。
3.根据权利要求1所述阻隔层用涂布液，其特征在于，所述含羟基的水溶性聚合物(b)为聚乙烯醇、乙烯-乙烯醇共聚物、多糖类、壳聚糖、纤维素、淀粉中的一种，聚合度控制在500～3000，醇解度控制在80％～99.99％。
4.根据权利要求1所述阻隔层用涂布液，其特征在于，所述带有与羧基反应性基团的偶联剂(c)中的反应性基团包括氨基、巯基、环氧基、脲基、异氰酸酯基团。
5.根据权利要求4所述阻隔层用涂布液，其特征在于，所述偶联剂为γ-氨基丙基三甲氧基硅烷(kh540)、γ-氨基丙基三乙氧基硅烷(kh550)、二乙胺基甲基三乙氧基硅烷、n-(β-氨乙基)-γ-氨丙基三甲氧基硅烷(kh792)、γ-巯丙基三甲氧基硅烷(kh590)、γ-巯丙基三乙氧基硅烷(kh580)、γ-(2,3-环氧丙氧)丙基三甲氧基硅烷、γ-(2,3-环氧丙氧)丙基三乙氧基硅烷、γ-脲基丙基三甲氧基硅烷、γ-脲基三乙氧基硅烷、γ-异氰酸酯基丙基三甲氧基硅烷或γ-异氰酸酯基三乙氧基硅烷中的一种或几种。
6.一种制备如权利要求1-5任一项所述阻隔层用涂布液的方法，其特征在于，制备按以下步骤进行：
步骤1：含羧基的聚合物(a)溶液、含羟基的水溶性聚合物(b)溶液和带有与羧基反应性基团的偶联剂(c)进行混合，并在50℃～95℃水浴中搅拌0.5h～2h得到酯交联改性的聚合物(d)；
步骤2：金属醇盐(l)在酸性条件下进行水解-缩合反应得到金属醇盐(l)的水解缩合物；
步骤3：金属醇盐(l)的水解缩合物用溶剂稀释后，加入步骤1得到的酯交联改性的聚合物(d)，搅拌0.5h～2h即得所述涂布液。
7.根据权利要求6所述制备方法，其特征在于，所述金属醇盐(l)的水解缩合物中的金属醇盐(l)包括四甲氧基硅烷、四乙氧基硅烷、三甲氧基铝、正丙基三甲氧基硅烷、甲基三甲氧基硅烷、γ-(2,3-环氧丙氧)丙基三甲氧基硅烷、乙烯基三甲氧基硅烷、γ-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷、1,3,5-三(3-三甲氧基甲硅烷基丙基)异氰脲酸酯、三乙氧基铝、三异丙氧基铝、三正丁基铝、四甲氧基钛、四乙氧基钛、四异丙氧基钛、四正丁基钛、四乙氧基锆、四异丙氧基锆中的一种或几种。
8.一种阻隔膜，包括基膜，其特征在于，所述阻隔膜是在基膜的单面或双面直接涂布如权利要求1-7中任一项所述涂布液。
9.根据权利要求8所述阻隔膜，其特征在于，所述阻隔膜涂层的厚度为0.1～5.0μm，所述底涂层的厚度为0.01～2.0μm。