一种具有抗电磁波效果的oca光学胶膜及其制备方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及保护膜技术领域，具体涉及一种具有抗电磁波效果的0CA光学胶膜及其制备方法。
【背景技术】
[0002]目前市场上提供的手机保护膜种类繁多，其一般都是依靠黏胶贴在屏幕上的透明薄膜，较易脱落起泡，抗刮抗震性能差，使用寿命较短。而新型的钢化玻璃保护膜则很好解决了上述缺点，并且贴合容易且紧密，具有较高的坚韧度。
[0003]然而，目前应用于钢化玻璃的0CA光学胶膜功能单一，不具有市面上普通保护膜的抗电磁波功能，导致其使用和保护性能不佳，难以满足用户的需求。
【发明内容】
[0004]为了克服现有技术中存在的缺点和不足，本发明的目的在于提供一种具有抗电磁波效果的0CA光学胶膜，该0CA光学胶膜具有抗电磁波的功能，优化目前钢化玻璃膜的功能，提升其使用保护性能。
[0005]本发明的另一目的在于提供一种具有抗电磁波效果的0CA光学胶膜的制备方法，该制备方法工艺简单，操作控制方便，质量稳定，生产效率高，生产成本低，适合大规模工业化生产。
[0006]本发明的目的通过下述技术方案实现:一种具有抗电磁波效果的0CA光学胶膜，包括从上往下依次设置的重离型膜、抗电磁波高黏胶层、硅胶层和中离型膜，抗电磁波高黏胶层的上表面、下表面分别与重离型膜的下表面、硅胶层的上表面贴合，硅胶层的下表面与中离型膜的上表面贴合。
[0007]本发明的0CA光学胶膜通过采用抗电磁波高黏胶层，具有抗电磁波的功能，优化目前钢化玻璃膜的功能，提升其使用保护性能，结构简单，成本低，实用性强。
[0008]优选的，所述重离型膜为剥离力在8_15g的重离型膜。本发明通过采用剥离力在8_15g的重离型膜，最外层不会轻易分离，可以更好地保护本发明的0CA光学胶膜。剥离力的测试采用剥离强度测试仪，样品大小25mm*300mm，2KG力压接30min后，以1.2m/min,180°剥离(对玻璃)。
[0009]所述重离型膜为表面经过电晕处理的PET重离型膜。电晕处理其原理是利用高频率高电压在被处理的塑料表面电晕放电(高频交流电压高达5000-15000V/m2)，而产生低温等离子体，使塑料表面产生游离基反应而使聚合物发生交联.表面变粗糙并增加其对极性溶剂的润湿性-这些离子体由电击和渗透进入被印体的表面破坏其分子结构，进而将被处理的表面分子氧化和极化，离子电击侵蚀表面，以致增加承印物表面的附着能力。电晕处理使承印物表面分子结构重新排列，产生更多的极性部位，有利于附着外物。
[0010]所述抗电磁波高黏胶层为含有纳米银颗粒的抗电磁波高黏胶层。本发明通过采用含有纳米银颗粒的抗电磁波高黏胶层，抗电磁波效果好，优化目前钢化玻璃膜的功能，提升其使用保护性能。
[0011]所述中离型膜为剥离力在3-10g的中离型膜。本发明通过采用剥离力在3-10g的中离型膜，最外层不会轻易分离，可以更好地保护本发明的0CA光学胶膜。剥离力的测试采用剥离强度测试仪，样品大小25mm*300mm，2KG力压接30min后，以1.2m/min, 180°剥离(对玻璃)。
[0012]所述中离型膜为表面经过电晕处理的PET中离型膜、PE中离型膜、0ΡΡ中离型膜、Β0ΡΕΤ中离型膜或Β0ΡΡ中离型膜。电晕处理使承印物表面分子结构重新排列，产生更多的极性部位，有利于附着外物。
[0013]优选的，所述重离型膜的厚度为23-100 μ mo本发明通过将重离型膜的厚度控制在23-100 μπι，最外层不会轻易分离，可以更好地保护本发明的光学膜。更为优选的，所述重离型膜的厚度为75 μπι。
[0014]所述抗电磁波高黏胶层的厚度为30-50 μπι。本发明通过将抗电磁波高黏胶层的厚度控制在30-50 μ m，抗电磁波效果好，优化目前钢化玻璃膜的功能，提升其使用保护性能。更为优选的，所述抗电磁波高黏胶层的厚度为40 μπι。
[0015]所述硅胶层的厚度为20-40 μ m0本发明通过将硅胶层的厚度控制在20-40 μ m，粘合性能好，与抗电磁波高黏胶层粘贴紧密。更为有优选的，所述硅胶层的厚度为30 μπι。
[0016]所述中离型膜的厚度为23-100 μπι。本发明通过将中离型膜的厚度控制在23-100 μπι，最外层不会轻易分离，可以更好地保护本发明的光学膜。更为优选的，所述中离型膜的厚度为75 μπι。
[0017]优选的，所述抗电磁波高黏胶层的原料为添加有抗电磁波材料的高黏胶，抗电磁波材料与高黏胶的重量比为1-5:100，抗电磁波材料由如下重量份的原料组成:
纳米银颗粒 20-35份增稠剂4-5.5份
分散剂3-5份
溶剂46-70份。
[0018]本发明的抗电磁波高黏胶层通过采用上述原料，并严格控制各原料的重量份，抗电磁波效果好，优化目前钢化玻璃膜的功能，提升其使用保护性能。
[0019]优选的，所述高黏胶为丙烯酸类高黏胶、有机硅类高黏胶和聚氨酯类高黏胶中的任意一种；所述硅胶层的原料为有机硅胶。
[0020]优选的，所述纳米银颗粒为粒径在10-100nm的纳米银颗粒。
[0021]本发明通过采用粒径在10-100nm的纳米银颗粒，抗电磁波效果好。
[0022]优选的，所述增稠剂为维卡软化点在135-155°C、熔点在165-185 °C、相对密度1.06-1.18g/cm3的乙基纤维素。
[0023]本发明通过采用维卡软化点在135-155 °C、熔点在165-185 °C、相对密度
1.06-1.18g/cm3的乙基纤维素作为增稠剂，可以改善和增加抗电磁波高黏胶的粘稠度，增强稳定性。
[0024]优选的，所述分散剂为脂肪酸含量在85%_90%的山梨醇酐三油酸酯。
[0025]本发明通过采用脂肪酸含量在85%_90%的山梨醇酐三油酸酯作为分散剂，能将纳米银颗粒充分分散，防止纳米银颗粒沉降和凝聚，形成稳定的抗电磁波高黏胶。
[0026]所述溶剂是由松油醇1-5份和无水乙醇45-65份组成的混合物。
[0027]本发明通过采用松油醇和无水乙醇作为溶剂，并控制其重量比为1-5:45-65，溶解性好，有利于原料的溶解和分散。
[0028]一种具有抗电磁波效果的0CA光学胶膜的制备方法，包括如下步骤:
(1)制备复合膜A:
取重离型膜，在重离型膜的一面进行电晕处理后涂布一层抗电磁波高黏胶，高温固化，形成抗电磁波高黏胶层，在抗电磁波高黏胶层的另一面贴合第一轻离型膜，制得复合膜A ;
(2)制备复合膜B:
取中离型膜，在中离型膜的一面进行电晕处理后涂布一层硅胶，高温固化，形成硅胶层，在硅胶层的另一面贴合第二轻离型膜，制得复合膜B ;
(3)制备具有抗电磁波效果的0CA光学胶膜:
将复合膜A撕去第一轻离型膜，将复合膜B撕去第二轻离型膜，将复合膜A的抗电磁波高黏胶层与复合膜B的硅胶层贴合，制得具有抗电磁波效果的0CA光学胶膜。
[0029]本发明的制备方法工艺简单，操作控制方便，质量稳定，生产效率高，生产成本低，适合大规模工业化生产。
[0030]所述第一轻离型膜为剥离力在l_5g的第一轻离型膜；所述第二轻离型膜为剥离力在l_5g的第二轻离型膜；所述第一轻离型膜、第二轻离型膜均为PET轻离型膜、PE轻离型膜、0ΡΡ轻离型膜、Β0ΡΕΤ轻离型膜或Β0ΡΡ轻离型膜；所述第一轻离型膜、第二轻离型膜的厚度均为23-100 μ m。
[0031 ] 优选的，所述步骤(1)和所述步骤(2 )中，高温固化的温度为100-200 °C，高温固化的时间为l-3min。
[0032]本发明通过将高温固化的温度控制在100-200 °C，高温固化的时间控制在l-3min，固化速度快，固化效果好。
[0033]所述涂布工艺可以为凹版涂布、刮刀涂布、挤出涂