盐酸伐昔洛韦片制备用贴标机的制作方法

文档序号:12690451阅读:388来源:国知局
盐酸伐昔洛韦片制备用贴标机的制作方法与工艺

本实用新型涉及贴标机设备技术领域,尤其涉及盐酸伐昔洛韦片制备用贴标机。



背景技术:

贴标机是指采用黏合剂或其他方式将标签展示在包装件或产品上的机械。

黏合贴标机是一种常见的贴标机,按取标签方式不同可分为机械式、真空转转鼓式、取标板式黏合贴标机等多种形式,其中,糨糊是最常见的黏合剂之一,当糨糊搅拌不充分或者有干糨糊时,糨糊就达不到要求的黏度,就会使得贴标质量不佳甚至会损坏机器。

专利一种贴标机取标板(授权公告号CN 203581503U),公开了一种贴标机取标板,其包括连接在取标轴上且呈扇形的支撑体和连接在支撑体的圆弧表面上的橡胶层,橡胶层的侧部边缘与橡胶层的取标面之间的夹角为钝角,橡胶层上设有间隔设置且沿轴向延伸的多道排气槽;橡胶层的取标面上设有沿其圆弧方向设置的多道取标槽;橡胶层的侧部边缘上还设有至少一个向内凹进的取标口;排气槽共设置四道且对称设置,具有有效避免清洗时橡胶层的磕碰且有利于排除气体的优点,但是无法保证黏合剂的强度。



技术实现要素:

本实用新型目的在于解决现有技术中存在的上述技术问题,提供的一种可以使得贴标糨糊搅拌均匀,贴标更服帖的盐酸伐昔洛韦片制备用贴标机。

为了解决上述技术问题,本实用新型采用如下技术方案:

包括输送链、星形拨轮和工作台,所述工作台和所述输送链通过导板连接,所述工作台上设有升降柱,所述升降柱上设有糨糊槽和一水平滑槽,所述糨糊槽通过所述水平滑槽可在所述升降柱上水平滑动,所述糨糊槽上方设有可在所述升降柱上垂直移动的喷淋装置和搅拌装置。

优选地,所述喷淋装置包括集水箱和一喷淋头。

优选地,所述搅拌装置包括电机和与所述电机通过输出轴相连接的搅拌叶,使用电机搅拌,自动化更高,搅拌糨糊更均匀充分。

优选地,所述搅拌叶的个数为2-5个。

优选地,所述升降柱上还设有一排水箱,所述排水箱位于所述糨糊槽下方,并可以在所述升降柱上垂直移动,可以将清洗之后的水排至排水箱。

优选地,所述糨糊槽底部还设有一可移动挡板。

本实用新型具有以下有益效果:通过在糨糊槽上设置搅拌装置和喷淋装置,使得糨糊槽内的糨糊得到充分搅拌使其不会过于粘稠,糨糊使用完后对糨糊槽进行及时清洗,防止糨糊干掉,提高了贴标的效率以及贴标机的使用寿命。

附图说明

下面结合附图对本实用新型作优选的说明:

图1为本实用新型盐酸伐昔洛韦片制备用贴标机整体结构示意图;

图2为本实用新型盐酸伐昔洛韦片制备用贴标机升降柱结构示意图;

图3为本实用新型盐酸伐昔洛韦片制备用贴标机水平滑槽结构示意图;

图4为本实用新型盐酸伐昔洛韦片制备用贴标机糨糊辊和取标杆结构示意图。

图中标记为:1、输送链;2、星形拨轮;3、工作台;4、导板;5、升降柱;6、糨糊槽;7、水平滑槽;8、喷淋装置;9、搅拌装置;10、集水箱;11、喷淋头;12、电机;13、搅拌叶;14、排水箱;15、可移动挡板;16、打印机;17、取标杆;18、糨糊辊。

具体实施方式

如图1至图4所示,为本实用新型一种盐酸伐昔洛韦片制备用贴标机,包括输送链1、星形拨轮3和工作台3,工作台3和输送链1通过导板4连接,工作台3上设有升降柱5,升降柱5上设有糨糊槽6和一水平滑槽7,糨糊槽6通过水平滑槽7可在升降柱5上水平滑动,糨糊槽6上方设有可在升降柱5上垂直移动的喷淋装置8和搅拌装置9。

喷淋装置8包括集水箱10和一喷淋头11。

搅拌装置9包括电机12和与电机12通过输出轴相连接的搅拌叶13,使用电机搅拌,自动化更高,搅拌糨糊更均匀充分。

搅拌叶13的个数为2-5个。

升降柱5上还设有一排水箱14,排水箱14位于糨糊槽6下方,并可以在升降柱5上垂直移动,可以将清洗之后的水排至排水箱14。

糨糊槽6底部还设有一可移动挡板15。

本实用新型的工作方式:

容器由输送链1被星形拨轮2等间距分开,导板4将容器送至工作台3,当容器到达取标杆17位置时,取标杆17在糨糊辊18粘上糨糊,取标杆17将标签贴到容器上,再送至打印机16打印标签,贴好标签的容器再由导板4送出。

糨糊辊18在糨糊槽6内旋转时,糨糊辊18就会粘上一层糨糊,当糨糊时间放置过久就会过于粘稠,此时升降柱5上的搅拌装置9下降到糨糊槽6的位置并对糨糊进行充分搅拌,若糨糊已经接近干状,喷淋装置8下降到糨糊槽6,并对糨糊槽6进行适量喷水再进行搅拌,糨糊槽6内的糨糊用完时,及时用喷淋装置8对糨糊槽6及糨糊辊18进行清洗,以免糨糊槽6和糨糊辊18上有干糨糊,会使得糨糊涂抹不均匀,甚至会损坏机器,糨糊槽6还可以在水平滑槽7上水平移动,可以使其在喷淋头11的作用下清洗得更全面。

以上仅为本实用新型的具体实施例,但本实用新型的技术特征并不局限于此。任何以本实用新型为基础,为解决基本相同的技术问题,实现基本相同的技术效果,所作出的简单变化、等同替换或者修饰等,皆涵盖于本实用新型的保护范围之中。

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