一种陶瓷坯体喷釉装置的传输装置的制作方法

本实用新型涉及陶瓷生产设备领域，具体涉及一种陶瓷坯体喷釉装置的传输装置。

背景技术：

在陶瓷坯体的生产加工过程中，需要对陶坯进行上釉，通常地，上釉工序主要以手工上釉、浸釉、喷釉的方式进行，后者相对于前者具有成本低，不出现挂釉，釉面厚薄均匀的优势，故被广泛运用于陶瓷生产业。

目前部分陶瓷喷釉加工生产线，采用将陶坯置于支架上，旋转陶坯使之相对于喷釉喷头旋转的方式，使薄釉喷雾均匀覆盖与陶坯表面，对于此喷釉方法，支架与陶坯之间的接触位点容易遮蔽薄釉喷雾，导致釉面喷涂不均匀；且在旋转过程中，架于支架上的陶坯在旋转时容易因旋转过程，陶坯底部相对于与支架产生滑移而使陶坯跌落，且对于不同尺寸的杯、碗、盘的喷釉工序中，需要更换不同尺寸的支架，操作较为不便。

技术实现要素：

本实用新型的目的在于提供一种陶瓷坯体喷釉装置的传输装置，通过设置弹性软架作为支撑陶坯的架体，在支架旋转过程中，能够实现防跌落功能，且在不同尺寸杯、碗、盘的喷釉工序中，弹性软架可起到良好的承托效果，并且在喷釉过程中接触位点较小，可尽可能地保持喷釉的均匀度。

为实现上述目的，本实用新型采用以下技术手段加以实施：

一种陶瓷坯体喷釉装置的传输装置，包括电机、经第一电机驱动的一对左右对称全等的，链条轮转轴呈水平向的循环传输链条、机架，两循环传输链条之间联结有若干水平横架，各根水平横架左右两侧分别与左右循环传输链条的其中一个链节相互固定，各水平横架中央固定设置有一个呈竖直的支架座，每个支架座上设置有一个支架，支架转轴可自转且不脱落地轴接于支架座的筒状孔内，其支架以支架转轴轴心为几何中心向斜上方延伸设置有三根以上等分设置的分叉支架，且设置有自各分叉支架顶部向支架转轴轴心为几何中心延伸设置弹性软架；沿循环传输链条上水平段设置有支架座旋转驱动装置，所述的旋转驱动装置通过与位于循环传输链条上水平段的支架转轴间发生相对位移使支架旋转。

上述技术方案中，所述的支架转轴外膨形成一同轴的从动轮，所述的从动轮与分叉支架分别设置于支架座的两侧，通过从动轮和分叉支架的限位作用使支架转轴可自转且不脱落地轴接于支架座的筒状孔内。

进一步的，所述的旋转驱动装置包括循环皮带和驱动循环皮带的第二电机，所述的循环皮带的皮带轮转轴呈垂向设置，且所述的循环皮带接近传输链条的一侧水平段与循环链条的上水平段相平行设置，循环皮带通过与位于循环传输链条上水平段的支架转轴和/或从动轮间发生相对位移使支架旋转。

更进一步的，所述的循环皮带设置于传输链条上水平段和下段之间围合的空间内。

上述技术方案中，所述的各水平横架的左右两侧均分别设置有前、后小轮，当所述的水平横架对应的链节运行到循环传输链条的上水平段时，该水平横架的四个小轮支撑在左右两条与循环传输链条平行设置的左右导轨上。

作为一种有效的实施例，所述的支架以支架转轴轴心为几何中心向斜上方延伸设置有三到五根等分设置的分叉支架，且所述的弹性软架自各分叉支架顶部向几何中心的延伸段均至少有一同向旋转的扭曲段。

进一步的，所述的弹性软架在未置物状态下呈水平状，所述的每一分叉支架与支架转轴之间的夹角为110°~150°。

作为一种有效的实施例，所述的旋转驱动装置通过与位于循环传输链条上水平段中部到长度区间的支架转轴间发生相对位移使支架旋转。

本实用新型至少具有以下有益之处：

1.通过弹性软架的支架结构，对于多种不同尺寸的杯、碗、碟陶坯均能置于其上，在自重作用下向弹性软架施压并陷入弹性软架内，两者的接触位点较小，且具有较优良的防滑性能，在支架旋转的过程中，能够减少陶坯与弹性软架之间向滑移的可能性；

2.通过合理设置支架座、水平横架、旋转驱动装置的结构，以及驱动支架旋转的方式，有助于支架自身的稳定性以及旋转过程的稳定性，当设置旋转驱动装置有足够的区间，与循环传输链条上水平段上的支架转轴间发生相对位移使支架旋转时，可供喷釉装置留有足够的空间进行喷釉加工动作；

3.当设置弹性软架维持在合理数目时，并且设置弹性软架自各分叉支架顶部向几何中心的延伸段均至少有一同向旋转的扭曲段时，在支架被旋转驱动装置带动时，陶坯与弹性软架的接触位点为陶坯提供摩擦力，使陶坯被带动，各扭曲段的扭曲节因陶坯的惯性被扭动，而使陶坯与弹性软架的接触位点发生移动，在此过程中薄釉喷雾可与原被遮蔽的接触位点接触，使喷釉的过程更为均匀。

附图说明

图1是本实用新型的示意图；

图2是本实用新型的循环传输链条和支架的示意图；

图3是本实用新型支架的另一结构示意图。

具体实施方式

为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更容易被理解，以下结合实施例，对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅用以解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。

实施例

如图1-3所示，一种陶瓷坯体喷釉装置的传输装置，包括电机、经第一电机21驱动的一对左右对称全等的，链条轮转轴呈水平向的循环传输链条2、机架1，两循环传输链条2之间联结有若干水平横架12，各根水平横架12左右两侧分别与左右循环传输链条2的其中一个链节相互固定，各水平横架12的左右两侧均分别设置有前、后小轮13，当所述的水平横架12对应的链节运行到循环传输链条2的上水平段时，该水平横架12的四个小轮13支撑在左右两条与循环传输链条2平行设置的左右上导轨11上，当所述的水平横架12对应的链节运行到循环传输链条2的下水平段时，该水平横架12的四个小轮13支撑在左右两条与循环传输链条2平行设置的左右下导轨14上，

各水平横架12中央固定设置有一个呈竖直的支架座15，每个支架座15上设置有一个支架3，如图2所示，其支架3以支架转轴34轴心为几何中心向斜上方延伸设置有四根以上等分设置的分叉支架31，且设置有自各分叉支架31顶部向支架转轴34轴心为几何中心延伸设置弹性软架32；支架转轴34下端外膨形成一同轴的从动轮33，所述的从动轮33与分叉支架31分别设置于支架座15的两侧，通过从动轮33和分叉支架31的限位作用使支架转轴34可自转且不脱落地轴接于支架座15的筒状孔内；

如图2，沿循环传输链条2上水平段设置有支架座15旋转驱动装置，在本实施例中，旋转驱动装置包括循环皮带4和驱动循环皮带4的第二电机22，所述的循环皮带4的皮带轮转轴呈垂向设置，且循环皮带4位于传输链条上水平段和下水平段之间围合的空间内，循环皮带4接近传输链条的一侧水平段与循环链条的上水平段相平行设置，循环皮带4通过与位于循环传输链条2上水平段的从动轮33之间发生相对位移，从而使支架3旋转。

基于为喷釉装置留有足够的空间进行喷釉加工动作的目的，如图1所示，旋转驱动装置通过循环皮带4与位于循环传输链条2上水平段中部到长度区间的支架转轴34的从动轮33间发生相对位移使支架3旋转，当支架3运行至该区间时，循环皮带4在第二电机22的带动下运动，使循环皮带4摩擦从动轮33，另可根据需要调节第一电机21和第二电机22的相对运行速度，以获得支架3稳定运行与旋转的效果，喷釉装置的薄釉喷雾可均匀覆盖陶坯上。

作为一种有效的改进，如图2或3所示，所述的支架3以支架转轴34轴心为几何中心向斜上方延伸设置有三到五根等分设置的分叉支架31，且所述的弹性软架32自各分叉支架31顶部向几何中心的延伸段均1-2个同向旋转的扭曲段，弹性软架32在未置物状态下呈水平状，所述的每一分叉支架31与支架转轴34之间的夹角为110°~150°，在此设置方式下，可适应于大多数杯、碗、碟的放置，对于杯、碗、碟，均可以正置或反置的方式摆放，并在旋转以及喷釉工序中，均可维持稳定放置，且被旋转驱动装置带动时，通过扭曲段被扭动可使陶坯与弹性软架32的接触位点发生移动，在此过程中薄釉喷雾可与原被遮蔽的接触位点接触，使喷釉的过程更为均匀。

以上所述，仅为本实用新型较佳的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，可轻易想到的变化或替换，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。因此，本实用新型的保护范围应该以权利要求的保护范围为准。