专利名称：蚀刻速率控制的制作方法
技术领域：
本发明涉及光化学蚀刻以在基底上形成空腔。
背景技术：
光化学蚀刻通常包括在已涂覆光刻胶材料层的可蚀刻基底上放置掩模，然后曝光该光刻胶材料。如果使用负性光刻胶，则曝光区域的光刻胶被固化并且耐化学蚀刻剂。用溶剂洗去未曝光的光刻胶区域，使得下面的基底层的一部分未被覆盖以备蚀刻。如果使用正性光刻胶，则曝光区域不牢固并易于洗去。
当已施用光刻胶掩模时，将化学蚀刻剂施用到基底以在基底上未覆盖的区域产生空腔。通常的应用，例如用于制造钩子紧固件的微钩模，寻求制造具有复杂形状的非常小的模。美国专利US5900350描述了一种为钩子紧固件产生微钩模的方法，并且其全文通过引用在此纳入。
发明概述一方面，本发明的特点在于一种在基底(例如，微钩模板、半导体冲模、光学镜片板等)上形成空腔的方法，其包括在基底上形成一个具有蚀刻剂通过区和蚀刻剂阻滞区图案的光刻胶材料层。将化学蚀刻剂施用到基底上，使得蚀刻剂通过蚀刻剂通过区并底蚀蚀刻剂阻滞区，以在基底上的蚀刻剂通过区和蚀刻剂阻滞区下面形成单独连续的空腔。
在某些结构中，在第一模板上形成的光刻胶材料图案层包括将光刻胶材料施用于基底的至少一面；在光刻胶材料上放置具有遮蔽区的掩模，适于部分阻挡位于遮蔽区之下的光刻胶材料；以及使通过掩模的光曝光光刻胶材料。如果使用负性光刻胶，未曝光区域被除去，以产生具有蚀刻剂通过区和蚀刻剂阻滞区图案的光刻胶材料层。如果使用正性光刻胶，曝光区域被除去以产生图案层。某些结构中的光刻胶的蚀刻剂通过区可以包括由蚀刻剂阻滞区限定的孔，并且蚀刻剂阻滞区可以包括由无光刻胶材料的蚀刻剂通过区包围的光刻胶材料的离散、限定区域。蚀刻剂通过区和蚀刻剂阻滞区的图案可以为一致的以形成深度基本一致的空腔，或者也可以为非一致的以形成具有不同深度的空腔。在某些结构中，当施用蚀刻剂时，可以选择蚀刻剂通过区和蚀刻剂阻滞区以形成延伸完全穿过基底的空腔。
在某些结构中，基底可以是适合与一个或多个附加板组装的模板，以限定用于接触紧固件的钩子组件上的钩子或杆的模。
另一方面，本发明的特点在于一种在基底上形成空腔方法，该方法包括将光刻胶材料施用到基底上；在光刻胶材料上放置具有遮蔽区的掩模，适于部分阻挡位于遮蔽区下面的光刻胶材料曝光；使通过掩模的光曝光光刻胶材料；以及向该板施用化学蚀刻剂使得在基底上对应于掩模遮蔽区的区域内形成单独的连续空腔。
另一方面，本发明的特点为一种形成片状产品的方法，该片状产品具有从宽表面延伸的凸出物阵列，该方法包括通过形成光刻胶材料层来在第一模板上形成空腔，所述光刻胶材料层包括在第一模板至少一面上的蚀刻剂通过区和蚀刻剂阻滞区的图案。将化学蚀刻剂施用到该板上，以使蚀刻剂底蚀蚀刻剂阻滞区以在该板上蚀刻剂通过区和蚀刻剂阻滞区下面的区域内形成单独的连续空腔。第一模板与一个或多个附加板组装以形成模具，空腔协同临近板的表面至少部分地限定从模表面向内延伸的模空腔阵列之一。将树脂施用到模表面并且迫使一些树脂进入模空腔以形成从形成于模表面上的树脂层整体延伸的凸出物阵列。
在某些结构中，第一模板的光刻胶图案层的形成包括将光刻胶施用到该板的至少一面上；在光刻胶上放置具有遮蔽区的掩模，适合部分阻挡位于遮蔽区下的光刻胶材料；以及使通过掩模的光曝光光刻胶材料。如果使用负性光刻胶，未曝光区域被除去以产生具有光刻胶通过区和光刻胶阻滞区的图案的光刻胶材料层。如果使用正性光刻胶，曝光区域被除去以产生图案层。
在某些结构中，光刻胶的蚀刻剂通过区可以包括由蚀刻剂阻滞区限定的孔，并且蚀刻剂阻滞区可以包括由无光刻胶材料的蚀刻剂通过区包围的光刻胶材料的离散、限定区域。蚀刻剂通过区和蚀刻剂阻滞区的图案可以是一致的以形成深度基本一致的空腔，或者也可以是不一致的以形成具有不同深度的空腔。
在某些结构中，在第一模板上形成的空腔是用于接触紧固件的钩子组件的钩子或杆形状。
另一方面，本发明特点在于一种形成用于制造片状产品的模(moldform)的方法，该片状产品具有从其宽表面延伸出的凸出物阵列，该方法包括将光刻胶材料施用到第一模板的至少一面；在光刻胶材料上放置具有遮蔽区的掩模，适于部分地阻挡位于遮蔽区下面的光刻胶材料曝光；以及使通过掩模的光曝光光刻胶材料。将化学蚀刻剂施用到该板上，从而在该板上与掩模遮蔽区对应的区域上形成单独连续的空腔。第一模板与一个或多个附加模板组装以形成模，使得空腔协同相邻板的表面至少部分地限定出从该模表面向内延伸的one or an array of模空腔。
在某些结构中，掩模的遮蔽区包括使用高分辨率绘图机或打印机印刷在非不透明片(例如Mylar胶片)上的光阻滞区和光通过区图案(例如，由光阻滞区限定的孔或由无掩模材料的光通过区包围的掩模材料的离散、限定区域)。掩模的遮蔽区可以包括具有一致曝光密度的区域，使得施用到板上的化学蚀刻剂得以在与具有一致曝光密度的掩模遮蔽区对应的区域产生深度大致一致的空腔。遮蔽区域可以包括具有不一致的曝光密度的区域，使得施用到板上的化学蚀刻剂得以在与具有不一致曝光密度的掩模遮蔽区对应的区域产生具有不同深度的空腔。掩模也可以包括第二区，该第二区适于完全阻挡位于第二区之下的光刻胶材料曝光。
在某些结构中，可蚀刻板限定某些截面形状(例如，圆形、矩形等)的周长并且空腔是被沿着该板的周长蚀刻的。板中形成的空腔可以具有钩子形状，例如这样一种形状，其包括底部和顶端且横截面积从空腔的底部到顶端逐渐减少。空腔也可以具有这样的钩子形状，其包括邻接弯曲部分的底座部分和至少一个从底座部分或弯曲部分凸出的倒钩。在其他结构中，空腔可以具有杆的形状。
本发明一个或更多个实施方案的细节在下面的附图和说明中展现。本发明的其他特点、目的、和优点可以从说明书、附图和权利要求中体现。
图1是钩子模的侧视图。
图2-3是图1中钩子模的剖视图。
图4-5是摈触紧固件的钩子组件图。
图6是制造模制成型的钩子组件过程的示意图。
图7A-7C是制造模制成型的钩子部件的模制辊的示意图。
图8是用于产生钩子模空腔的掩模的示意图。
图9A-9D是说明产生钩子模空腔过程的系列示意图。
图10A-10D为产生具有在基底上深度逐步增加的空腔的过程的系列示意图。
图11A-11C用于产生钩子模空腔的掩模示意图。
图12A和13A是用于制造分别示于图12B和13B的钩子的掩模的示意图。
图12B和13B是使用由分别示于图12A和13A的掩模制造的模形成的钩子部件的前视图。
图14A-14C是用来产生钩子模空腔的掩模的示意图。
图15A、15C、15E、16A和17A是用来产生分别示于图15B、15D、15F、16B和17B的钩子和杆的掩模的示意图。
图15B、15D和15F是使用由分别示于图15A、15C和15E的掩模形成的模成型的钩子部件的前视图。
图16B是如图16A所示的掩模产生的杆的透视图。
图17B是如图17A所示的掩模产生的杆的顶视图。
图18A是用来产生如图18B-18C所示的杆的掩模的示意图。
图18B和18C是由图18A所示的掩模成型的杆的侧视图和剖面图。
图18D是由图18B-18C所示的杆形成的杆状钩子的示意图。
图19是用来制造带有环状转向器的钩子模的空腔的掩模的示意图。
相同附图标记在不同附图中代表相同部件。
发明详述参考图1-3，用来形成接触紧固件的钩子组件的钩子的模空腔10限定底座部分12和弯曲部分14并且具有高度H。模空腔10的底座部分12的横截面在空腔的一个边缘16的宽度W1逐渐扩展到中心部分18的宽度W2并且在空腔的另一边缘20逐渐缩小到宽度W1。相似的，模空腔的弯曲部分14的横截面在空腔的一个边缘22的宽度W1逐渐扩展到中心部分24的宽度W2并且在空腔的另一边缘26逐渐缩小到宽度W1。模空腔的增厚部分，例如18、24部分，有利于为由模空腔10形成的钩子提供强度和弹性。
参考图4和5，接触紧固件的钩子组件30包括片状底部32和平行的多排整体模制成型的钩子部件34。模制成型的钩子部件由类似于如图1和2所示模空腔形成，并且因此具有范围从W1到W2逐渐变化的横截面宽度。防破裂的凸起(未示出)，即已知的在底部上各排整体模制成型的钩子部件间的间隔中升高的局部区域，依据应用的需要，既可以与钩子部件对齐也可以偏离钩子部件。
在一种实施方式中，每直线英寸约有24个钩子部件(每直线厘米9.44个钩子部件)。钩子部件优选以约0.008英寸(0.203毫米)的距离36从侧面(即机器横截面方向)间隔开，并且底部12的最大厚度W2为约0.006英寸(0.152毫米)。这样得到在机器横截面方向的密度约为每英寸71个钩子部件(每直线厘米27.95个部件)。因此，在本实施方式中每平方英寸约为1700个钩子部件(每平方厘米263.5个部件)。
如图6所示，制造这种模制成型的钩子部件的方法需要将熔融树脂40挤入冷却的模制辊42和施压辊44之间形成的辊隙。冷却模制辊在其外围具有构造成产生钩子部件的模空腔10。可以从支持辊48向辊隙供应例如织布或无纺布的支持片材46。此支持片材可以包括适于与钩子部件接合的环。然后，所得的紧固部件将包括用被称为原处层压(in situ laminating)的方法结合到支持片材的钩子部件。该方法在美国专利US5900350中有详细描述和阐明。
参考图7A-7C，模制辊42包括安装在冷却的中心桶52上的系列工具环50。这些环在轴向上被压制在一起以形成柱面。模空腔10沿一对相邻的工具环的外围设置，例如沿工具环50a、50b。间隔环54设置于各对相邻工具环之间以提供需要的各排模空腔间的间距(例如图5中所示尺寸36)。按照具体应用的需要，为模空腔与任何凸起或工具环上的其它结构提供预定的关系以为底部上的钩子部件提供需要的关系。虽然在本实施方式中所有的由模板配合对形成的模空腔10都是相同的，但在其他实施方式中可以使用由模板配合对形成的各种模空腔。
模空腔10通过化学蚀刻方法沿工具环的外围形成。在一种实施方式中，由17-7PH不锈钢或其他对化学蚀刻剂敏感的材料形成的工具环被涂覆有负性光刻胶材料层。如图8所示，在光刻胶上放置掩模然后曝光。光刻胶未曝光的区域(即在掩模被涂黑部分之下的区域)用溶剂除去，例如含水的碱性溶液，这使得下面的基底未被覆盖以备蚀刻。然后，工具环被置于机器上并以强酸喷涂，这样来除去工具环的曝光区域。
参考图9A-9D，蚀刻深度通过掩模遮蔽区域的曝光密度控制。特别是，当使用负性光刻剂时，与在掩模之下具有较高曝光密度的区域(例如掩模60的遮蔽区域62)相比，在掩模之下具有低曝光密度的区域(例如掩模60被完全涂黑的区域61)将会导致较深的蚀刻。参考图9A，可蚀刻工具环50被负性光刻胶材料64涂覆，并且在被涂覆的基底上放置图案掩模60。该掩模限定光阻滞区60b和光通过区60a。光刻胶材料暴露于光65导致曝光区域固化且耐化学蚀刻剂，形成蚀刻剂阻滞区59。光刻胶的未曝光区域(即掩模被涂黑部分之下的区域)被洗掉以形成蚀刻剂通过区63，并且将化学蚀刻剂喷涂到工具环上。在板上的曝光区域间存在相对较大间隙的区域中，例如图8中所示掩模60中完全被blocked-out的区域61，蚀刻剂蚀刻出深度为1/2W2的相对较深的空腔66。在板上的曝光区域临近的区域中，例如掩模60的遮蔽区62，蚀刻剂蚀刻出一系列浅空腔67，所述浅空腔完全底蚀固化光刻胶的相邻区域以在掩模遮蔽区域之下形成深度1/2W1的单独空腔68a、68b。
类似的，如图10A-10D所示，使用具有一系列长度递增的光阻滞区的掩模69，形成深度从深度相对较浅端71a到深度相对较深端71b逐步变化的空腔70。特别是，如图10A所示，负性光刻胶材料64涂覆可蚀刻基底72，并且将掩模69应用到光刻胶材料64的上部。掩模69上具有光通过区73a-73e之间的距离从图案的一端到另一端逐步增加的图案(即，D1＜D2＜D3＜D4)。光刻胶材料暴露于通过掩模的光65，并且除去未曝光的区域(即，掩模光阻滞区之下的范围)，在基底上留下相似蚀刻剂通过区74a-74d和蚀刻剂阻滞区75a-75e的图案。然后将化学蚀刻剂施用到制得的基底上，以产生与蚀刻剂阻滞区之间逐步增加的距离相对应的一系列逐步加深的蚀刻。蚀刻剂底蚀蚀刻剂阻滞区75b-75d的内部，从而产生具有深度逐渐变化的连续空腔。
在一种实施方式中，遮蔽掩模，例如图8中所示的掩模60，通过使用高分辨率绘图机(例如10000dpi)在非不透明材料片材(例如玻璃板或塑料膜，如由公司总部设于Wilmington，DE的E.I.du Pont de Nemours制造的Mylar)上绘制掩模图案而形成。其它实施方式可以使用其它已知的技术来制造光刻胶掩模，例如直接在基底上印刷具有选定图案的光刻胶或用高分辨率印刷机印刷掩模。如图11A-11C所示，掩模可以使用各种图案来控制蚀刻深度，包括点、孔、线、交叉影线(crosshatch)或它们的组合。
在光蚀刻过程中使用遮蔽光刻胶掩模提供了一种用于制造多种形状和特点的钩子的经济合算的技术。例如，如图12A-12B所示，用具有遮蔽的弯曲部分和被完全blocked-out的底座部分89的掩模86形成具有较宽底座部分82和较窄弯曲部分82的钩子80。
类似地，如图13A-13B所示，用在底部98紧密遮蔽且沿掩模长度方向逐渐较少紧密遮蔽的掩模96形成从宽底部92到狭窄的弯曲94逐渐变化的钩子90。弯曲部相对较薄的圆锥状钩子，例如图13B所示，能有效地抓住环。可是，如果钩子的弯曲部分太薄，在使用过程中钩子易于变形和破损。
例如图14A中所示的掩模100的掩模可以被用于保持圆锥状顶端102以有效地抓住钩子，同时具有增厚部分104以增加钩子弯曲部分的强度和弹性。
因为钩子的钩状部分通常与其底部相比相当地窄，以一致遮蔽的掩模(例如，被完全涂黑的掩模)蚀刻的模空腔通常其顶端比其底部浅，因此产生顶端比底部窄的钩子。这种蚀刻差异可以用例如图14B中所示的掩模104的掩模补偿，所述掩模完全遮住了模空腔顶端108且部分遮住了底部110。
参考图14C，通过使用掩模112形成具有狭窄中间区的钩子，该掩模112部分遮住模空腔的中间区114且完全遮住模空腔的底部116和顶端118。这种狭窄的中间区有利于与环的有效和长期接合。
如图15A-15F所示，使用在需要倒钩的位置136被blocked-out或非常紧密的遮蔽区的掩模130、132、134将倒钩122或其它抓握特点结合到钩子124、126、128中。位于或接近于例如图15D中所示的钩子126的钩子末端的倒钩也有利于与环的长期接合，并且可以导致密闭强度性能增加。
遮蔽的掩模可以被用于制造接触紧固件的钩子部件的模板，所述钩子部件使用美国专利申请US10/455,240中描述的杆或杆状钩子，该申请提交于2003年6月4日，名称为“钩和环紧固件”，申请人为MarkA.Clarner、GeorgeA.Provost和William L.Huber，该申请通过引用的方式在此全部纳入。例如，如图16A-16B所示，用具有较密的遮蔽区146和较疏的遮蔽区144的交替带的掩模142形成杆状钩子140。类似地，如图17A-17B所示，使用在两个较疏的遮蔽带156中间具有较密的遮蔽带的掩模152形成四叶杆150。具有密度朝侧面逐渐降低的紧密遮蔽区域的掩模，例如图18A所示的掩模166，可以被用于制备圆柱形杆168，如图18B-18C所示。杆168可以被再成型(postform)成如图18D中所示的钩子170的杆状钩。
如图19所示，掩模160包括钩子元件162的遮蔽区和一对钩子转向元件的两个紧密遮蔽区域164。钩子转向元件为在某些应用中引导钩子元件周围的环的脊状物或凸起。在本实施例中，掩模164的钩子转向部分被紧密的遮蔽，以产生较深蚀刻，从而导致较大的、更有效的环转向器。
已经描述了本发明的许多实施方式。然而，可以理解的是在不离开本发明精神和范围的情况下，可以做出各种改变。例如，上述各实施例中均使用了负性光刻胶。虽然从成本上考虑目前优选负性光刻胶，但也可以使用正性光刻胶。当使用正性光刻胶时，曝光区域是不牢固的且变得可溶并且因此易于被除去，且光刻胶残余部分(即由掩模覆盖的区域)保留在板上。因此，适用正性光刻胶的掩模将会是适用负性光刻胶的掩模的负像。
如美国专利US5900350中详细说明的，由例如图6中所示的辊42的模制辊形成的钩子在模制过程中经常变形，使得所得的钩子与模的形状不同。因此，可以用掩模形成模空腔，该掩模补偿了在生产所需形状的钩子的模制过程中发生的变形。其它的实施方式也可以使用具有遮蔽区的掩模来控制在此公开描述的所得模空腔的深度，并且使用在美国专利US5900350中描述的变形补偿技术。
此外，在适合生产钩子紧固件的工具环上不必形成模空腔，所述紧固件如图6所示通过将熔融树脂通过冷却模制辊和施压辊之间形成的辊隙而形成，但可以在适于用其他技术生产紧固件的板上形成。例如，可以在具有直边的可蚀刻板的外围上形成一系列模空腔，当其被组装在一起时形成具有一系列模空腔的总体平坦的模组件。然后，钩子紧固件可以通过注射或浇铸熔融树脂到平坦的模组件或通过以平坦的模组件压印熔融树脂片材而制造。
此外，所述的制备微钩模空腔的技术可以被扩展到各种在基底蚀刻空腔的光化学蚀刻应用中，例如由玻璃基底形成透镜、由金属基底制备锥形磁盘驱动数据磁头、或由半导体基底制备集成电路。
因此，其它的实施方式在后附的权利要求的范围内。
权利要求
1.形成片状产品的方法，所述片状产品具有从其宽表面延伸的凸出物(34)阵列，该方法包括在第一模板(50)上形成空腔，包括在该第一模板(50)的至少一面上形成光刻胶材料层(64)，该光刻胶材料层包括蚀刻剂通过区(63)和蚀刻剂阻滞区(59)的图案；和将化学蚀刻剂施用到该板上使得蚀刻剂底蚀该蚀刻剂阻滞区以在该板上在所述蚀刻剂通过区和蚀刻剂阻滞区的图案下面的区域内形成单独的连续空腔(68a、68b)；用一个或多个附加板与第一模板组装以形成模(42)，该空腔协同相邻板的表面以至少部分限定从该模表面向内延伸的模空腔(10)阵列之一，和将树脂(40)施用到该模的表面且迫使一些树脂进入模空腔以形成从形成在该模表面的树脂层(32)整体延伸的凸出物(34)阵列。
2.权利要求1所述的方法，其中该蚀刻剂通过区(63)包括由所述蚀刻剂阻滞区(59)限定的孔。
3.权利要求1或2所述的方法，其中蚀刻剂阻滞区域(59)包括由无光刻胶材料的由蚀刻剂通过区(63)包围的光刻胶材料(64)的离散、限定区域。
4.上述任一权利要求的方法，其中蚀刻剂通过区(63)和蚀刻剂阻滞区域(59)的图案是一致的。
5.权利要求4所述的方法，其中在板(50)上形成的空腔(10)在所述图案下的区域中具有大致一致的深度。
6.上述任一权利要求的方法，其中蚀刻剂通过区(63)和蚀刻剂阻滞区(59)的图案是不一致的，使得在板(50)上形成的空腔(10)在所述图案下的区域中具有不同的深度。
7.上述任一权利要求的方法，其中该空腔(10)为钩子形，或该空腔为杆形。
8.上述任一权利要求的方法，其中形成光刻胶材料(64)层包括将光刻胶材料施用到第一模板的至少一面上；将掩模(60)放置在光刻胶材料上，该掩模包括遮蔽区(62)，适于部分阻挡置于该遮蔽区之下的光刻胶材料曝光；和以通过掩模的光曝光该光刻胶材料。
9.权利要求8所述的方法，其中光刻胶材料(64)包括负性光刻胶材料并且以光(65)进行曝光来将光刻胶材料固化到板(50)上，使得未曝光的光刻胶材料被除去。
10.形成用于形成片状产品的模(42)的方法，所述片状产品具有从其宽表面延伸的凸出物(34)阵列，该方法包括将光刻胶材料(64)施用到第一模板(50)的至少一面；将掩模(60)放置在该光刻胶材料上，该掩模包括遮蔽区(62)，适于部分地阻挡置于该遮蔽区之下的光刻胶材料的曝光；以通过掩模的光曝光该光刻胶材料；和将化学蚀刻剂施用到该板上，使得在该板上对应于掩模遮蔽区的区域中形成单独连续的空腔(68a、68b)；用一个或多个附加板与第一模板(50)组装以形成模(42)，空腔(68a、68b)协同相邻板的表面至少部分地限定出从该模表面向内延伸的one or an array of模空腔(10)。
11.权利要求10所述的方法，其中光刻胶材料(64)包括正性光刻胶材料且以光(65)进行曝光使正性光刻胶材料降解，使得曝光的正性光刻胶材料被除去。
12.权利要求10或11所述的方法，其中掩模的遮蔽区(62)包括光阻滞区(60b)和光通过区(60a)的图案。
13.权利要求12所述的方法，其中该光通过区(60a)包括由光阻滞区(60b)限定的孔，和/或其中不透光阻滞区包括由无掩模材料的光通过区包围的掩模材料的离散、限定区域。
14.任一权利要求10到13所述的方法，其中掩模(60)的遮蔽区(62)包括线图案。
15.任一权利要求10到14所述的方法，其中掩模(60)的遮蔽区(62)包括具有一致曝光密度的区域，使得将化学蚀刻剂施用到该板上得以在对应于具有一致曝光密度的掩模遮蔽区的区域产生具有大致一致深度(1/2W1)的空腔(68a、68b)。
16.任一权利要求10到14所述的方法，其中掩模(60)的遮蔽区(62)包括具有非一致曝光密度的区域，使得将化学蚀刻剂施用到板上得以在对应于具有非一致曝光密度的掩模遮蔽区的区域产生具有不同深度的空腔。
17.任一权利要求10到16所述的方法，其中掩模(50)进一步包括第二区(61)，该第二区适于完全阻挡置于该第二区之下的光刻胶材料(64)曝光。
18.任一权利要求10到17所述的方法，其中空腔(10)具有包括底部和顶端且从该空腔的底部到顶端逐渐减少的横截面积的钩子形状。
19.任一权利要求10到18所述的方法，其中空腔(10)构形为形成具有钩子形状的紧固元件，该钩子形状包括底座部分和弯曲部分和从底座部分或弯曲部分凸出的至少一个倒钩(122)。
20.任一权利要求10到19所述的方法，进一步包括用绘图机形成掩模(50)。
全文摘要
在基底(例如，适于与一个或多个附加板组装以限定出模具(42)的模板(50)，模具(42)用于在接触紧固件的钩子组件上形成钩子或杆)的一面形成空腔(10)的方法，包括在基底上形成具有蚀刻剂通过区(65)和蚀刻剂阻滞区(59)图案的光刻胶材料(64)层；并且将化学蚀刻剂施用到基底上施用，使得蚀刻剂底蚀蚀刻剂阻滞区(59)以在基底中形成单独连续的空腔(68a、68b)。该空腔各个区域的相对蚀刻深度部分地由光刻胶材料中蚀刻剂通过区的密度控制。
文档编号B29C59/02GK1976789SQ200580021333
公开日2007年6月6日 申请日期2005年4月28日 优先权日2004年4月30日
发明者马克·A·克拉纳 申请人:维尔克罗工业公司