专利名称：还原焰隧道窑低温氧化区燃烧室温度均匀方法及装置的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种日用瓷气烧还原焰隧道窑低温氧化区燃烧室温度均匀 方法及结构装置，为日用瓷窑炉技术领域。 ，
背景技术：
日用瓷气烧还原焰隧道窑为满足陶瓷制品在烧结过程中的物理化学变 化的需要， 一般将窑炉划分为三个区氧化排烟区，还原高火保温区和急冷 缓冷区。在氧化排烟区设置有一定数量的烧咀，用于满足陶瓷制品氧化时所 必需的氧化气氛和对应的温度。
但是，现有的日用瓷气烧还原焰隧道窑低温氧化区燃烧室结构通常就是 烧咀砖的结构。这种结构的燃烧室的弊端在于
1、 易导致低温区的火焰"钢性"过强；
2、 烧咀附近及喷火口之间的温差较大；
3、 烧咀容易熄火。
因而陶瓷制品在其中的的受热不是均匀的，而是波浪式的。这样给制品 的烧成带来很多的缺陷开裂、阴黄、过火、冲泡、彩色不正等等；同时， 也导致窑炉烧成的能耗增高，给安全生产带来了较大的隐患。
改革低温氧化区燃烧室结构，研发一种新型的结构，便于还原焰陶瓷制 品的烧成，克服低温氧化控制不当带来的缺陷，具有重要的现实意义。 ，
发明内容
本发明所要解决的技术问题是提供一种科学合理、简单易行的日用瓷
气烧还原焰隧道窑低温氧化区温度均匀方法及其结构装置，以满足陶瓷制品 氧化时所必需的氧化气氛和必要的温度，同时保证温度的均匀性，保证火焰 的连续性。
本发明的目的是通过下述技术方案实现的， 一种日用瓷气烧还原焰隧道 窑低温氧化区燃烧室温度均匀方法，采用在烧咀的出口设置温度均匀燃烧室 的方式，使得燃气通过烧咀喷入进入燃烧室燃烧后，燃烧产物在经过均匀分 流后再进入窑内通道。
本发明的装置结构包括窑炉和烧咀，且烧咀是通过窑炉的侧面进入窑炉 内的，在窑炉的侧面的燃气入口处内面，烧咀的出口处扩散烧咀火焰，保证 火焰在燃烧室充分燃烧后合理的进入窑内通道。燃烧室的底面正对窑车台 面，烧咀中心正对下火道的中下部，可充分利用烧咀喷出火焰的动能，对窑 内燃烧产物进行搅拌，强化传热。燃烧室的烧咀选用燃气平焰烧咀，火焰长
度0.3 0.9m。燃烧室的截面尺寸必需保证以烧咀为中心，直径为300mm的 火焰有足够的燃烧空间。燃烧室的出口的张角取45°。燃烧室是直径为 350mm 560mm的半圆拱，长度200mm 350mm;燃烧室的大小取决于所 选取的燃烧室空间热强度。为保证火焰在燃烧室充分燃烧后合理的进入窑内 通道，在燃烧室出口设置分流装置。分流装置是由耐火砖在燃烧室内烧咀的 前面设置挡块形成。
这种日用瓷气烧还原焰隧道窑低温氧化区燃烧室结构的优点在于-1 、喷火口与产品间形成了 300mm 450mm开扩空间，扩大了幅射面积， 增加了幅射层的厚度，防止了局部温度超高；
2、当耐火砖分流装置中的耐火砖达到一定温度后，能较好地防止熄火
现象，保证了火焰的连续性；
3、喷火口与产品间的开扩空间和耐火砖分流装置共同改良了火焰的"钢 性"，更适合产品的低温氧化。
图1为原气烧还原焰隧道窑低温氧化区燃烧室结构示意图2为本发明的结构示意图3为本发明的k向视图。
具体实施例方式
下面结合实施例和附图对本实用新型作进一步说明。
实施例一
一种日用瓷气烧还原焰隧道窑低温氧化区燃烧室，采用在烧咀的出口设 置温度均匀燃烧室的方式，使得燃气通过烧咀喷入进入燃烧室燃烧后，燃烧 产物在经过均匀分流后再进入窑内通道。整个装置结构，包括窑炉1和烧咀 2，且烧咀2是通过窑炉的侧面3进入窑炉内的，在窑炉的侧面3的燃气入 口处内面4，烧咀的出口处5设有扩散角，保证火焰在燃烧室6充分燃烧后 合理的进入窑内通道。燃烧室6的底面正对窑车台面7，烧咀中心正对下火 道的中下部，可充分利用烧咀喷出火焰的动能，对窑内燃烧产物进行搅拌， 强化传热。燃烧室6的烧咀2选用燃气小功率平焰烧咀功率为25 KW， 火焰长度0.3 0.9m。燃烧室的截面尺寸必需保证以烧咀2为中心，直径为 300mm的火焰有足够的燃烧空间。燃烧室6的出口的张角取45°。燃烧室6 是采用双环拱形第一层拱8的直径560mm，拱厚为180mm;第二层拱9 的直径328mm，拱厚为180 mm，燃烧室体积25 X0.6/260=0.577 m3;燃
烧室空间热强度取260KW/m3;燃气通过烧咀2喷入烧咀砖进入燃烧室燃烧 后，燃烧产物再进入窑内通道。为保证火焰在燃烧室充分燃烧后合理的进入 窑内通道，在燃烧室出口设置分流装置IO。分流装置10是由耐火砖在燃烧 室6内烧咀2的前面设置挡块形成的。
该方案实施以来，较好的解决了低温氧化不当带来的一些缺陷，杜绝了 低温断火现象，且低温可调性好。
权利要求
1、还原焰隧道窑低温氧化区燃烧室温度均匀方法，其特征在于在烧咀的出口设置温度均匀燃烧室，使得燃气通过烧咀喷入进入燃烧室燃烧后，燃烧产物在经过均匀分流后再进入窑内通道。
2、 一种实现权利要求1所述还原焰隧道窑低温氧化区燃烧室温度均匀 方法的装置，包括窑炉和烧咀，且烧咀是通过窑炉的侧面进入窑炉内的，其 特征在于在窑炉的侧面的燃气入口处内面，烧咀的出口处设有扩散烧咀火 焰，保证火焰在燃烧室充分燃烧后合理的进入窑内通道的燃烧室。
3、 如权利要求1所述的日用瓷气烧还原焰隧道窑低温氧化区燃烧室温 度均匀结构装置，其特征在于所述的燃烧室的底面正对窑车台面，烧咀中 心正对下火道的中下部。
4、 如权利要求2所述的日用瓷气烧还原焰隧道窑低温氧化区燃烧室温 度均匀结构装置，其特征在于所述的燃烧室的烧咀选用燃气平焰烧咀，火焰长度0. 3 0. 9m。
5、 如权利要求2所述的日用瓷气烧还原焰隧道窑低温氧化区燃烧室温度均匀结构装置，其特征在于所述的燃烧室的截面尺寸必需保证以烧咀为中心，直径为300mm的火焰有足够的燃烧空间；燃烧室的出口的张角取45°。 燃烧室是直径为350ran 560mm的半圆拱，长度200mm 350mm;燃烧室 的大小取决于所选取的燃烧室空间热强度。
6、 如权利要求2所述的日用瓷气烧还原焰隧道窑低温氧化区燃烧室温 度均匀结构装置，其特征在于为保证火焰在燃烧室充分燃烧后合理的进入 窑内通道，在燃烧室出口设置分流装置。
7、如权利要求6所述的日用瓷气烧还原焰隧道窑低温氧化区燃烧室温 度均匀结构装置，其特征在于所述的分流装置是由耐火砖在燃烧室内烧咀 的前面设置挡块形成的。
全文摘要
还原焰隧道窑低温氧化区燃烧室温度均匀方法及装置，采用在烧咀的出口设置温度均匀燃烧室的方式，使得燃气通过烧咀喷入进入燃烧室燃烧后，燃烧产物在经过均匀分流后再进入窑内通道。本发明的装置结构包括窑炉和烧咀，且烧咀是通过窑炉的侧面进入窑炉内的，在窑炉的侧面的燃气入口处内面，烧咀的出口处扩散烧咀火焰，保证火焰在燃烧室充分燃烧后合理的进入窑内通道。燃烧室的底面正对窑车台面，烧咀中心正对下火道的中下部，可充分利用烧咀喷出火焰的动能，对窑内燃烧产物进行搅拌，强化传热。为保证火焰在燃烧室充分燃烧后合理的进入窑内通道，在燃烧室出口设置分流装置。分流装置是由耐火砖在燃烧室内烧咀的前面设置挡块形成。
文档编号F23D14/46GK101101172SQ20071003513
公开日2008年1月9日 申请日期2007年6月14日 优先权日2007年6月14日
发明者聂岳军 申请人:湖南华联瓷业有限公司