专利名称：低压处理机台的制作方法
技术领域：
本发明是有关于一种低压处理机台，特别是有关于一种用于干燥光阻材料的低压处理机台。
背景技术：
参照图1a，其是显示公知的低压处理机台10，包括基座1、壳体2、承载盘3、支撑组件5、气压致动器6以及抽气管路7。承载盘3设于基座1之上，用以承放一基板4。壳体2与基座1构成一腔体8，承载盘3以及基板4即位于该腔体8之中。抽气管路7以及支撑组件5均设于壳体2之上。气压致动器6设于基座1之上。参照图1b，气压致动器6可推升支撑组件5以及壳体2，使壳体2向上离开基座1，以供机械手臂(未图标)取放该基板4。
当低压处理机台10应用于干燥光阻材料(例如，树脂)等有机溶剂时，经过一段时间的使用后，挥发物质或是微尘(particle)会沉积在壳体2内部或是抽气管路7的管壁之上，因此需要定期对壳体2以及抽气管路7进行清洁。然而，由于清洁壳体2以及抽气管路7的方法，是将壳体2升起后，以人工的方式清洁，其清洁工作困难耗时。并且由于清洁壳体2以及抽气管路7时，低压处理机台10处于停机状态，因此会造成产能的损失以及时间与金钱的浪费。
发明内容
本发明即为了欲解决上述公知技术的问题，而提供的一种低压处理机台，包括一基座、一承载盘、一壳体以及至少一第一滚轮组。承载盘设于该基座之上，用以置放一基板。壳体以可脱离的方式设于该基座之上，该壳体可以于一第一位置以及一第二位置之间移动，当该壳体位于该第一位置时，该壳体与该基座构成一腔体，该承载盘是位于该腔体之中。当欲拆卸该壳体时，该第一滚轮组可接触并支撑该壳体，并帮助该壳体沿一第一水平方向滑动。
由于本发明的低压处理机台的壳体可简便的从基座拆卸及移动以进行清洁。因此，可以在原壳体(第一壳体)拆卸之后，直接以另一壳体(第二壳体)替换安装至基座之上，而继续低压处理机台的运作，借此可缩短低压处理机台的停机时间，避免产能的损失以及时间与金钱的浪费。
图1a是显示公知的低压处理机台；图1b是显示公知低压处理机台的壳体上升的状态；图2a是显示本发明的低压处理机台的前视图；图2b是显示本发明的低压处理机台的壳体位于一第二位置时的前视图；图2c是显示本发明的低压处理机台的壳体位于该第二位置时的侧视图；图3a、图3b是显示第一滚轮组接触导轨的情况；
图3c是显示滑动壳体的情况；图4a是显示本发明的面板制程设备；图4b是显示壳体从面板制程设备拆卸的情况；图5是显示用于升降壳体的气压致动器；图6a是显示本发明第二实施例的低压处理机台；图6b是显示本发明第二实施例的低压处理机台的拆卸情形。
符号说明1～基座； 2～壳体；3～承载盘； 4～基板；5～支撑组件； 6～气压致动器；7～抽气管路； 8～腔体；10～低压处理机台；100、100’～低压处理机台；111～基座； 112～承载盘；113～基板； 114～腔体；120、120’～壳体；121～基板取放闸门；122～支撑结构； 130～抽气管路；140～导轨； 150～第一滚轮组；151～支撑组件； 152～滚轮；160～气压致动器； 170～气压致动器；171～支撑杆件； 200～输送装置；210～第二滚轮组； 300～面板制程设备；310～取放槽； 320～清洗单元；330～光组涂布单元； 340～曝光单元；
350～机械手臂。
具体实施例方式
第一实施例参照图2a，其是显示本发明的低压处理机台100的前视图，包括基座111、壳体120、导轨140、第一滚轮组150以及气压致动器(致动装置)160。基座111上设有承载盘112，用以承放基板113。壳体120设于基座111上，并与基座111构成一腔体114。承载盘112与基板113即位于该腔体114之中。抽气管路130设于壳体120之上，并伸入该腔体114之中，以抽气降低腔体114中的气体压力。气压致动器160设于基座111之上，第一滚轮组150设于气压致动器160之上。导轨140设于壳体114的两侧，并与第一滚轮组150相对应。
搭配参照图2b，壳体120可以于一第一位置(图2a所显示的位置)以及一第二位置(图2b所显示的位置)之间移动(在此为简化说明，省略说明将壳体120与第一位置与第二位置间移动的致动装置)。当壳体于120于该第一位置时，壳体于120与基座111构成腔体114，用以低压处理基板113。当基板113处理完成之后，壳体120可向上移动至该第二位置，以方便取放基板113。
参照图2c，其是显示当壳体120处于该第二位置时，低压处理机台100的侧视图，第一滚轮组150包括支撑组件151以及复数个滚轮152，滚轮152设于支撑组件151之上。支撑组件151接触气压致动器160。
参照图3a、图3b，壳体120以可拆卸的方式设于基座110上方。当欲对壳体120进行清洁时，使用者可将壳体120移离基座，以彻底的对壳体120进行清洁。当欲拆卸壳体120时，气压致动器160向上推升第一滚轮组150，使第一滚轮组150上升至一第一平面，接触该导轨140，以支撑并帮助滑动该壳体120。在一些实施例中，在该第一滚轮组150接触该导轨140之后，气压致动器160可更进一步将该壳体120与该第一滚轮组150向上推升。参照图3c，在第一滚轮组150上升至第一平面并接触导轨140之后，壳体120可沿一第一水平方向y滑送至一输送装置200之上。输送装置200包括第二滚轮组210，该第二滚轮组210亦位于该第一平面之上。当滑动该壳体120时，壳体120是透过导轨140而在第一滚轮组150以及第二滚轮组210上滑动。
参照图4a，其是显示本发明的低压处理机台100设于一面板制程设备300之中的情形。面板制程设备300包括取放槽310、清洗单元(第一制程机台)320、光阻涂布单元(第二制程机台)330、低压处理机台100、曝光单元340以及机械手臂350。其中，清洗单元320、光阻涂布单元330以及低压处理机台100是沿一第二水平方向x排列。参照图4b，当拆卸壳体120时，壳体120是沿该第一水平方向y滑动至输送装置200之上，其中，第一水平方向y垂直第二水平方向x。
由于本发明的低压处理机台100的壳体120可简便的从基座111拆卸及移动以进行清洁。因此，可以在原壳体(第一壳体)拆卸之后，直接以另一壳体(第二壳体)替换安装至基座111之上，而继续低压处理机台100的运作，借此可缩短低压处理机台100的停机时间，避免产能的损失以及时间与金钱的浪费。
本发明的低压处理机台100可应用于干燥光阻材料(例如，树脂)等有机溶剂。
参照图5，壳体120可透过气压致动器170以及支撑结构122而于该第一位置以及第二位置之间移动。气压致动器170包括支撑杆件171。支撑结构122设于壳体120之上。支撑杆件171连接支撑结构122，气压致动器170借由升降支撑杆件171而升降壳体120。支撑杆件171可以简单接触的方式连接支撑结构122，以方便拆卸。
第二实施例参照图6a，其是显示本发明的第二实施例的低压处理机台100’，其特点在于壳体120’的后方设有一基板取放闸门121。而机械手臂(未图标)是透过该基板取放闸门121取放该基板113。因此，不同于第一实施例，当取放基板113时，壳体120’不用向上升起。而当欲拆卸壳体120’以进行清洁时，参照图6b，气压致动器160可直接推升第一滚轮组150以及壳体120’。因此，第二实施例中低压处理机台100’毋须其它额外的装置来推升壳体120’。
虽然本发明已以具体的较佳实施例揭露如上，然其并非用以限定本发明，任何熟习此项技艺者，在不脱离本发明的精神和范围内，仍可作些许的更动与润饰，因此本发明的保护范围当视后附的申请专利范围所界定者为准。
权利要求
1.一种低压处理机台，用以处理一基板，包括一基座；一承载盘，设于该基座之上，用以置放该基板；一壳体，以可脱离的方式设于该基座之上，该壳体可以于一第一位置以及一第二位置之间移动，当该壳体位于该第一位置时，该壳体与该基座构成一腔体，该承载盘位于该腔体之中；以及至少一第一滚轮组，其中，当欲拆卸该壳体时，该第一滚轮组可接触并支撑该壳体，并帮助该壳体沿一第一水平方向滑动。
2.如权利要求1所述的低压处理机台，其中，该壳体包括至少一导轨，设于该壳体之上，并与该第一滚轮组相对应。
3.如权利要求1所述的低压处理机台，其还包括至少一致动装置，设于该基座之上，并连接该第一滚轮组，其中，当该壳体位于该第二位置时，该致动装置可将该第一滚轮组推升至一第一平面，以使该第一滚轮组接触并支撑该壳体。
4.如权利要求3所述的低压处理机台，其中，该致动装置为一气压致动器。
5.一种低压处理机台拆卸方法，包括提供一输送装置以及如权利要求1所述的低压处理机台；借由该第一滚轮组，将该壳体沿该第一水平方向滑动至该输送装置之上。
6.如权利要求5所述的低压处理机台拆卸方法，其中，该输送装置包括至少一第二滚轮组，当滑动该壳体时，该第一滚轮组与该第二滚轮组均位于一第一平面之上。
7.一种基板处理设备，包括；一第一制程机台；一第二制程机台；以及如权利要求1所述的低压处理机台，其中，该第一制程机台、该第二制程机台以及该低压处理机台是沿一第二水平方向排列。
8.如权利要求7所述的基板处理设备，其中，该第一水平方向垂直该第二水平方向。
9.一种低压处理机台，用以处理一基板，包括一基座；一承载盘，设于该基座之上，用以置放该基板；一壳体，以可拆卸的方式设于该基座之上，该壳体与该基座构成一腔体，该承载盘是位于该腔体之中，其中，该壳体包括一基板取放闸门，设于该壳体之上；至少一致动装置；以及至少一第一滚轮组，连接该致动装置，其中，当欲拆卸该壳体时，该致动装置推升该第一滚轮组以及该壳体，该壳体接触该第一滚轮组，并透过该第一滚轮组沿一第一水平方向滑动。
10.如权利要求9所述的低压处理机台，其中，该壳体包括至少一导轨，设于该壳体之上，并与该第一滚轮组相对应。
11.如权利要求9所述的低压处理机台，其中，该致动装置为一气压致动器。
12.一种低压处理机台，包括一基座，该基座的二侧边各具有至少一第一滚轮组；以及一壳体，具有一抽气管路，该壳体可位于该基座上方的一第一位置及一第二位置，当位于该第一位置时，该壳体与该基座构成一腔体；其中，当该壳体位于该第二位置时，该些第一滚轮组可接触并支撑该壳体，帮助该壳体沿一第一水平方向滑动，离开该基座的上方。
13.如权利要求12所述的低压处理机台，其中，该基座还包括一承载盘。
14.如权利要求13所述的低压处理机台，其中，该承载盘用以承载一基板。
15.如权利要求12所述的低压处理机台，其中，该壳体的二侧各包括至少一导轨，并与该些第一滚轮组相对应。
16.如权利要求12所述的低压处理机台，其还包括至少一致动装置，设于该基座之上，并连接该些第一滚轮组，其中，当该壳体位于该第二位置时，该致动装置可将该些第一滚轮组推升至一第一平面，以使该第一滚轮组接触并支撑该壳体。
17.如权利要求16所述的低压处理机台，其中，该致动装置为一气压致动器。
18.一种低压处理机台拆卸方法，包括提供一输送装置以及如权利要求12所述的低压处理机台；借由该第一滚轮组，将该壳体沿该第一水平方向滑动至该输送装置之上。
19.如权利要求18所述的低压处理机台拆卸方法，其中，该输送装置包括至少一第二滚轮组，当滑动该壳体时，该第一滚轮组与该第二滚轮组均位于一第一平面之上。
20.一种基板处理设备，包括；一第一制程机台；一第二制程机台；以及如权利要求12所述的低压处理机台，其中，该第一制程机台、该第二制程机台以及该低压处理机台是沿一第二水平方向排列。
21.如权利要求20所述的基板处理设备，其中，该第一水平方向垂直该第二水平方向。
全文摘要
一种低压处理机台，包括一基座、一承载盘、一壳体以及至少一第一滚轮组。承载盘设于该基座之上，用以置放一基板。壳体以可脱离的方式设于该基座之上，该壳体可以于一第一位置以及一第二位置之间移动，当该壳体位于该第一位置时，该壳体与该基座构成一腔体，该承载盘位于该腔体之中。当欲拆卸该壳体时，该第一滚轮组可接触并支撑该壳体，并帮助该壳体沿一第一水平方向滑动。
文档编号F26B9/06GK1793763SQ200610000520
公开日2006年6月28日 申请日期2006年1月9日 优先权日2006年1月9日
发明者黄庭辉 申请人:广辉电子股份有限公司