本发明涉及石英砂除湿技术领域，尤其涉及一种石英砂干燥除尘装置。
背景技术：
高纯石英砂是生产光纤通讯、电子工业、半导体、太阳能、激光及航空航天等高新技术领域用高品质石英玻璃的唯一原料，其市场需求量大。石英石是生产高纯石英砂的唯一原料。
石英石是一种非金属矿物质，是一种坚硬、耐磨、化学性能稳定的硅酸盐矿物，其主要矿物成分是sio2，因此，石英石又名硅石。石英砂是石英石经破碎加工而成的石英颗粒，其以天然产出的石英矿石为原料生产获得，石英砂生产工艺主要包括粉碎、除杂、清洗等。为了便于保存封装，石英砂水洗后必须进行除湿处理，现有的石英砂除湿装置要么结构庞大，不适合小型工业使用，有么操作复杂，成本高昂。
此外，石英砂由于通过石英石粉碎获得，其中混杂有大量的粉尘，严重影响石英砂的品质。
技术实现要素：
基于背景技术存在的技术问题，本发明提出了一种石英砂干燥除尘装置。
本发明提出的一种石英砂干燥除尘装置，包括箱体、隔层板和转轴；
隔层板安装在箱体内部并将箱体内部分割为上腔室和下腔室，隔层板上设有直径小于石英砂直径并可连通上腔室和下腔室的通孔；转轴水平安装在上腔室内并连接有可驱动其转动的驱动机构，转轴外表面设有多个搅动件；隔层板截面为弧形，且其内表面与搅动件顶端的运动轨迹贴合，
箱体上设有热空气进口和废气出口，热空气进口和废气出口位于隔层板相对的两侧。
优选地，搅动件为板状结构。
优选地，搅动件的长度方向与转轴截面圆的半径延伸方向重合。
优选地，搅动件顶端为勺状结构。
优选地，搅动件的长度方向与转轴截面圆的切线方向重合。
优选地，箱体上设有连通上腔室的砂砾出口，砂砾出口处设有出料阀。
优选地，废气出口连接有抽吸泵。
优选地，抽吸泵的出口端设有防尘袋。
优选地，热空气进口位于隔层板上方，废气出口位于隔层板下方。
本发明提供的石英砂干燥除尘装置，通过隔层板弧形内表面的配合，搅动件可充分搅动上腔室中的石英砂，避免石英砂结块；而通过热空气进口向上腔室输入热空气后，在搅动件搅动下，石英砂与热空气充分混合，在压强作用下，热空气携带石英砂中的水分和粉尘从隔层板上的通孔进入下腔室然后从废气出口排出。
本发明结构简单，设计合理，通过热空气的流动，可高效、充分的对石英砂进行干燥除湿和除尘，从而保证石英砂的品质。此外，由于热空气无孔不入的特性，热空气与石英砂混合过程中不存在遗漏，故而，有利于提高石英砂品质的均匀性。
附图说明
图1为本发明提出的一种石英砂干燥除尘装置结构示意图。
具体实施方式
参照图1，本发明提出的一种石英砂干燥除尘装置，包括箱体1、隔层板2和转轴3。
隔层板2安装在箱体1内部并将箱体1内部分割为上腔室1a和下腔室1b，上腔室1a可容纳石英砂原料，具体可通过在箱体1上设置连通上腔室1a的进料口用于向上腔室1a填料，进料口处可设置进料阀。隔层板2上设有直径小于石英砂直径并可连通上腔室1a和下腔室1b的通孔。
转轴3水平安装在上腔室1a内并连接有可驱动其转动的驱动机构，转轴3外表面设有多个搅动件4，具体地，搅动件4可为板状结构，其长度方向可与转轴3截面圆的半径延伸方向重合，或者其长度方向与转轴3截面圆的切线方向重合。隔层板2截面为弧形，且其内表面与搅动件4顶端的运动轨迹贴合。
如此，当转轴3转动，搅动件4随着转动在上腔室1a内转动，并带动隔层板2上的石英砂原料运动，从而使得上腔室1a内的石英砂搅动，避免带水分的石英砂结块。本实施方式中，搅动件4长度方向可与转轴3截面圆的半径延伸方向重合，为了加强搅动件4携带石英砂运动的能力，搅动件4顶端为勺状结构。
箱体1上设有热空气进口11和废气出口12，热空气进口11和废气出口12位于隔层板2相对的两侧，本实施方式中，热空气进口11位于隔层板2上方，废气出口12位于隔层板2下方。如此，通过热空气进口11向上腔室1a输入热空气后，在搅动件4搅动下，石英砂与热空气充分混合，在压强作用下，热空气携带石英砂中的水分从隔层板2上的通孔进入下腔室1b然后从废气出口12排出。本实施方式中，为了加快热空气流速，提高石英砂干燥效率，可在废气出口12设置抽吸泵5。此外，抽吸泵5的出口端还可设置防尘袋6，以避免热空气从石英砂原料中携带处理的粉尘直接排放造成空气污染。
本实施方式中，箱体1上设有连通上腔室1a的砂砾出口13，砂砾出口13处设有出料阀。如此，当上腔室1a中的石英砂干燥后，可通过砂砾出口排放到指定位置。进料阀和出料阀的设置有利于保证上腔室1a的密封性，从而保证热空气在上腔室1a与下腔室1b之间流动的稳定，避免热空气意外泄漏。本实施方式中，也可将热空气进口设置在隔层板2下方，如此，废气出口与上腔室1a连通，为了避免石英砂随着热空气从废气出口流出，必须在废气出口处设置拦截网。
以上所述，仅为本发明较佳的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，根据本发明的技术方案及其发明构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本发明的保护范围之内。