专利名称：基片干燥装置的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种用紫外线照射使基片圆盘干燥的装置，其中在照射过程中有一块玻璃板放在基片圆盘上。
这种干燥装置尤其被应用于制造光盘(光盘或CD盘)，微型盘(Mini Discs)，磁性光盘(Magneto-optical Discs)，只读光盘，可刻入光盘，影盘或音像盘(影像光盘和/或音像光盘)和/或数字式音像光盘(DVD盘)。尤其在制造由两种相互粘结起来的基片部分组成的基片圆盘时，在干燥期间将玻璃板放在基片圆盘上，以便阻止使基片在干燥过程中产生波纹变形或者失去其平面形状。此处所谓干燥也是指粘结剂的硬化，用这种粘结剂例如就使两种基片相互粘结成一个基片圆盘。需要干燥的基片圆盘通常位于一个圆形回转工作台上，这个进给台以一定节奏旋转并使基片圆盘放在干燥装置的一个干燥范围内。在基片圆盘到达干燥范围内之前就用一种玻璃板搬运器将玻璃板放置在基片圆盘上，并且在干燥过程之后当基片圆盘从干燥装置旋转出来之后又将玻璃板移去。借助一个玻璃板搬运器把玻璃板放置在基片圆盘上，这样并不能避免在基片圆盘上被作用一个不均匀的压力。因此使位于要粘结的基片之间的由粘结剂构成的层发生了变化，该层在尚未干燥或尚未硬化的状态下由于压力而使其层厚发生了变化。结果表明，这就使废品率增高并大大影响了所加工的基片圆盘的质量。
因而本发明的任务就是提出一种开头所述类型的干燥装置，这种装置可以用简单的技术措施并对装置进行简单的操作就使废品较少，并使成品的基片圆盘有较好的质量。
按本发明这个提出的任务是通过一个可抬起和可下降的上部来解决，这个上部使玻璃板下降到位于一个下部上的基片圆盘上。按本发明，放上玻璃板是在干燥装置里自己进行的，因此在放上玻璃板和干燥过程开始之间的时间间隔可以保持很小。这对于废品率和所要加工的基片圆盘的质量很重要，因为事先使用很多仪器设备而均匀地敷设在要粘结的基片之间的粘结剂失去了它的均匀性，并在要粘结的基片之间形成不同的粘结剂层厚，这就导致废品并使基片圆盘的质量下降。在干燥过程之前均匀地敷设粘结剂层是很费事的。为了不失去由此达到的均匀粘结剂层的优点，用本发明的装置可以达到使放上玻璃板和干燥过程开始之间的时间间隔很短。
按照本发明的另一种很有利的结构形式，上部具有一个玻璃板支座，当上部下降到玻璃板放在基片上时，该玻璃板支座就下降到该基片下。用这种方式使玻璃板在没有附加的和不均匀的压力负荷时被放在基片圆盘上，由此在超出整个基片圆盘平面上的玻璃盘的压力是很均匀的，因为仅有玻璃板的自重产生这种压力。用这种方式，先前均匀厚度的粘结剂层就在整个基片圆盘平面上基本上保持不变。
有利的是玻璃板支座具有支承板，在上部未下降的状态下玻璃板的边缘部位就放置在这支承板上。因而将玻璃板放下到基片圆盘上所需的仪器设备方面的化费可以想象是简单的，并且通过简单的措施尤其可以调整支撑板的位置，并因而用简单的方法调整玻璃板的支承和下降。
支承板最好作成为反射面，例如通过将其进行镜面抛光。由此它们就以合适的方式尤其是在要干燥的基片圆盘的边缘部位里使紫外光线反射，因而由此改善和加速了临界的边缘干燥。由于在把玻璃板放置在基片圆盘上之后支承板位于基片圆盘下面，因而通过在基片圆盘下面插入这支承板部位就可能将由上面射入的紫外光也引导到基片圆盘的下部边缘部位上。
按照本发明的另外一种很有利的结构形式，玻璃板切断了基片圆盘向上的一个照射空间。玻璃板也构成了照射空间的一个封闭墙，这在以下情况时尤其有优点，就是按另一种结构形式当干燥装置具有一个用于输入一种取代操作空间里空气的气体时，例如用于输入氮气的输气装置的情况。通过取代这位于操作空间里的空气，包含其中的氧气就不可能被强烈的紫外线照射变成氧气过氧化物，这种过氧化物强烈地吸收紫外线照射，并且阻止或延迟了干燥过程。采用本发明的干燥装置的可抬起和可降下的上部就可能将玻璃板不仅放置在基片圆盘上，而且可选择地也在一个离基片圆盘所希望的距离上使玻璃板留在原处，因此在玻璃盘和玻璃板之间同样能够使位于其中的空气通过输入的气体而被置换，而且在超越基片圆盘的整个平面上改善或加速这干燥过程。尤其是用本发明的装置也可能迅速地而且没有附带化费地改变基片圆盘的干燥方式，也就是或者将玻璃板完全地放在基片圆盘上，或者使玻璃板在干燥过程中保持在基片圆盘上一个所希望的距离处。
按照本发明的另一种有利的结构形式，在玻璃板和基片之间没有距离保持器。距离保持器此时可以设在玻璃板支座上，从而由此使玻璃板不放在基片圆盘上。距离保持器可以有一个所希望的厚度，它对应于在玻璃板和基片圆盘之间所希望的距离，根据这距离保持器，同样只要通过把距离保持器放置在玻璃板支座上就可能将本发明的装置以具有放上玻璃板的作用方式改装成在玻璃板和基片圆盘之间具有中间空间的作用方式。
按照本发明的一种特别有利的结构设置有一个旋转装置，它使上部在其抬起的状态下旋转或摆动进入和离开照射空间。同时旋转装置最好集成在一个抬升装置里用于使上部抬起和降下的，或者与抬升装置组合起来，从而使玻璃板搬运器的驱动装置做得紧凑和简单。
旋转装置最好有一个具有多个上部的圆形转台。由此可使以前在干燥过程中被加热的玻璃板进入一个冷却站，按照本发明的另外一种结构就设置了这种冷却站。冷却站也使并不处于干燥装置的照射空间内的玻璃板冷却，从而使这些玻璃板以后又具有一个相当于基片圆盘上的温度，如果这些玻璃板在一个继续的干燥过程之前就被放置在一个基片圆盘上的话。在放置的玻璃板和基片圆盘之间的温度是很不同的，这重新又导致损害基片圆盘的生产质量，并使废品增加。
本发明的一种有利的结构在于，圆形转台具有四个上部，其中各有两个上部处在干燥装置的照射空间内，并且各有两个上部位于冷却站内。对于这种结构形式来说，圆形转台分别被旋转180°，并在此后使两个位于一个下部上的上部同时下降到基片圆盘上。然后就同时在干燥装置内完成两个基片圆盘干燥过程。
每种适合的流体都可以被用作为冷却剂。然而在这方面有利的是电离的空气，这种空气被注入冷却站里并擦过所要干燥的玻璃板。
本发明的另外一种有利的结构在于，将干燥装置的下部作成为基片圆盘的支承盘，它是可旋转的。按这种方式，位于这支承盘上的基片圆盘在照射空间内经受均匀的照射，并且使粘合剂实现均匀和快速的干燥或硬化，由此又改善了生产质量。
以下按一个优选的实施例参照附图对本发明进行详细说明。图示为
图1按本发明的一个干燥装置的俯视简图，图2沿着图1标记的II-II截面线在上部抬起时的一个横断面。
图3上部降下时上部和下部的一个放大横断面图。
图4所示结构形式的局部断面，俯视图说明了用于在照射站8旋转支承盘的装置。
所示一种干燥装置的实施形式按图1具有一个圆形回转工作台1，它有八个用于要干燥的基片圆盘3的支承位置2。一个玻璃搬运器4具有四个臂5，在其端部各安设了干燥装置的一个上部6。玻璃搬运器4固定在一个柱7的中部，该柱7可以旋转或摆动，并能被抬起或降下。照射站8位于两个支承位置2的一个范围里，同时在不处于照射站8内的上部6的范围内有一个冷却站9。
在以前的加工步骤由两种基片粘结在一起的需要干燥的基片圆盘3借助于一个基片圆盘搬运器10而被放置在圆形回转工作台1的支承位置2上。为了避免重复在干燥过程之前或之后发生的加工步骤，请参阅1997.4.30申请的未予先公布的DE-OS-197，那项申请源自本保护权的所有者。
圆形回转工作台1顺时针方向逐步旋转，每次45°，从而每次使两个基片圆盘10到达照射站8。此后使玻璃搬运器旋转180°，因此每次使一个玻璃盘11能够放置在位于照射站8里的基片圆盘10上。在这旋转运动时到达冷却站9的另外两个玻璃盘11则在那儿例如用电离的空气被冷却。
干燥的基片圆盘10在以照射站8离开后一个另外的搬运器抓住并以干燥装置处移出。
尤其如由图2可见，照射站8具有上部紫外线灯21和下部紫外线灯22，在这两个灯之间装有上部6和一个下部23。在上部紫外灯21下有一个闭锁24，在上部紫外灯22上有一个闭锁25，它们可以对位于下部23上的基片圆盘10的紫外线照射进行控制和检查。
当下部23静止不动时，上部6就经由一个臂26与一个组合成的旋转和抬升装置27结合起来，这在图2中以部分断面简要表示，并且用该装置使上部6抬起和降下，以及垂直于图示平面从照射空间28旋转出来或摆动出来。
图3表示由图1所示装置里一个放大的断面，也就是说在上部6降下到上部件23上的一种状态时的上部6和下部23。
上部6有一个矩形框架31。在上部6的下面上至少在框架侧面部件31上分别有一个玻璃板支座32，33，在所示的实施例中它作成弯曲的板件，它各具有一个用于支承玻璃板11的支承棱边34，35。玻璃板支座32，33借助于螺钉36，37而固定在上部6的下边上。
玻璃板11在上部6抬起时(见图2)其边缘部位放置在玻璃板支座32，33的支承棱边34及35上时，而在上部6降下时与支承棱边34，35脱开，因为它们向下降到很大程度，使玻璃板11在上部6降到在图3虚线所示的基片圆盘10上时就接触支承上。玻璃板11和缓地被放置在基片圆盘3上，并以其自重均匀地压在上面，因而它就在将玻璃板11放上之后直接开始的干燥过程期间使基片圆盘3保持平坦和平整。
最清楚如图3可见，在上部6的框架31处有一个进气装置40，通过此装置例如使氮气输入照射空间里。对于图3所示的实施例来说，玻璃板11置于基片圆盘3上。相反如果在玻璃板和基片圆盘之间有一个中间空间，以便也是在那里通过氮气来替换空气，并因而替换空气中对干燥装置不利的氧气，那么上部5下降不多，也就是说下降到使得在玻璃板11和基片圆盘3之间保持一个所希望的中间空间。在这种情况下，玻璃板11仍放置在玻璃板支座32或33的支承棱34或35上，并且在干燥过程期间仍保持在这个位置上。
在所示的实施形式中，下部23有一个支承盘41，它有一个支承玻璃板42，在此板上放有基片圆盘3。支承盘41通过滚子43，44，45可旋转和同时地在它们的位置上进行引导。在所示的实施例中三个滚子43，44，45，相互按角度分别偏置120°，设置但在图1中仅表示了两个滚子43，44。
图4表示了具有支承盘41的圆形回转工作台1的一个局部，该支承盘在其边缘处分别用相互偏置120°的滚子43，44，45，进行导向和支撑。当圆形回转工作台1顺时针旋转时，若支承盘41和在其上面的基片圆盘3到达了照射站8，那么支承盘41的边缘与一个驱动滚子46接触，该滚子支承在一个支臂47的端部并被驱动。在干燥过程期间支承盘41从而也和基片圆盘3，在一定条件下与放在基片圆盘3上的玻璃板11一起进行旋转，从而使基片圆盘或者粘结剂均匀和快速地干燥和硬化。为使表达明了在图4所示的视图中没有表达出玻璃搬运器4。
此前已按一个优选的实施例对本发明进行了说明。然而专业人士可以进行改进和修改，但并不由此而偏离发明的思想。例如为把要干燥的基片圆盘运输至照射站8下也可以不用一个圆形回转工作台1，而采用一种直线运输装置。
权利要求
1.通过用紫外光线的照射使基片圆盘(3)干燥的装置，其中在照射过程中有一个玻璃板(11)放置在基片圆盘(3)上，其特征在于，它具有一个可抬起和可降下的上部(6)，使玻璃板(11)降下到位于一个下部(23)上的基片圆盘(3)上。
2.按权利要求1所述的装置，其特征在于，上部(6)具有一个玻璃板支座(32，33)，当上部(6)降下以把玻璃板(11)放置到基片圆盘上时该支座降下至玻璃盘下。
3.按权利要求2所述的装置，其特征在于，玻璃板支座(32，33)具有支承板(34，35)，在上部(6)未降下的状态时放置了玻璃板(11)的边缘部位放置在这板上。
4.按权利要求2或3所述的装置，其特征在于，至少使玻璃板(32，33)的部分部位设计为用于紫外线的反射平面。
5.按前述权利要求之一所述的装置，其特征在于，玻璃板(11)向上封闭了用于基片圆盘(3)的一个照射空间。
6.按前述权利要求之一所述的装置，其特征在于，一种输气装置(40)，它是用于输入一种替代照射空间里空气的气体。
7.按权利要求6所述的装置，其特征在于，这种气体为氮气。
8.按前述权利要求之一所述的装置，其特征在于，在玻璃板(11)和基片圆盘(3)之间设置有距离保持器。
9.按权利要求8所述的装置，其特征在于，距离保持器作成与玻璃板(11)一体。
10.按前述权利要求之一所述的装置，其特征在于一种旋转装置(27)，这种装置使上部(6)在其抬起状态下旋转入和旋转出照射空间。
11.按权利要求10所述的装置，其特征在于，旋转装置(27)与一个抬起装置组合起来，用于抬起和降下上部(6)的。
12.按权利要求10或11所述的装置，其特征在于，旋转装置(27)具有一个圆形转台，它有多个上部(6)。
13.按前述权利要求所述的装置，其特征在于，一个冷却站(9)，它用于冷却不在照射空间里的玻璃板(11)。
14.按权利要求13所述的装置，其特征在于，圆形转台(1)有四个上部(6)，其中各有两个上部位于照射站(8)里，而各有两个上部位于冷却站(9)里。
15.按权利要求13或14所述的装置，其特征在于，冷却剂是电离的空气。
16.按前述权利要求之一所述的装置，其特征在于，下部(23)具有一个用于基片圆盘(3)的支承盘41。
17.按权利要求16所述的装置，其特征在于，支承盘(41)是可以旋转的。
全文摘要
对于所提出的通过紫外线照射干燥基片盘(3)的设备,其中在照射过程期间,一个玻璃板(11)放置在基片盘(3)上利用简单的技术手段和采用简单的设备操作,通过一个升降的上部(6)得到或自行得到低废品率和成品基片盘的高品质,上部要落到放置在下部(23)上的基片盘(3)上。
文档编号F26B3/04GK1257601SQ98805367
公开日2000年6月21日 申请日期1998年5月14日 优先权日1997年5月23日
发明者K·维伯尔, U·施贝尔 申请人:施蒂格哈马技术股份公司