螺旋式自动去脏污装置的制造方法
【专利摘要】本实用新型公开了螺旋式自动去脏污装置，包括基座、振动器和去脏污容器，基座位于装置的底部，振动器位于基座的上方，去脏污容器位于振动器的上方。去脏污容器包括入口、出口和分离器，分离器为环形管道，入口和出口分别位于分离器的底部和顶部。分离器的底面设有数个小孔，小孔的直径在0.5至1.0毫米的范围之内。去脏污容器的大小可调，其大小可根据产品的大小来设计。去脏污容器的内壁设有两层以上的螺旋导轨。本装置采用自动化清扫坯件表面粉尘，清扫效率高，且不会使坯件产生崩缺不良，还能够完全扫处坯件表面的粉尘，减轻了人力，提高了劳动效率。
【专利说明】
螺旋式自动去脏污装置
技术领域
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[0001]本实用新型适用于粉末冶金加工领域，特指实现在需通过加工来获得相应尺寸的坯件，因坯件加工后，表面会残留一些粉尘。通过使用螺旋式自动去脏污装置将产品表面清扫干净，从而提高工作效率。
【背景技术】
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[0002]当前，加工后的坯件，表面会残留一些粉尘，一般采用手工清扫坯件表面，来去除表面的粉尘。这种手工操作方法存在很多弊端，第一、容易使坯件产生崩缺不良；第二、不能够完全将坯件表面的粉尘清扫干净;第三、劳动强度大、效率低。
[0003]使用此螺旋式自动去脏污装置后，不需人工操作，降低了劳动强度，同时可以连续不断地机械自动化工作，提高了工作效率;而且能完全清除坯件表面的粉尘;坯件产生崩缺不良也大比例降低。且此装置在去脏污时不需要排列产品，解决了不能排列产品去脏污难题。
【发明内容】
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[0004]本实用新型的目的就在于针对现有技术存在的不足之处而提供一种螺旋式自动去脏污装置，其可自动清扫坯件表面粉尘，清扫效率高。
[0005]为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案:
[0006]螺旋式自动去脏污装置，包括基座、振动器和去脏污容器，所述基座位于装置的底部，所述振动器位于基座的上方，所述去脏污容器位于振动器的上方。
[0007]作为对本实用新型中去脏污容器的说明，所述去脏污容器包括入口、出口和分离器，所述分离器为环形管道，所述入口和出口分别位于分离器的底部和顶部。分离器中有去脏污介质，坯件由入口进入分离器之中，经过离心作用，且通过去脏污介质的作用，脏污将与坯件分离，坯件逐渐上升由出口离开；
[0008]所述分离器的底面设有数个小孔，所述小孔的直径在0.5至1.0毫米的范围之内。分离器的小孔用于使去脏污介质重新流回分离器底部，如此可循环实用去脏污介质。
[0009]作为对本实用新型中去脏污容器的进一步说明，所述去脏污容器的大小可调，其大小可根据产品的大小来设计。所述去脏污容器的内壁设有两层以上的螺旋导轨。
[0010]按上述技术方案，基座、振动器、去脏污容器组合成一套可以自动排列坯件及自动去除脏污的自动化装置。加工后的坯件由入口直接送到去脏污容器底部，通过振动器的离心力使坯件转动。去脏污容器里面放有去脏污的介质，坯件在转动中与去脏污介质摩擦，将坯件表面的脏污去除干净。坯件与去脏污介质从去脏污容器的底部一直转动到上面，在去脏污容器上面设有带小孔的分离器，当坯件与去脏污介质经过分离器时，去脏污介质重新回到去脏污容器的底部，达到循环使用的目的。而坯件则继续转动到出口。
[0011 ]本实用新型的有益效果:
[0012]解决了当前粉末冶金过程中的一些问题，本装置采用自动化清扫坯件表面粉尘，清扫效率高，且不会使坯件产生崩缺不良，还能够完全扫处坯件表面的粉尘，减轻了人力，提高了劳动效率。
【附图说明】
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[0013]下面结合附图对本实用新型做进一步的说明:
[0014]图1为螺旋式自动去脏污装置的整体示意图；
[0015]图2为去脏污容器的放大图；
[0016]图3为去脏污容器的剖面图；
[0017]图中:1、基座;2、振动器;3、去脏污容器;4、入口；5、出口；6、分离器。
【具体实施方式】
:
[0018]如图1至图3所示，螺旋式自动去脏污装置，包括基座1、振动器2和去脏污容器3，所述基座I位于装置的底部，所述振动器2位于基座I的上方，所述去脏污容器3位于振动器2的上方。
[0019]如图1所示，所述去脏污容器3包括入口 4、出口 5和分离器6，所述分离器6为环形管道，所述入口 4和出口 5分别位于分离器6的底部和顶部。
[0020]如图2所示，所述分离器6的底面设有数个小孔，所述小孔的直径在0.5至I毫米的范围之内。
[0021]如图1至图3所示，所述去脏污容器3的大小可调，其大小可根据产品的大小来设
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[0022]如图3所示，所述去脏污容器3的内壁设有两层以上的螺旋导轨。
[0023]工作原理:
[0024]基座1、振动器2、去脏污容器3组合成一套可以自动排列坯件及自动去除脏污的自动化装置。加工后的坯件由入口 4直接送到去脏污容器3底部，通过振动器2的离心力使坯件转动。去脏污容器3里面放有去脏污的介质，坯件在转动中与去脏污介质摩擦，将坯件表面的脏污去除干净。坯件与去脏污介质从去脏污容器3的底部一直转动到上面，在去脏污容器3上面设有带小孔的分离器6，当坯件与去脏污介质经过分离器6时，去脏污介质重新回到去脏污容器3的底部，达到循环使用的目的，而坯件则继续转动到出口5。
[0025]以上内容仅为本实用新型的较佳实施方式，对于本领域的普通技术人员，依据本实用新型的思想，在【具体实施方式】及应用范围上均会有改变之处，本说明书内容不应理解为对本实用新型的限制。
【主权项】
1.螺旋式自动去脏污装置，其特征在于:包括基座(I)、振动器(2)和去脏污容器(3)，所述基座(I)位于装置的底部，所述振动器(2)位于基座(I)的上方，所述去脏污容器(3)位于振动器(2)的上方;去脏污容器(3)包括入口(4)、出口(5)和分离器(6)，所述分离器(6)为环形管道，所述入口(4)和出口(5)分别位于分离器(6)的底部和顶部。2.如权利要求1所述的螺旋式自动去脏污装置，其特征在于:所述分离器(6)的底面设有数个小孔，所述小孔的直径在0.5至I毫米的范围之内。3.如权利要求1所述的螺旋式自动去脏污装置，其特征在于:所述去脏污容器(3)的大小可调。4.如权利要求1所述的螺旋式自动去脏污装置，其特征在于:所述去脏污容器(3)的内壁设有两层以上的螺旋导轨。
【文档编号】B08B7/00GK205701716SQ201620416358
【公开日】2016年11月23日
【申请日】2016年5月10日
【发明人】杨明雄
【申请人】标旗磁电产品(佛冈)有限公司, 杨明雄