1.一种用于化学发光仪器的负压式清洗系统，包括清洗液桶(1)、膜片泵(2)、管路(3)、样品针(4)、清洗池(5)、气液两用开关阀(6)、微型负压泵(7)、负压传感器(8)、负压瓶(9)、单向阀(10)、蠕动泵(11)和废液桶(12)，其特征在于：所述清洗液桶(1)的上端通过管路(3)连接膜片泵(2)的一端，所述膜片泵(2)的另一端通过管路(3)连接有清洗池(5)，所述清洗池(5)的上端设有样品针(4)，所述气液两用开关阀(6)通过管路(3)连接负压瓶(9)，所述负压瓶(9)通过管路(3)连接单向阀(10)的一端，所述单向阀(10)的另一端通过管路(3)连接有蠕动泵(11)的一端，所述蠕动泵(11)的另一端也通过管路(3)连接废液桶(12)。
2.根据权利要求1所述的一种用于化学发光仪器的负压式清洗系统，其特征在于：所述负压瓶(9)的瓶体上端安装有微型负压泵(7)和负压传感器(8)。