过滤装置的制作方法

本申请涉及液晶面板制造领域，尤其涉及一种显影机的水洗循环系统中的过滤装置。

背景技术：

显影机是液晶面板制造行业中必不可少的设备，显影机中的水洗循环系统用于清洗玻璃基板表面的部分光阻。当前显影机中的水洗循环系统通常将厂端直供的清洁用水供入第一腔室以清洗基板，并将清洗后的用水进行收集，待其回流进入储水器后，再经光阻滤芯过滤后，由水泵打入第二腔室。基板在第一腔室清洗后，再进入第二腔室进行二次清洗，以保证基板的洗净效果。同时，这样的操做还能起到循环用水的作用，利于节约。

由于水中的光阻残渣粒径细至微米级，为了保证回收利用的清洁用水具备良好的过滤效果，需要采用孔径10～0.45um的专用光阻滤芯。此类光阻滤芯的价格高昂，且寿命较短，长期使用过程中极易造成堵塞，需频繁更换新光阻滤芯，成本相应升高。进一步的，还易形成产线挤压，造成现场管控及人力成本的浪费。

技术实现要素：

本申请本提出一种过滤装置，可以有效替代光阻滤芯或延长光阻滤芯的使用寿命，降低生产成本。本申请包括如下技术方案：

一种过滤装置，装备于显影机的水洗循环系统中，所述过滤装置包括储水器、加药器和滤网；所述储水器通过进水管和出水管串联于所述水洗循环系统中；所述加药器位于所述进水管和所述滤网之间，所述加药器用于向所述储水器内注入高分子絮凝剂，以使得所述储水器内清洁用水中的光阻残渣与所述高分子絮凝剂发生作用形成絮凝团；所述滤网用于过滤所述絮凝团。

其中，所述储水器中还设有搅拌器，所述搅拌器用于促进光阻残渣与所述高分子絮凝剂的结合。

其中，所述搅拌器与所述滤网在所述储水器中分列所述进水管一端和所述出水管一端。

其中，所述出水管与所述水洗循环系统的水泵连接，所述水泵用于将过滤后的清洁用水增压以用于清洗，所述过滤装置还包括串联于所述出水管和所述水泵之间的蓄水器，所述蓄水器用于聚集过滤后的清洁用水以供给所述水泵。

其中，所述蓄水器还设有中和器，所述中和器用于向所述蓄水器内注入分散剂，以调整所述蓄水器内清洁用水的水质。

其中，所述蓄水器中设有传感器和控制器，所述传感器、所述控制器和所述中和器电连接，所述传感器用于感应所述蓄水器中清洁用水的水质，所述控制器通过所述传感器反馈的水质信号以控制所述中和器的分散剂注入量。

其中，所述过滤装置还包括串联于所述出水管和所述水泵之间的光阻滤芯，所述光阻滤芯用于过滤清洁用水中未与所述高分子絮凝剂发生结合的光阻残渣。

其中，所述储水器中的所述搅拌器为多个，多个所述搅拌器沿所述储水器中的水流方向依次排布，多个所述搅拌器用于使光阻残渣和所述高分子絮凝剂结合更充分。

其中，相邻两个所述搅拌器的旋向和/或转速不同，以促进光阻残渣和所述高分子絮凝剂的结合。

其中，所述加药器设置于两个所述搅拌器之间，以使得所述高分子絮凝剂从两个所述搅拌器之间注入所述储水器。

本申请所述过滤装置，通过将所述储水器的所述进水管和所述出水管串联于显影机的所述水洗循环系统中，实现了将进行过第一次清洗工作的清洁用水引入所述过滤装置中进行过滤处理的基础。通过所述加药器对所述储水器中的清洁用水注入所述高分子絮凝剂，使得所述储水器内水中的光阻残渣与所述高分子絮凝剂发生作用形成絮凝团。进一步的，大直径的所述絮凝团得以被所述滤网阻拦，进而实现了对清洁用水中光阻残渣的过滤功效。相对于现有的光阻滤芯过滤方式，本申请所述过滤装置具备成本更低、可再生和可靠性高等特点。

附图说明

图1是本申请过滤装置的示意图；

图2是本申请过滤装置另一实施例的示意图。

具体实施方式

下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本申请的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得的所有其它实施例，都属于本申请保护的范围。

请参阅图1所示的过滤装置100，装备于显影机的水洗循环系统200中。所述过滤装置100包括储水器10、加药器20和滤网30，所述储水器10设有进水管11和出水管12，所述储水器10通过所述进水管11和所述出水管12串联于所述水洗循环系统200中。具体的，所述进水管11接收完成了第一次清洁步骤后收集的清洁用水。所述清洁用水在第一次清洁步骤中对所述显影机中的基板进行清洁，将基板上清洗下来的光阻残渣带入所述储水器10中。而本申请所述过滤装置100的发明目的也在于要将所述储水器10中的光阻残渣与清洁用水实现分离，将过滤后的水送入下一道清洁步骤中以实现循环利用。为此，本申请所述过滤装置100将所述加药器20设置于所述进水管11和所述滤网30之间，所述加药器20内装盛有高分子絮凝剂，所述加药器20向所述储水器10内注入所述高分子絮凝剂，以使得所述储水器10内清洁用水中的光阻残渣与所述高分子絮凝剂发生作用，并形成絮凝团。相比于光阻残渣细微的直径，絮凝团的直径更大，能够被所述滤网30有效过滤。而且，所述加药器20设置于所述进水管11与所述滤网30之间，这样的设置可以保证所述高分子絮凝剂在所述进水管11与所述滤网30之间注入所述储水器10，从而使得所述高分子絮凝剂与光阻残渣在所述进水管11与所述滤网30之间发生絮凝作用，即絮凝团产生于所述进水管11与所述滤网30之间。具体的，光阻残渣在随清洁用水流经所述滤网30之前就与所述高分子絮凝剂发生絮凝作用，产生的絮凝团可以被所述滤网30有效拦截，从而实现光阻残渣与清洁用水的有效分离，流向所述出水管12的清洁用水可以有效进入第二次清洗步骤中，保证所述水洗循环系统200的高效运行。

一种实施例，所述储水器10中还设有搅拌器13，所述搅拌器13在工作中持续对所述储水器10中的清洁用水进行搅拌，使得水流在流向所述出水管12的过程中，在所述储水器10中产生更多的旋转运动。这样的设置可以增大清洁用水的流经途径，促进清洁用水在所述储水器10中与述高分子絮凝剂的结合，也即促进了光阻残渣与所述高分子絮凝剂的结合，可以让清洁用水中的光阻残渣更有效的与所述高分子絮凝剂发生作用，形成絮凝团，提高本申请所述过滤装置100的过滤效率。

可以理解的，所述搅拌器13可以设置于所述储水器10中的任何位置，只要能造成所述储水器10中的水流发生更多的旋转运动，增大水流的流经途径即可。但所述搅拌器13的轴宜设置为不穿过所述滤网30。因为所述搅拌器13的轴在工作中为活动件，而所述滤网30相对于所述搅拌器13为静止状态。要实现所述搅拌器13的轴与所述滤网30之间的密封较为困难。因此在上述所述搅拌器13的轴不穿过所述滤网30的实施例中，将所述搅拌器13与所述滤网30分别设置于靠近所述进水管11和所述出水管12的两端，使得所述搅拌器13的轴不与所述滤网发生关系。这样的设置还有利于所述搅拌器13在靠近所述进水管11的一端进行搅拌，从而使得清洁用水在通过所述滤网30以前被所述搅拌器30搅拌，有利于清洁用水中的光阻残渣与所述高分子絮凝剂的结合，提高本申请所述过滤装置100的过滤效率。

由于所述水洗循环系统200大多设置于显影机的机台底部，要将清洁用水提升到机台上部对基板进行清洗，就需要在所述水洗循环系统中设置水泵210。所述水泵210用于将过滤后的水增压以送至上部的机台进而实现清洗功能。为了配合所述水泵210的增压动作，本申请所述过滤装置100还设有串联于所述出水管12和所述水泵210之间的蓄水器40。即所述水泵210将存蓄于所述蓄水器40中的清洁用水增压送至上部的机台进行清洁动作。所述蓄水器40的设置可以对所述储水器10施行有效的缓冲保护作用，以免所述水泵210直接作用于所述出水管12，因为功率过大而破坏所述储水器10中清洁用水的流经途径，进而破坏清洁用水中的光阻残渣与所述高分子絮凝剂发生结合的效果，降低本申请所述过滤装置的工作效果。

清洁用水在注入了所述高分子絮凝剂后，其水质会遭到一定的破坏。例如当所述高分子絮凝剂为酸性时，清洁用水会因为所述高分子絮凝剂的注入而呈现为酸性水，对基板的清洗可能因为自身的酸性而对基板造成损害。反之当所述高分子絮凝剂为碱性时也是同样的道理。为此，所述蓄水器40还设有中和器41，所述中和器41内针对所述高分子絮凝剂的化学特性而盛放了可以中和所述高分子絮凝剂对水质效果改变的分散剂，且所述中和器41可以向所述蓄水器40中注入所述分散剂以调整所述蓄水器内清洁用水的水质。可以理解的，本申请中所述高分子絮凝剂对水质的改变包括但不限于酸碱性的改变，因此所述分散剂也可以针对所述高分子絮凝剂的各种化学特性均进行相应的中和设置，以最大程度的保证经过本申请所述过滤装置100的清洁用水能达到清洁的状态。

进一步的，所述蓄水器40中还设有传感器42和控制器43，所述传感器42、所述控制器43和所述中和器41之间实现电连接。所述传感器42用于感应所述蓄水器中清洁用水的水质情况，并将水质情况以信号的方式及时的反馈给所述控制器43，所述控制器43通过所述传感器42反馈的水质信号以控制所述中和器41的分散剂注入量。

一种实施例，在本申请所述过滤装置100中，还设置了光阻滤芯50。所述光阻滤芯50串联于所述出水管12和所述水泵210之间，所述光阻滤芯50用于过滤清洁用水中未与所述高分子絮凝剂发生结合的光阻残渣，作为所述储水器10中的所述高分子絮凝剂的絮凝功效的一个补充措施。可以理解的，当所述储水器10中的絮凝作用足够充分的情况下，所述光阻滤芯50处将没有可以用于过滤的光阻残渣。但当所述储水器10中的所述高分子絮凝剂的絮凝作用因为各种外界因素的干扰而没有与光阻残渣充分结合，所述光阻滤芯50可以对未结合而从所述出水管12流出的光阻残渣进行有效拦截，进一步提高本申请所述过滤装置100的过滤效果。可以理解的，将所述光阻滤芯50设置于所述出水管12和所述水泵210之间，并没有限定所述光阻滤芯50与所述蓄水器40的相对位置。在本申请所要求保护的方案中，所述光阻滤芯50位于所述出水管12和所述蓄水器40之间，亦或所述光阻滤芯50位于所述蓄水器40和所述水泵210之间，均可以达到有效的拦截效果，不影响本申请所述过滤装置100的有效工作。

对于所述储水器10的内部结构，一种实施例见图2，所述储水器10中的所述搅拌器13为多个。多个所述搅拌器13沿所述储水器10中的水流方向，即沿所述进水管11到所述出水管12的方向依次排布。多个所述搅拌器13共同作用，可以增进所述储水器10中的清洁用水的旋转运动，使得光阻残渣和所述高分子絮凝剂的结合更加充分。进一步的，相邻两个所述搅拌器13的旋向和/或转速可以设置为不相同，这样在相邻两个所述搅拌器13之间的清洁用水会产生紊流，所述高分子絮凝剂和光阻残渣在混乱的紊流中能够实现更高效的结合，进而提升本申请所述过滤装置100的过滤效率。

还有一些实施例，将所述加药器20设置于两个所述搅拌器13之间，使得所述高分子絮凝剂从两个所述搅拌器13之间注入所述储水器10。即所述高分子絮凝剂进入所述储水器10的位置恰好在清洁用水运动最混乱的位置，有利于提高所述高分子絮凝剂与光阻残渣的结合几率，进而更有效的实现絮凝团的形成。

以上所述的实施方式，并不构成对该技术方案保护范围的限定。任何在上述实施方式的精神和原则之内所作的修改、等同替换和改进等，均应包含在该技术方案的保护范围之内。