一种热电厂水循环中的自动加药系统的制作方法

本发明涉及热电厂水循环技术领域，更具体地说，它涉及一种热电厂水循环中的自动加药系统。

背景技术

热电厂的水循环中的管道、锅炉内会形成水垢，因此需要向水循环中加入缓蚀阻垢剂以减缓水垢形成。

目前，现有技术中，授权公告号为cn207391110u的中国专利文件公开了一种缓蚀阻垢剂加药装置，包括控制器、主支架、多个阻垢剂混合池及多个水箱；控制器及阻垢剂混合池均设置在主支架上，阻垢剂混合池通过单向阀连接水箱，单向阀与控制器电连接，水箱内部设有液位传感器，液位传感器与控制器电连接。

该现有技术利用各种电器设备实现了自动加药的效果，但是这些电器结构复杂，造价也较高。

技术实现要素：

针对现有技术存在的不足，本发明在于提供一种热电厂水循环中的自动加药系统，其优势在于利用机械机构实现自动加药的效果，且造价便宜。

本发明的技术目的是通过以下技术方案得以实现的：一种热电厂水循环中的自动加药系统，包括上端开口的水箱以及设置在水箱上方的药箱，所述药箱下端开设有一个输药口，水箱上相对的两端，一端连接有进水管，另一端连接有出水管；

所述药箱内设置有用于封闭输药口的密封机构，所述密封机构包括转动连接在药箱内的密封板，密封板与药箱内壁之间设置有动力元件，密封板受动力元件驱动能够遮蔽输药口；

还包括用于控制输药口启闭的控制机构，所述控制机构包括与所述药箱转动连接的控制杆，控制杆的下端伸入至水箱中并且连接有阻流件，所述阻流件面向水流方向设置，所述控制杆的上端设置有一根可插入至输药口的控制轴。

通过采用上述技术方案，密封板在动力元件的作用下贴紧输药口，从而使得药箱中的药液无法从输药口流至水箱中，水循环在运作时，水从进水管流入水箱中然从出水管流出。水在水箱中流动时会推动阻挡件，从而使得控制杆绕其与药箱转动连接位置转动，控制杆转动的过程中控制轴插入输药口并且顶开密封板，进而使得药箱中的药液从输药口流出并且流入至水箱中，并且最终进入水循环中起到减缓水垢形成的作用。因为控制杆受水箱中的水流影响，水流的流速越大则控制轴进入输药口的长度越长，并且密封板与药箱之间的间隙越大，流入水箱中的药液量越大。而当水循环停止时，水箱中的水不再流动，此时密封板受到动力元件的作用遮蔽输药口，且控制轴退出输药口。

本发明进一步设置为：所述动力元件为磁铁块，所述磁铁块设置在密封板面向输药口的一面上，所述药箱为铁材质，所述密封板与药箱贴合时磁铁块位于输药口中。

通过采用上述技术方案，动力元件与铁箱之间的相互吸引使得密封板能够贴紧药箱。

本发明进一步设置为：所述密封板面向于输药口的一面设置有密封环，所述密封环包围磁铁块，并且所述密封环尺寸大于输药口的尺寸。

通过采用上述技术方案，密封板与药箱贴紧时，密封环使得密封板与药箱贴合更加的紧密，使得药液更难以从输药口泄露出。

本发明进一步设置为：所述控制杆的上端与一个连接环相连，控制杆上端穿设入连接环，并且控制轴与连接环同轴设置，控制轴靠近药箱一端伸出连接环，连接环与药箱之间设置有柔性薄膜制成的圆筒状导流通道，导流通道一端与药箱固定并且将输药口包围，导流通道另一端将连接环一端包围在内并与之固定，连接环相对于连接导流通道的一端连接有一根测量管，测量管与一固定在水箱内壁上的浮子流量计相连。

通过采用上述技术方案，密封板被控制轴顶开时，药液通过导流通道流入连接环，然后流入浮子流量计，通过观察浮子流量计可以观测到流入水循环系统内的药液量。

本发明进一步设置为：所述药箱一面上开设有观察口，观察口内设置有玻璃。

通过采用上述技术方案，透过观察口可以看到药箱内的药液余量。

本发明进一步设置为：所述阻流件为一块与控制杆下端连接的板。

通过采用上述技术方案，阻流件为一块板，水箱中的水流动时会推动组件件，进而让控制杆转动。

本发明进一步设置为：所述药箱内输药口的周边位置上设置有安装槽，所述动力元件为设置在安装槽中的弹簧，所述弹簧一端于安装槽中与药箱相连，另一端与密封板相连。

通过采用上述技术方案，在弹簧的作用下密封板与药箱贴合，并且弹簧缩入安装槽中。

本发明进一步设置为：所述阻流件为一个与控制杆下端连接的阻流环，阻流环内侧连接有兜状的阻流膜。

通过采用上述技术方案，兜状的阻流膜能够大面积的与水流接触，进而使得更容易通过流水驱动控制杆转动。

综上所述，本发明具有以下有益效果：

1、热电厂中的水循环启动时，阻流件受到水箱中的水流作用转动，并且控制轴顶入输药口，药液从药箱流经过流量计计量后流入水箱中，并且最终进入水循环中以减缓水循环的管道、锅炉内壁的水垢形成，水循环停止时药液停止流入水箱中，从而实现了不耗能的、自动的向水循环中加入药液；

2、控制杆水箱中的水流影响，水流的流速越大则控制轴进入输药口的长度越长，并且密封板与药箱之间的间隙越大，流入水箱中的药液量越大。

附图说明

图1为实施例一的整体结构示意图；

图2为实施例一的剖面结构示意图；

图3为图2中a处的放大结构示意图；

图4为实施例二的剖面结构示意图；

图5为图4中b处的放大结构示意图。

附图标记：1、水箱；2、药箱；3、下支撑架；4、上支撑架；5、观察口；6、玻璃；7、输药口；8、进水管；9、出水管；10、水泵；11、密封板；12、动力元件；13、密封环；14、控制杆；15、阻流件；16、连接环；17、控制轴；18、导流通道；19、测量管；20、浮子流量计；21、输水管；22、安装槽。

具体实施方式

参照附图对本发明做进一步说明。

本实施一：

一种热电厂水循环中的自动加药系统，如图1所示，包括上端开口的水箱1以及设置在水箱1上方的药箱2，水箱1通过与其下端固定的下支撑架3支撑，在水箱1上端固定有上支撑架4，药箱2固定在上支撑架4上。药箱2一面上开设有观察口5，观察口5内安装有玻璃6，透过观察口5可以看到储放在药箱2内的缓蚀阻垢剂药液余量。

如图2、3所示，药箱2呈长方形且药箱2的下端一侧面上开设有一个圆形的输药口7，水箱1相对的两端，一端连接有进水管8，另一端连接有出水管9，出水管9上安装有水泵10，药箱2位于水箱1与进水管8相连的一端的上方，输药口7设置在药箱2面向出水管9的一面上。

本系统还包括设置在药箱2内，用于封闭输药口7的密封机构，密封机构包括设置在药箱2内的密封板11，密封板11上端与输药口7上方的位置转动连接。密封板11与药箱2内壁之间设置有动力元件12。动力元件12为一块圆盘状的磁铁块，磁铁块固定在密封板11处于竖直状态面向输药口7的一面上，药箱2的材质为铁，密封板11受动力元件12作用会与药箱2贴合，密封板11在与药箱2贴合时，磁铁块位于输药口7中，而密封板11能够遮蔽输药口7。

此外，密封板11面向于输药口7的一面粘贴有将磁铁块包围的橡胶材质的密封环13，并且密封环13尺寸大于输药口7的尺寸，密封板11与药箱2贴紧时，密封环13将输药口7包围在中间，密封环13使得密封板11与药箱2贴合更加的紧密，使得药液更难以从输药口7泄露出。

如图2、3所示，本系统还包括用于控制输药口7启闭的控制机构。控制机构包括与药箱2转动连接的控制杆14，控制杆14与药箱2铰接位置位于药箱2面向出水管9一面下端的边线上，控制杆14的下端伸入至水箱1中并且连接有阻流件15，阻流件15为一块圆形的板，控制杆14处于竖直状态时阻流件15面向进水管8。

控制杆14的上端固定连接有一个连接环16，控制杆14上端穿设入连接环16并且连接有控制轴17，并且控制轴17与连接环16同轴设置，控制杆14处于竖直状态时，控制轴17垂直于输药管所在表面。控制轴17靠近药箱2一端伸出连接环16，连接环16与药箱2之间设置有柔性薄膜制成的圆筒状导流通道18，导流通道18一端与药箱2固定并且将输药口7包围，导流通道18另一端将连接环16包围在内并与之固定。连接环16相对于与导流通道18连接的另一端连接有一根测量管19，测量管19与一固定在水箱1内壁上的浮子流量计20相连，浮子流量计20上端还连通一根通入水箱1的输水管21。

具体工作过程：

水泵10在不工作时，水箱1内的水流静止，密封板11在磁铁块的作用下贴紧药箱2内壁，从而使得药箱2中的药液无法从输药口7流至水箱1中。

启动水泵10，水从进水管8进入水箱1，并且从出水管9流出水箱1。水在水箱1中流动时会推动阻挡件，从而使得控制杆14绕其与药箱2转动连接位置转动，控制杆14转动的过程中控制轴17插入输药口7并且顶开密封板11，进而使得药箱2中的药液从输药口7流出流入导流通道18，然后依次流经连接环16、测量管19、浮力流量计和输水管21，然后流入至水箱1中，并且最终进入水循环中起到减缓水垢形成的作用。

此外，因为控制杆14受水箱1中的水流影响，水流的流速越大则控制轴17进入输药口7的长度越长，并且密封板11与药箱2之间的间隙越大，流入水箱1中的药液量也越大。

实施例二：

如图4、5所示，相比于实施例一的不同之处在于：药箱2内输药口7的周边位置上开设有一个安装槽22，动力元件12为设置在安装槽22中的弹簧，弹簧一端于安装槽22中与药箱2固定相连，另一端与密封板11上对应位置固定相连。在弹簧的作用下密封板11与药箱2贴合，并且弹簧缩入安装槽22中,并且在密封板11与药箱2贴合时弹簧位于密封环13的外侧。

而阻流件15为一个与控制杆14下端连接的阻流环，阻流环内侧连接有兜状的阻流膜。兜状的阻流膜受到水流冲击时会展开，从而使得阻流件15能够大面积的与水流接触，进而使得更容易通过流水驱动控制杆14转动。

本具体实施例中的指定方向仅仅是为了便于表述各部件之间位置关系以及相互配合的关系。以上仅是本发明的优选实施方式，本发明的保护范围并不仅局限于上述实施例，凡属于本发明思路下的技术方案均属于本发明的保护范围。应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明原理前提下的若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。