专利名称:基片存放容器的干式清洗装置的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种基片存放容器的干式清洗装置，尤其涉及使用干冰粒子对基片存放容器的主体和盖子分别进行干式清洗的基片存放容器的干式清洗装置。
背景技术：
通常，半导体装置或显示器装置通过使用半导体晶片或平板显示器(FPDflat panel display)基片经过蒸镀、蚀刻、光刻、离子注入等各种工艺而制造。
为了顺利进行上述各种工艺半导体晶片或平板显示器基片不仅在各组之间进行移送，而且还在同一个组中的各制造装置之间进行移送。
作为一例，基片可以通过自动搬运车(truck)或机器移送臂来移送。
这种基片在同一组中较短的距离内可以以张为单位进行移送，而在距离较长或稳定性要求较高时可以以组(lot)为单位存放到输送盒(carrier)或晶片盒(cassette)等基片存放容器中进行移送。
作为一例，基片存放容器中由聚丙烯(poly propylene)材质构成的容器称为P.P.盒。
所述P.P.盒包含内部形成用于存放基片的存放空间的主体和安装在所述主体入口处的盖子。
此外，即使是微细的杂质或颗粒，只要被贴附在基片表面，基片质量将显著降低。
为此，用于存放基片的基片存放容器需要具有高洁净度。
因此，基片存放容器在存放基片之前通过基片存放容器的清洗装置进行清洗。
通常，基片存放容器经过在所述主体和盖子上处理清洗液之后通过喷射干燥空气使残留液干燥的湿式清洗过程进行清洗。
但是，由于现有的基片存放容器的清洗装置采用湿式清洗方式，因此存在需要经过由清洗液处理过程和干燥空气喷射过程组成的两个步骤的不便之处。
并且，由于现有的基片存放容器的清洗装置需要分别具有处理清洗液的装置和喷射干燥空气的装置，因此存在设备体积过大、制作成本上升的缺点。
尤其，由于基片存放容器为盒状，现有的基片存放容器的清洗装置很难利用干燥空气对其整个内部进行均匀干燥，因此存在难以完成精细的清洗过程的问题。
并且，如上所述的聚丙烯材质的基片存放容器，由于在干燥过程中被暴露在高温干燥空气中，所以易于变形并因此缩短寿命。
此外，除了所述湿式清洗方式以外目前还存在利用刷子、超音波或化学药品等的各种清洗方式。
但是，上述的清洗方式难以满足随着半导体制造技术的发展而提出的精细的清洗要求。
尤其，最近随着环保问题日益受重视对清洗方式所提出的环保要求越来越高，而上述清洗方式难以满足环保要求。
最近，曾提出过既能满足环保要求、又能克服上述清洗方式中的缺陷的清洗方式。
作为最具代表性的一例，曾提出过将通过二氧化碳(CO2)气体的相变化产生的干冰粒子高速撞击到被清洗物体的表面，从而清除杂质或颗粒的干冰清洗方式。
所述干冰清洗方式，由于干冰粒子在清除被清洗物的污染物之后被升华而没有残留物，因而比湿式清洗方式更为环保。
并且，由于所述干冰清洗方式只通过喷射干冰粒子的一个步骤即可完成清洗，因此清洗过程较简单、设备体积也可以显著减小，这有利于提高清洁室的空间利用率，而且由于可以进行微细的清洗过程，因此还可以对难以清除污染粒子的部分进行清洗。
因此，有必要提供使用干冰粒子清洗基片存放容器的基片存放容器清洗装置。
发明内容本发明是为了解决如上所述的问题而提出的，其目的在于提供一种使用干冰粒子清洗基片存放容器的基片存放容器的干式清洗装置。
为了实现上述目的本发明所提供的干式清洗装置包含用于装载基片存放容器的装载部、使用干冰粒子清洗所述基片存放容器的清洗部以及用于卸载在所述清洗部进行清洗的所述基片存放容器的卸载部。
在所述结构中，所述装载部按照互不相同的路径将所述基片存放容器的主体和盖子装载到所述清洗部，所述清洗部向所述主体和盖子的整个内部分别喷射干冰粒子，所述卸载部按照互不相同的路径卸载经过清洗的所述主体和盖子。
图1为一般的基片存放容器一实施例的剖面图；图2为本发明所提供的基片存放容器的干式清洗装置一实施例的平面结构示意图；图3为表示本发明所提供的基片存放容器的干式清洗装置装载部的本发明一实施例的侧面结构示意图；图4为表示本发明所提供的基片存放容器的干式清洗装置装载部的本发明一实施例的正面结构示意图；图5为表示本发明所提供的基片存放容器的干式清洗装置清洗部的本发明一实施例的侧面结构示意图；图6为表示本发明所提供的基片存放容器的干式清洗装置清洗部的本发明一实施例的正面结构示意图；图7为表示本发明所提供的基片存放容器的干式清洗装置卸载部的本发明一实施例的侧面结构示意图；图8为表示本发明所提供的基片存放容器的干式清洗装置卸载部的本发明一实施例的正面结构示意图；主要符号说明100为基片存放容器，101为主体，102为盖子，200为装载部，210为第一装载部，220为第二装载部，300为清洗部，310为第一清洗移送部，320为第二清洗移送部，330为干式喷射单元，333为干冰喷嘴，334为空气喷嘴，340为气刀(air knife)，350为门，360为清除单元，400为卸载部，410为第一卸载部，420为第二卸载部，500为翻转单元。
具体实施方式以下，参照附图详细说明本发明的最佳实施例。
图1为一般的基片存放容器一实施例的剖面图。如图1所示，所述基片存放容器100包含内部形成用于存放基片的存放空间101a的主体101、用于开闭所述主体101的存放空间101a的盖子102。
图2为本发明所提供的基片存放容器的干式清洗装置一实施例的平面结构示意图。
如图2所示，依据本发明所提供的基片存放容器的干式清洗装置的一实施例包含装载部200，以用于将由主体101和盖子102构成的基片存放容器100分离为主体101和盖子102而分别按互不相同的路径进行装载；清洗部300，以用于向由所述装载部200装载的主体101和盖子102内部喷射干冰粒子进行清洗；卸载部400，以用于将由所述清洗部300进行清洗的主体101和盖子102按互不相同的路径进行卸载。
所述装载部200包含用于装载基片存放容器100的主体101的第一装载部210(211、212)和用于装载基片存放容器100的盖子102的第二装载部220。
这种装载部200最好相邻而设置第一装载部210和第二装载部220，以使工作者易于装载主体101和盖子102。
所述清洗部300包含用于接收第一装载部210装载的主体101的第一清洗移送部310、用于接收第二装载部220装载的盖子102的第二清洗移送部320及用于分别向主体101和盖子102内部喷射干冰粒子的干式喷射单元330。
所述卸载部400包含用于卸载由清洗部300进行清洗的主体101的第一卸载部410和用于卸载由清洗部300进行清洗的盖子102的第二卸载部420。
所述主体101最好采用一般的搬运状态，例如以开口朝上的状态进行装载及卸载，这样就不需要专门进行翻转。
并且，通过干式喷射单元330向主体101内部喷射干冰粒子之后，为了使与所述干冰粒子一同清除的杂质依靠重力作用进行自由降落，主体101最好以开口朝下的状态投入到清洗部300。
并且，考虑到清洗部300中干式喷射单元330的设置空间，主体101需要上升到高于最初投入高度的位置。
因此，为了易于投入主体101，装载部200将最初以开口朝上的状态装载的主体101按上下方向翻转为开口朝下的状态，并将主体101上升到高于最初投入高度的位置而装载到清洗部300。
并且，清洗部300由下到上进入到开口朝下的主体101内部喷射干冰粒子，以通过自由降落清除杂质。
并且，为了易于搬出主体101，卸载部400将从清洗部300以开口朝下的状态搬出的主体101按上下方向翻转为开口朝上的状态，并将主体101下降到最初的投入高度进行卸载。
因此，装载部200和卸载部400上分别设有将在下面进行描述的一对翻转单元500。
图3为表示本发明所提供的基片存放容器的干式清洗装置装载部的本发明一实施例的侧面结构示意图，图4为表示本发明所提供的基片存放容器的干式清洗装置装载部的本发明一实施例的正面结构示意图。
基片存放容器100以搬运状态装载到所述装载部200，例如主体101以开口朝上的状态投入到第一装载部210(211、212)，盖子102以开口朝下的状态投入到第二装载部220。
并且，如上所述，主体101上升到进行清洗作业所需高度的同时按上下方向翻转为开口朝下的状态，然后装载到清洗部300。
因此，装载部200上设有翻转单元500，以用于提升并按上下方向翻转主体101以使主体101开口朝下。
作为一例，在第一装载部212设置翻转单元500的区间可以设置主体监测传感器(未图示)，以用于监测主体101是否进入。
因此，当由所述主体监测传感器监测到主体101时最好停止第一装载部212，并由翻转单元500加压支持而提升及旋转主体101。
所述翻转单元500包含用于加压支持主体101两个侧面而进行旋转的加压旋转部件510和用于升降所述加压旋转部件510的升降部件520。
所述加压旋转部件510包含在主体101的两个侧面相对而设置的一对加压衬垫511、用于旋转所述各加压衬垫511的一对驱动部512、用于将所述各驱动部512移送到主体101侧面并使加压衬垫511加压接触主体101侧面的一对汽缸513。
所述加压衬垫511直接连接到驱动部512，可以以一点支持主体101的一侧面，但最好如图3所示，以两点支持主体101的一侧面，从而稳定地加压并支持主体101。
据此，主体101一侧的各加压衬垫511分别结合到设置杆514的两侧，而设置杆514的中央连接驱动部512。
因此，当主体101沿着第一装载部210以开口朝上的状态到达清洗部300跟前时，加压衬垫511通过汽缸513朝主体101的两个侧面突出，从而加压并支持主体101。
如此，由于主体101由加压衬垫511加压并支持的状态下汽缸513沿着升降部件520上升，因而主体101也一起上升。同时，驱动部512将设置杆514旋转180度，以使主体101按上下方向翻转为开口朝下。
如此，当主体101开口朝下并被提升到一定高度时，提升第一装载部212以支持主体101的底面。因此，当由第一装载部212支持主体101时翻转单元500脱离主体101而下降。在此状态下第一装载部212被旋转驱动，从而将主体101装载到清洗部300的第一清洗移送部310。
如上所述，主体101不需要手动提升或翻转，通过翻转单元500自动上升或上下翻转为开口朝下，然后被投入到清洗部300。
另外，盖子102沿着第二装载部220水平移送到第二清洗移送部320。
图5为表示本发明所提供的基片存放容器的干式清洗装置清洗部的本发明一实施例的侧面结构示意图，图6为表示本发明所提供的基片存放容器的干式清洗装置清洗部的本发明一实施例的正面结构示意图。
在所述清洗部300主体101和盖子102以开口朝下的状态分别投入到第一清洗移送部310和第二清洗移送部320。
如此，为了向移送到第一清洗移送部310和第二清洗移送部320的主体101和盖子102的整个内部喷射干冰粒子，清洗部300在第一清洗移送部310和第二清洗移送部320的下侧分别设置干式喷射单元330。
并且，第一清洗移送部310和第二清洗移送部320如图所示，在其旋转轴(shaft)的中央部分被略去的状态下支持主体101和盖子102的边缘。因此，当所述各干式喷射单元330向主体101和盖子102内部喷射干冰粒子时不会受到干涉。
并且，干式喷射单元330向主体101和盖子102内部的互不相同的多个部位呈辐射状地喷射干冰粒子。
尤其，向主体101内部喷射干冰粒子的干式喷射单元330最好构成为可升降的结构，从而上升进入到主体101的内部。
这种干式喷射单元330包含多个干冰喷嘴333，该干冰喷嘴333偏心结合到与驱动轴331相结合的转板332，根据所述4转板332的旋转呈辐射状地喷射干冰粒子。
由于各干冰喷嘴333呈辐射状地喷射干冰粒子，因此对主体101和盖子102的整个内部进行干式清洗。
在上述结构中，干式喷射单元330还包含用于向主体101内部喷射干燥空气的空气喷嘴334。
由于主体101的内部比盖子102内部深，因此设置所述空气喷嘴334用于防止主体101内部存在不能通过干冰粒子进行清洗的部位。
即，由各干冰喷嘴333喷射的干冰粒子通过由所述空气喷嘴334喷射的干燥空气被顺利地引导到主体101和盖子102的整个内部，从而没有遗漏而完整地进行清洗。
在上述结构中，清洗部300还包含用于向主体101和盖子102的外表面加压喷射干燥空气的气刀340。
通过这种气刀340对主体101和盖子102的外表面也进行清洗，因而可以完全消除因基片存放容器100引起的基片被污染的因素。
并且，气刀340最好以固定形态设置在第一清洗移送部310和第二清洗移送部320的入口，以使主体101和盖子102在移送的途中被清洗。
在上述结构中，清洗部300设置在外壳301内部，所述外壳301还包含门350，以用于开闭投入主体101的入口或搬出主体101的出口。
作为一例，门350的上下部可以由外壳301引导滑移，并可以与汽缸(未图示)等结合进行自动操作。
因此，防止在清洗部300进行清洗的过程中产生的颗粒或杂质流入到装载部200或卸载部400。
并且，还可以在投入主体101的入口及搬出主体101的出口处均设置门350，从而可以对清洗部300进行密封。
在上述结构中，清洗部300还包含用于在其内部收集脱落的杂质的清除单元360。
因此，在清洗部300中与干冰粒子进行反应而产生的各种杂质通过清除单元360排到外部，从而可以进一步提高清洗效率。
这种清除单元360最好结合在干式喷射单元330的下侧，与干式喷射单元一起进行升降。
图7为表示本发明所提供的基片存放容器的干式清洗装置卸载部的本发明一实施例的侧面结构示意图，图8为表示本发明所提供的基片存放容器的干式清洗装置卸载部的本发明一实施例的正面结构示意图。
在所述卸载部400主体101以开口朝下的状态被搬到第一卸载部410(411、412)，盖子102以开口朝下的状态被搬到第二卸载部420。
并且，在将主体101下降到便于搬出主体101的最初投入高度的同时按上下方向翻转为开口朝上。
因此，卸载部400上设有翻转单元500，以用于降低并按上下方向翻转从清洗部300搬出的主体101以使其开口朝上。
这种翻转单元500与设置在装载部200的翻转单元相同，因而在此省略其说明。
作为一例，在第一卸载部411设置翻转单元500的区间可以设置主体监测传感器(未图示)，以用于监测主体101是否搬出。
因此，当由所述主体监测传感器监测到主体101时最好停止第一卸载部411，并由翻转单元500加压支持而降低及旋转主体101。
据此，当主体101沿着第一清洗移送部310进行清洗并以开口朝下的状态到达第一卸载部411时，加压衬垫511通过汽缸513朝主体101的两个侧面突出，从而加压并支持主体101。
如上所述，在由加压衬垫511加压并支持主体101的状态下降低第一卸载部411。如此，在主体101由加压衬垫511加压支持而被支撑的状态下，如果第一卸载部411下降到最初的投入高度，则汽缸513将沿着升降部件520下降，因而主体101也一起下降。同时，驱动部512将设置杆514旋转180度，以使主体101按上下方向翻转为开口朝上。
如此，当主体101在开口朝上的状态下由第一卸载部411支持时，翻转单元500脱离主体101而上升。在此状态下主体101由第一卸载部411进行卸载。
如上所述，主体101不需要手动降低或翻转，通过翻转单元500自动降低或上下翻转为开口朝上，从而恢复到最初状态并被搬出。
另外，盖子102沿着第二卸载部320水平移送而进行卸载。
此外，装载部200、清洗部300及卸载部400上沿着主体101及盖子102的移送路径将设置多个监测传感器(未图示)，以用于监测主体101及盖子102的位置。
虽然，上面通过附图描述了本发明特定的优选实施例，但本发明并非限定于所述实施例，在不脱离本发明技术思想的范围内本发明所属技术领域：
的具有通常知识的工作者可以进行各种变更及修改。
综上所述，本发明因为使用干冰粒子清洗基片存放容器，所以没有被排出的废弃物。从而具有环保效果。
并且，本发明因为使用干冰粒子，所以可以进行精细的清洗并使基片存放容器的变形或破损最小，具有延长使用寿命的效果。
并且，本发明与现有的湿式清洗装置相比清洗工艺较简单，因而可以使设备大小显著减小，具有经济效应。
并且，本发明不需要根据干冰粒子的喷射方向对基片存放容器的主体和盖子进行翻转，而是按照搬运状态进行装载及卸载，因而具有提高作业效率的效果。
权利要求
1.一种基片存放容器的干式清洗装置，其特征在于包含装载部，以用于装载基片存放容器；清洗部，以用于使用干冰粒子清洗所述基片存放容器；以及卸载部，以用于卸载在所述清洗部进行清洗的所述基片存放容器。
2.根据权利要求
1所述的基片存放容器的干式清洗装置，其特征在于所述装载部按照互不相同的路径将所述基片存放容器的主体和盖子装载到所述清洗部；所述清洗部向所述主体和盖子的整个内部分别喷射干冰粒子；所述卸载部按照互不相同的路径卸载进行清洗的所述主体和盖子。
3.根据权利要求
2所述的基片存放容器的干式清洗装置，其特征在于所述装载部使所述主体开口朝下，同时使主体上升到高于最初的投入高度的位置而移送到所述清洗部；所述清洗部从下向上进入到所述主体内部而喷射干冰粒子；所述卸载部使从所述清洗部搬出的所述主体开口朝上，同时使主体下降到最初的投入高度而进行移送。
4.根据权利要求
3所述的基片存放容器的干式清洗装置，其特征在于所述装载部和所述卸载部还包含一对翻转单元，以用于上下翻转投入到所述装载部的所述主体，并将从所述清洗部搬到所述卸载部的所述主体上下翻转为开口朝上。
5.根据权利要求
4所述的基片存放容器的干式清洗装置，其特征在于所述各翻转单元包含加压旋转部件，以用于加压支持所述主体的两个侧面而进行旋转；以及升降部件，以用于升降所述加压旋转部件。
6.根据权利要求
5所述的基片存放容器的干式清洗装置，其特征在于所述加压旋转部件包含在所述主体的两个侧面相对而设置的一对加压衬垫；一对驱动部，以用于旋转所述各加压衬垫；以及一对汽缸，以用于将所述各驱动部移送到所述主体侧面，以使所述加压衬垫加压接触所述主体侧面。
7.根据权利要求
3所述的基片存放容器的干式清洗装置，其特征在于所述清洗部包含干式喷射单元，以用于向所述主体或所述盖子内部的互不相同的多个部位呈辐射状地喷射干冰粒子。
8.根据权利要求
7所述的基片存放容器的干式清洗装置，其特征在于所述干式喷射单元包含多个干冰喷嘴，该干冰喷嘴偏心结合到与驱动轴相结合的转板，并根据所述转板的旋转呈辐射状地喷射干冰粒子。
9.根据权利要求
8所述的基片存放容器的干式清洗装置，其特征在于所述干式喷射单元还包含空气喷嘴，以用于向所述主体或盖子内部喷射干燥空气。
10.根据权利要求
3所述的基片存放容器的干式清洗装置，其特征在于所述清洗部还包含气刀，以用于向所述主体或盖子的外表面加压喷射干燥空气。
11.根据权利要求
10所述的基片存放容器的干式清洗装置，其特征在于所述清洗部设置在外壳内部，所述外壳还包含门，以用于开闭投入所述基片存放容器的入口或搬出所述基片存放容器的出口。
12.根据权利要求
3所述的基片存放容器的干式清洗装置，其特征在于所述清洗部还包含清除单元，以用于通过向外排出而清除清洗过程中产生的杂质。
专利摘要
本发明涉及一种基片存放容器的干式清洗装置，该干式清洗装置包含装载部，以用于投入并移送基片存放容器；清洗部，以用于使用干冰粒子清洗所述基片存放容器；卸载部，以用于搬出并移送在所述清洗部完成清洗的所述基片存放容器。依据本发明，因为使用干冰粒子清洗基片存放容器，所以没有被排出的废弃物而具有环保效果。并且，本发明因为使用干冰粒子，所以可以进行微细的清洗并使基片存放容器的变形或破损最小，具有延长使用寿命的效果。并且，本发明与现有的湿式清洗装置相比清洗工艺较简单，因而可以使设备大小显著变小，具有经济效应。
文档编号B08B7/00GK1990127SQ200610101810
公开日2007年7月4日 申请日期2006年7月11日
发明者金世镐, 朴钟秀, 尹哲男 申请人:K.C.科技股份有限公司导出引文BiBTeX, EndNote, RefMan