实施例提供一下方案。
[0069]实施例二
[0070]如图2所示，腔室清洁装置还可以包括还原设备32，以实现对清洁布210的还原处理。
[0071]具体的，还原设备32内可以设置有还原导轨310。所述还原导轨310通过还原入口 301和还原出口 302与供给导轨220相连接。这样一来，还原设备32可以对清洁后的清洁布210进行还原处理，使其能够重复利用。具体的还原过程，可以是对清洁布210进行清洗、烘干处理。或者，当清洁布210为活性炭纤维布时，可以通过脱附方法对活性炭纤维布进行还原。具体的脱附方法可以包括:高温脱附、减压脱附、冲洗脱附、置换脱附、磁化脱附以及超声波脱附等等。
[0072]此外，该腔室清洁装置还可以包括设置于清洁轨道02上方，或者，设置于输送出口 31与还原入口 301之间，位于供给导轨220上方的至少一个检测器(图中未示出)，用于对清洁轨道02上的清洁布210的吸附饱和量进行检测，当所述吸附饱和量达到检测器的设定阈值时，可以向控制器10发送预警信号，使得控制器10进行报警。
[0073]以下，在设置有上述检测器的情况下，对还原过程进行详细的说明。
[0074]首先，所述检测器可以对第一清洁布2100的吸附饱和量进行检测。
[0075]接下来，当第一清洁布2100的吸附饱和量达到检测器的设定阈值时，向控制器10发送预警信号。
[0076]接下来，控制器接受上述预警信号并报警。
[0077]接下来，第一清洁布2100的起始端与末端均缠绕于第二卷轴2002上。
[0078]接下来，第二卷轴2002沿第一方向通过还原入口 301进入还原导轨310。
[0079]接下来，还原设备32对还原导轨301上的清洁布(即清洁后的上述第一清洁布2100)进行还原处理。
[0080]然后，经过还原处理的第一清洁布2100，可以由第二卷轴2002通过还原出口 302运送至供给导轨220上，并移动至第一工位A，以使得还原后的清洁布2100能够被重新利用。
[0081]如果，当第一清洁布2100的吸附饱和量未达到检测器的设定阈值时，第一清洁布2100的起始端与末端均缠绕于第二卷轴2002上。
[0082]接下来，第二卷轴2002沿第一方向，向第一工位A移动，以使得吸附饱和量未达到检测器的设定阈值的第一清洁布2100能够被再次利用。
[0083]这样一来，可以通过清洁布的再次利用，降低生产升本。
[0084]需要说明的是，第一、本发明提供的实施例中，供给设备20还可以包括卷轴驱动部件230，用于接收所述控制器10的控制信号，并驱动卷轴沿供给导轨220和还原导轨310移动。本发明对卷轴驱动部件230不作限定，然而卷轴驱动部件230作为动力部件，可以根据驱动方式的不同而不同。例如，当卷轴是在电力驱动下进行工作时，上述卷轴驱动部件230可以是电源；当卷轴是在机械力驱动下进行工作时，上述卷轴驱动部件230可以是液压设备，例如液压泵、液压缸等
[0085]第二、对于上述实施例而言，以上描述过程中提及的第一卷轴2001、第二卷轴2002、第三卷轴2003仅仅是为了利于清楚的描述更换过程，而对装置中的卷轴进行的划分。其中，同一个卷轴可以具有不同的工位。例如第一卷轴2001，当其位于第一工位A时，为该腔室清洁装置中位于第一工位的卷轴201 ;当其位于第二工位B时，为该腔室清洁装置中位于第二工位B的卷轴202。第二卷轴2002与第三卷轴2003同理。
[0086]此外，以上描述过程中提及的第一清洁布2100和第二清洁布2101也是为了利于清楚的描述更换过程，而对腔室清洁装置中的清洁布进行的划分。其中，同一清洁布可以位于不同的位置，例如当第一清洁布2100的部分位于清洁轨道02上时，该清洁布为装置中部位位于清洁布轨道02上的清洁布202 ;当第一清洁布2100位于还原设备32中时，所述第一清洁布2100为腔室清洁装置中位于还原导轨310上的清洁布210。
[0087]第三、上述仅仅是以腔室清洁装置中包括三个卷轴和两卷清洁布为例进行的说明，其他数量的卷轴和清洁布在此不再一一赘述，但都应当属于本发明的保护范围。
[0088]以下通过具体的实施例对清洁轨道02进行详细的说明。
[0089]实施例三
[0090]所述清洁轨道02，如图4所示，可以包括至少一个位置调节器40。位置调节器40可以沿预设轨迹分布于腔室01内部。
[0091]其中，上述预设轨迹是指，预先设置在腔室内的清洁布210的运行轨迹。其设计原则在于，清洁布210沿预设轨迹运行的过程中，不能影响腔室01内其他设备的正常工作。例如当该腔室01为曝光机工作腔时，在曝光机工作腔内，设置有用于承载被曝光基板的载物台，用于进行曝光的光源，以及掩模板。因此上述运行轨迹需要绕开载物台、光源、掩模板等曝光工作部件和工作区域，避免由于预设轨迹与曝光工作部件和工作区域重叠，而使得清洁布210对载物台上的基板、掩模板或光源等进行遮挡，造成曝光工艺失败。当然，上述仅仅是对曝光机工作腔中的预设轨迹的举例说明。其它腔室01内预设轨迹的设置同理可得，此处不再赘述。
[0092]需要说明的是，本发明对清洁轨道02的数量不做限定，如图4所示，可以根据腔室内部空间结构，设置多条沿预设轨迹(①、②、③)布置的清洁轨道02，从而可以提高清洁布210的清洁效率。本领域技术人员，可以在上述设计原则的基础上根据实际需要进行设置。
[0093]具体的，所述位置调节器40，如图5所示，可以包括沿竖直方向设置的竖直调节部件401、沿水平方向设置的水平调节部件以及沿竖直方向设置的，用于支撑清洁布210的导向部件403。
[0094]其中，竖直调节部件401与水平调节部件402通过与沿竖直方向设置的第一转轴404相连接，第一转轴404用于带动水平调节部件402以竖直调节部件401为中心进行旋转。当竖直调节部件401和垂直调节部件402为如图6所示的伸缩杆时，上述竖直调节部件401的中心可以为伸缩杆的中心线。其中，上述伸缩杆可以是具有相同中心线的多个圆柱体按照直径大小逐级嵌套。
[0095]由于竖直调节部件401在竖直方向上的长度可调，水平调节部件402在水平方向上的长度可调。这样一来，通过旋转水平调节部件402，并调节水平调节部件402的长度，可以扩大导向部件403上的清洁布210在水平方向上的清洁范围。而当调节竖直调节部件401的长度后，可以扩大导向部件403上的清洁布210在竖直方向上的清洁范围。
[0096]需要说明的是，第一、上述水平方向和竖直方向，是两个相互垂直的方向。并且上述水平方向和竖直方向是一种相对概念，当将图6旋转90度后，竖直调节部件401沿水平方向进行长度调节，而水平调节部件402沿竖直方向进行长度调节。
[0097]第二、当腔室01为曝光机工作腔室，上述竖直调节部件401或水平调节部件402的长度调节范围可以为大于等于0.lm，小于等于3m。当长度调节尺寸小于0.1m时，由于调节尺寸太小，需要将竖直调节部件401或水平调节部件402自身伸缩状态下的最小尺寸设置的很小，这样一来提高了竖直调节部件401或水平调节部件402的加工难度和精度，不利于生产成本的降低。此外，当长度调节尺寸大于3m后，由于腔室01中还设置有其它的部件，这样一来，当竖直调节部件401或水平调节部件402被调节到最大尺寸后，容易干扰到其它部件的正常工作。
[0098]此外，导向部件403可以通过沿竖直方向设置的第二转轴405与水平调节部件402相连接，在第二转轴402的带动下进行旋转。其中，上述导向部件403如图5所示，可以是中间设置有镂空区域的框，使得清洁布210能够通过上述镂空区域穿过该导向部件403，从而使得导向部件403在制成清洁布210的同时，不会影响到清洁布210的传输。
[0099]这样一来，当对竖直调节部件401和垂直调节部件402进行长度调整的过程中，由于导向部件403可以旋转，因此使得清洁布210保持展开状态，避免由于其发生扭曲，而造成清洁或吸附效果的降低。
[0100]以下对位置调节器40的具体调节过程进行详细的说明。
[0101]首先，当清洁布210在清洁轨道02上展开时，控制器10向位置调节器40发送清洁参数。例如，当清洁布210为活性碳纤维布时，该清洁参数可以与所述活性碳纤维布需的吸附饱和量，以及吸附面积有关。
[0102]接下来，根据所述清洁参数，位置调节器40的竖直调节部件401，沿竖直方向伸缩，带动导向部件403上的清洁布210沿竖直方向运动。
[0103]然后，根据所述清洁参数，位置调节器40的水平调