布需的吸附饱和量，以及吸附面积有关。
[0146]S402、根据所述清洁参数，位置调节器40的竖直调节部件401，沿竖直方向伸缩，带动导向部件403上的清洁布210沿竖直方向运动。
[0147]S403、根据所述清洁参数，位置调节器40的水平调节部件402以竖直调节部件401为中心进行旋转，并沿水平方向伸缩，带动导向部件403上的清洁布210沿水平方向运动。
[0148]这样一来，可以在清洁布210的清洁能力范围内，达到最大的清洁范围和最佳的清洁效果。
[0149]本领域普通技术人员可以理解:实现上述方法实施例的全部或部分步骤可以通过程序指令相关的硬件来完成，前述的程序可以存储于计算机可读取存储介质中，该程序在执行时，执行包括上述方法实施例的步骤；而前述的存储介质包括:ROM、RAM、磁碟或者光盘等各种可以存储程序代码的介质。
[0150]以上所述，仅为本发明的【具体实施方式】，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。
【主权项】
1.一种腔室清洁装置，用于对腔室进行清洁，其特征在于，包括用于提供控制信号的控制器、供给设备，以及设置于所述腔室内部的清洁轨道； 所述供给设备通过输送入口与所述清洁轨道的起始端相连接，并通过输送出口与所述清洁轨道的末端相连接； 所述供给设备设置有第一工位和第二工位，所述第一工位与所述输送入口相对应，所述第二工位与所述输送出口相对应； 所述供给设备包括至少两个卷轴，以及部分位于所述清洁轨道上的清洁布，位于所述第一工位的卷轴与所述清洁布的一端相连接，用于将所述清洁布从所述输送入口传送至所述清洁轨道上，位于所述第二工位的卷轴与所述清洁布的另一端相连接，用于将穿过所述输送出口的清洁布进行收集。
2.根据权利要求1所述的腔室清洁装置，其特征在于，所述供给设备还包括环形的供给导轨； 所述第一工位和所述第二工位设置于所述供给导轨上； 所述卷轴安装于所述供给导轨上，并在所述控制器的控制下，沿所述供给导轨进行移动。
3.根据权利要求2所述的腔室清洁装置，其特征在于，还包括还原设备；所述还原设备内设置有还原导轨，所述还原导轨通过还原入口和还原出口与所述供给导轨相连接；所述还原设备用于对位于所述还原导轨上的清洁布进行还原处理。
4.根据权利要求3所述的腔室清洁装置，其特征在于，所述供给设备还包括卷轴驱动部件，用于接收所述控制器的控制信号，并驱动所述卷轴沿所述供给导轨和所述还原导轨移动。
5.根据权利要求1所述的腔室清洁装置，其特征在于，所述供给设备还包括第一更换单元和第二更换单元； 所述第一更换单元设置于所述输送入口与所述第一工位之间，用于将相邻两卷所述清洁布的末端和起始端相连接； 所述第二更换单元设置于所述输送出口与所述第二工位之间，用于将相连接的两卷所述清洁布的末端与起始端分开；或用于将所述输送出口处的清洁布的起始端与位于所述第二工位的未安装清洁布的卷轴相连接。
6.根据权利要求1所述的腔室清洁装置，其特征在于，所述清洁轨道包括至少一个位置调节器，所述位置调节器沿预设轨迹分布于所述腔室内部； 所述位置调节器包括沿竖直方向设置的竖直调节部件、沿水平方向设置的水平调节部件以及沿竖直方向设置的，用于支撑所述清洁布的导向部件； 所述竖直调节部件与所述水平调节部件通过与沿竖直方向设置的第一转轴相连接，所述第一旋转轴用于带动所述水平调节部件以所述竖直调节部件为中心进行旋转； 所述竖直调节部件在竖直方向上的长度可调，所述水平调节部件在水平方向上的长度可调； 所述导向部件通过沿竖直方向设置的第二转轴与所述水平调节部件相连接，在所述第二转轴的带动下进行旋转。
7.根据权利要求6所述的腔室清洁装置，其特征在于， 所述竖直调节部件或所述水平调节部件的长度调节范围为0.1m?3m。
8.根据权利要求1所述的腔室清洁装置，其特征在于，还包括至少一个检测器，用于对所述清洁轨道上的清洁布的吸附饱和量进行检测，当所述吸附饱和量达到所述检测器的设定阈值时，向所述控制器发送预警信号。
9.一种腔室清洁装置的控制方法，用于控制如权利要求1-8任一项所述的腔室清洁装置的方法，其特征在于，所述方法包括: 将第一卷轴位于第一工位，第二卷轴位于第二工位； 将所述第一卷轴上的第一清洁布的起始端与所述第二卷轴相连接；其中，所述第一清洁布的末端与所述第一卷轴相连接； 所述第一卷轴进行旋转，将所述第一清洁布从输送入口传送至清洁轨道上； 所述清洁轨道将所述第一清洁布展开，所述第一清洁布沿所述清洁轨道对腔室进行清洁; 所述第二卷轴进行旋转，将所述第一清洁布进行收集。
10.根据权利要求9所述的腔室清洁装置的控制方法，其特征在于，在所述腔室清洁装置包括供给导轨的情况下，所述第一卷轴进行旋转，将所述第一清洁布从输送入口传送至清洁轨道上的步骤之后，所述方法还包括: 当第一清洁布的末端完全脱离所述第一卷轴时，所述第一卷轴停止旋转并沿第一方向，向所述第二工位移动； 第三卷轴沿所述第一方向移动至所述第一工位后停止，第一更换单元将所述第三卷轴上的第二清洁布的起始端与所述第一清洁布的末端相连接，所述第三卷轴进行旋转并将所述第二清洁布由所述输送入口传输至所述清洁轨道上； 当所述第一清洁布的末端与所述第二清洁布的起始端在所述输送出口与所述第二工位之间被第二更换单元分开，所述第一清洁布的起始端和末端均缠绕于所述第二卷轴上时，所述第二卷轴沿所述第一方向离开所述第二工位； 所述第一卷轴移动至所述第二工位后停止，通过第二更换单元与从所述输送出口传出的第二清洁布的起始端相连接； 所述第一卷轴旋转，对所述第二清洁布进行收集。
11.根据权利要求10所述的腔室清洁装置的控制方法，其特征在于，当所述第一卷轴离开所述第一工位后，在到达所述第二工位之前，所述方法还包括: 所述第一卷轴，移动至预设位置后停止；其中，所述预设位置位于所述第一工位和所述第二工位之间； 当所述第二卷轴离开所述第二工位后，在所述预设位置处的所述第一卷轴，沿所述第一方向，向所述第二工位移动。
12.根据权利要求10所述的腔室清洁装置的控制方法，其特征在于，还包括: 还原设备对所述还原导轨上的清洁布进行还原处理； 还原处理后的清洁布通过所述还原导轨，传送至所述供给导轨。
13.根据权利要求12所述的腔室清洁装置的控制方法，其特征在于，所述方法包括: 检测器对所述第一清洁布的吸附饱和量进行检测； 当所述第一清洁布的吸附饱和量达到所述检测器的设定阈值时，向控制器发送预警信号; 所述控制器接受所述预警信号并报警； 所述第一清洁布的起始端与末端均缠绕于所述第二卷轴上； 所述第二卷轴，沿所述第一方向通过还原入口进入所述还原导轨； 所述还原设备对所述还原导轨上的清洁布进行还原处理； 当所述第一清洁布的所述吸附饱和量未达到所述检测器的设定阈值时，所述第一清洁布的起始端与末端均缠绕于所述第二卷轴上； 所述第二卷轴，沿所述第一方向，向所述第一工位移动。
14.根据权利要求9所述的腔室清洁装置的控制方法，其特征在于，所述所述清洁轨道将所述清洁布展开，所述清洁布沿所述清洁轨道对腔室进行清洁的步骤包括: 控制器向位置调节器发送清洁参数； 根据所述清洁参数，所述位置调节器的竖直调节部件，沿竖直方向伸缩，带动导向部件上的清洁布沿竖直方向运动； 根据所述清洁参数，所述位置调节器的水平调节部件以所述竖直调节部件为中心进行旋转，并沿水平方向伸缩，带动所述导向部件上的清洁布沿水平方向运动。
【专利摘要】本发明涉及一种腔室清洁装置及其控制方法，能够解决曝光机的腔室内部清洁效率低的问题。腔室清洁装置包括：用于提供控制信号的控制器、供给设备，以及设置于所述腔室内部的清洁轨道。供给设备设置有第一工位和第二工位，第一工位与输送入口相对应，第二工位与输送出口相对应；供给设备包括至少两个卷轴，以及部分位于清洁轨道上的清洁布，位于第一工位的卷轴与清洁布的一端相连接，用于将清洁布从所述输送入口传送至清洁轨道上，位于第二工位的卷轴与清洁布的另一端相连接，用于将穿过输送出口的清洁布进行收集。
【IPC分类】B08B13-00, B08B1-00, B08B1-04
【公开号】CN104707811
【申请号】CN201510159416
【发明人】胡瑾, 孟祥明, 节昌凯
【申请人】合肥京东方光电科技有限公司, 京东方科技集团股份有限公司
【公开日】2015年6月17日
【申请日】2015年4月3日