专用于反应釜的清洗装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及化工清洗领域，尤其涉及一种专用于反应釜的清洗装置。
【背景技术】
[0002]反应釜即为有物理或化学反应的容器，通过对容器的结构设计与参数配置，实现工艺要求的加热、蒸发、冷却及低高速的混配功能。当使用反应釜对化学物品进行反应时，需要将反应釜进行清洗，以避免残留的化学物质对后续的化学反应产生不利影响。现有反应釜的清洗工作一般是通过人工利用毛刷来清洗反应釜的内壁，这种方式所存在的问题在于，部分化学物质的腐蚀性较大，在清洗的过程中会溅到皮肤上，而造成人身伤害。
【发明内容】
[0003]本发明意在提供一种专用于反应釜的清洗装置，以解决现有反应釜清洗过程中所存在的安全隐患的问题。
[0004]为达到上述目的，本发明的基础方案如下:专用于反应釜的清洗装置，包括清洗箱体和清洗毛刷，所述清洗箱体侧壁铰接有用于关闭清洗箱体的闭合门，所述清洗箱体内部水平安装有基板，所述基板上设有转动台，所述转动台内设有用于放置反应釜的卡槽，所述卡槽内设有弹性层，所述基板下方设有电机，该电机的输出轴与转动台固定连接，所述清洗箱体的上壁设有通孔，该通孔处固定连接有定位销，所述清洗毛刷上轴向设有供定位销滑动的行程孔。
[0005]本方案的原理及优点在于:在实际应用中，打开闭合门，将清洗毛刷向上拉动，以便于反应釜的放于。将加入清洗液的反应釜放入到转动台中的卡槽中，由于卡槽中设有弹性层，所以利用弹性层的延展性将反应釜压紧在卡槽内，以避免在转动过程中反应釜发生晃动现象。反应釜固定完成后，将清洗毛刷插入到反应釜内，启动电机，电机带动转动台上的反应爸旋转，以开始对反应爸进行清洗。本方案中，反应爸的清洗始终处于密封清洗状态，无需人工接触，一方面降低了劳动强度，另一方面避免了安全隐患。
[0006]优选方案一:作为基础方案的改进，所述转动台底部设有滚珠，所述基板上设有供滚珠滚动的轨道，通过上述设置，当电机带动转动台旋转的过程中，将转动台与基板之间的滑动摩擦变为滚动摩擦，以减低两者之间的磨损。
[0007]优选方案二:作为优选方案一的改进，所述闭合门为透明结构，如此便可通过透明的闭合门观察反应釜的清洗情况。
[0008]优选方案三:作为基础方案或优选方案二的改进，所述电机的输出轴与基板之间连接有密封轴承。通过设置密封轴承，以避免在清洗过程中，从反应釜中溅出的水流入到电机内而影响其正常工作。
【附图说明】
[0009]图1为本发明专用于反应釜的清洗装置实施例的结构示意图。
【具体实施方式】
[0010]下面通过【具体实施方式】对本发明作进一步详细的说明:
说明书附图中的附图标记包括:清洗箱体1、清洗毛刷2、闭合门3、基板4、转动台5、电机
6、滚珠7、反应釜8、密封轴承9。
[0011]实施例基本如附图1所示:专用于反应釜的清洗装置，包括清洗箱体1和清洗毛刷2，清洗箱体1侧壁铰接有用于关闭清洗箱体1的闭合门3，该闭合门3为透明结构，如此便可通过透明的闭合门3观察反应釜8的清洗情况。清洗箱体1内部水平安装有基板4，基板4上设有转动台5。转动台5底部安装有滚珠7，且基板4上开设有供滚珠7滚动的轨道，通过上述设置，当电机6带动转动台5旋转的过程中，将转动台5与基板4之间的滑动摩擦变为滚动摩擦，以减低两者之间的磨损。
[0012]转动台5内设有用于放置反应釜8的卡槽，卡槽内设有弹性层，由于弹性层具有较强的延展性，所以当把反应釜8放置在卡槽内时，通过弹性层的延展性将反应釜8压紧在卡槽内。基板4下方设有电机6，该电机6的输出轴与转动台5固定连接。此外电机6的输出轴与基板4之间连接有密封轴承9。通过设置密封轴承9，以避免在清洗过程中，从反应釜8中溅出的水流入到电机6内而影响其正常工作。清洗箱体1的上壁开设有一通孔，该通孔处固定连接有定位销，清洗毛刷2上轴向设有供定位销滑动的行程孔。
[0013]在实际应用中，打开闭合门3，将清洗毛刷2向上拉动，以便于反应釜8的放于。将加入清洗液的反应釜8放入到转动台5中的卡槽中，由于卡槽中设有弹性层，所以利用弹性层的延展性将反应釜8压紧在卡槽内，以避免在转动过程中反应釜8发生晃动现象。反应釜8固定完成后，将清洗毛刷2插入到反应爸8内，启动电机6，电机6带动转动台5上的反应爸8旋转，以开始对反应釜8进行清洗。清洗完毕后，关闭电机6，打开闭合门3，将反应釜8取出并将清洗液倒掉，便完成了反应釜8的清洗工作。
[0014]以上所述的仅是本发明的实施例，方案中公知的具体结构和/或特性等常识在此未作过多描述。应当指出，对于本领域的技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以作出若干变形和改进，这些也应该视为本发明的保护范围，这些都不会影响本发明实施的效果和专利的实用性。本申请要求的保护范围应当以其权利要求的内容为准，说明书中的【具体实施方式】等记载可以用于解释权利要求的内容。
【主权项】
1.专用于反应釜的清洗装置，其特征在于，包括清洗箱体和清洗毛刷，所述清洗箱体侧壁铰接有用于关闭清洗箱体的闭合门，所述清洗箱体内部水平安装有基板，所述基板上设有转动台，所述转动台内设有用于放置反应釜的卡槽，所述卡槽内设有弹性层，所述基板下方设有电机，该电机的输出轴与转动台固定连接，所述清洗箱体的上壁设有通孔，该通孔处固定连接有定位销，所述清洗毛刷上轴向设有供定位销滑动的行程孔。2.根据权利要求1所述的专用于反应釜的清洗装置，其特征在于:所述转动台底部设有滚珠，所述基板上设有供滚珠滚动的轨道。3.根据权利要求2所述的专用于反应釜的清洗装置，其特征在于:所述闭合门为透明结构。4.根据权利要求1或3所述的专用于反应釜的清洗装置，其特征在于:所述电机的输出轴与基板之间连接有密封轴承。
【专利摘要】本发明公开了一种专用于反应釜的清洗装置，包括清洗箱体和清洗毛刷，所述清洗箱体侧壁铰接有用于关闭清洗箱体的闭合门，所述清洗箱体内部水平安装有基板，所述基板上设有转动台，所述转动台内设有用于放置反应釜的卡槽，所述卡槽内设有弹性层，所述基板下方设有电机，该电机的输出轴与转动台固定连接，所述清洗箱体的上壁设有通孔，该通孔处固定连接有定位销，所述清洗毛刷上轴向设有供定位销滑动的行程孔。本方案中，反应釜的清洗始终处于密封清洗状态，无需人工接触，一方面降低了劳动强度，另一方面避免了安全隐患。
【IPC分类】B08B9/36
【公开号】CN105478427
【申请号】CN201510985756
【发明人】李定山
【申请人】重庆长风化学工业有限公司
【公开日】2016年4月13日
【申请日】2015年12月25日