单晶硅的清洗装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及一种单晶硅切割后的清洗技术，尤其是一种单晶硅的清洗装置。
【背景技术】
[0002]单晶硅是一种比较活泼的非金属元素，是晶体材料的重要组成部分，处于新材料发展的前沿。其主要用途是用作半导体材料和利用太阳能光伏发电、供热等。单晶硅可以用于二极管级、整流器件级、电路级以及太阳能电池级单晶产品的生产和深加工制造，其后续产品集成电路和半导体分离器件已广泛应用于各个领域，在军事电子设备中也占有重要地位。
[0003]在光伏技术和微小型半导体逆变器技术飞速发展的今天，利用硅单晶所生产的太阳能电池可以直接把太阳能转化为光能，实现了迈向绿色能源革命的开始。因此单晶硅被广泛的应用，而单晶硅制作成太阳能电池时，必须要经过一系列的加工处理，最主要的就是要将单晶硅棒原料进行切割成单晶硅片，然后再经过对单晶硅片的清洗工序，对于单晶硅片的清洗主要是硅片在切割过程中其表面容易产生颗粒、有机物、金属、吸附分子等会沿着影响太阳能电池组件的性能，因此必须要经过专业的清洗剂进行清洗，而目前的单晶硅片清洗方式操作复杂、清洗效率差导致后期成品率下降，影响成本，同时由于单晶硅比较脆，因此在清洗过程中容易断裂而报废，因此大大降低单晶硅的成品率。
【发明内容】
[0004]本实用新型的目的是为了解决上述技术的不足而设计的一种清洗结构简单、清洗效果更好、硅片成品率更高、在清洗过程中不易断裂而影响硅片成品率的单晶硅的清洗装置。
[0005]本实用新型所设计的单晶硅的清洗装置，所述的单晶硅清洗炉为圆柱型结构，在单晶硅清洗炉内设有清洗剂，在单晶硅清洗炉的底部设有内凹台，在单晶硅清洗炉内设有作为转子的单晶硅搅拌支架，且所述的单晶硅搅拌支架底部设有与内凹台配合的内凹槽，所述的单晶硅搅拌支架以内凹槽的上槽壁为分割点将单晶硅搅拌支架分成上半部和下半部，所述的上半部为筛状结构，下半部内嵌有绕内凹槽环形分布的磁铁，在单晶硅清洗炉的内凹台外设有作为定子的电磁线圈，在电磁线圈上连接有电源，在内凹台上设有限位轴，且上述的单晶硅搅拌支架转动套接在限位轴上。
[0006]通过上述的设计，首先在单晶硅清洗炉内倒入清洗剂，然后将单晶硅棒切割变成单晶硅片后的硅片放入到单晶硅搅拌支架中，由于单晶硅搅拌支架为筛状结构，因此清洗剂会流入到单晶硅搅拌支架内使硅片进入到清洗剂中，此时开启电源，使得电磁线圈得电，从而驱动单晶硅搅拌支架绕限位轴中心旋转，使得清洗剂相对于硅片处于流动状态，更好的清洗娃片，从而提尚娃片清洗效果，提尚广品的成品率。
[0007]为了防止硅片清洗过程中撞击而影响成品率，提高清洗效率，所述的单晶硅搅拌支架内设有一个及以上的筛状隔板，且所述的筛状隔板与单晶硅搅拌支架垂直设置，上述每相邻的四个筛状隔板构成一个能放置一片硅片的隔槽，使用时可在每一个隔槽内放置一片硅片。上述的设计，由几个筛状隔板构成一个槽，将硅片放入各个槽内，使得单晶硅搅拌支架在清洗旋转过程中，硅片之间不会产生撞击，而影响硅片成本率，同时提高清洗效率。
[0008]为了方便操作，在单晶硅搅拌支架上方的两侧设有耳畔，在单晶硅清洗炉上方设有气缸，所述气缸的输出轴通过链条与耳畔配合，清洗完成后，通过气缸将单晶硅搅拌支架提起，以便拿出娃片。
[0009]为了快速的沥干硅片上残留的清洗剂，在单晶硅清洗炉的上方圆周分布有一个及以上的风机，且上述的风机风口均朝下设置，上述设计能够对硅片表面水分进行快速沥干，降低硅片表面污染而影响使用效果。
[0010]为了快速的烘干硅片，提高硅片成品率，在单晶硅清洗炉壁外套有超声波加热器，且所述超声波加热器离单晶硅清洗炉底部的高度hi大于清洗剂液面离单晶硅清洗炉底部的高度h2。上述设计能够对硅片表面进行快速烘干，降低硅片表面污染而影响使用效果。
[0011]本实用新型所设计的单晶硅的清洗装置，首先在单晶硅清洗炉内倒入清洗剂，然后将单晶硅棒切割变成单晶硅片后的硅片放入到单晶硅搅拌支架中，由于单晶硅搅拌支架为筛状结构，因此清洗剂会流入到单晶硅搅拌支架内使硅片进入到清洗剂中，此时开启电源，使得电磁线圈得电，从而驱动单晶硅搅拌支架绕限位轴中心旋转，使得清洗剂相对于硅片处于流动状态，更好的清洗硅片，从而提高硅片清洗效果，提高产品的成品率。
【附图说明】
[0012]图1是实施例1中单晶硅清洗装置的结构示意图；
[0013]图2是实施例1中单晶硅清洗炉炉体的剖视图；
[0014]图3是实施例1中单晶硅搅拌支架的正视图；
[0015]图4是实施例2中单晶硅搅拌支架的俯视图；
[0016]图5是实施例3中单晶硅搅拌支架的正视图；
[0017]图6是实施例3中单晶硅清洗装置的结构示意图；
[0018]图7是实施例4中单晶硅清洗装置的结构示意图；
[0019]图8是实施例5中单晶硅清洗装置的结构示意图。
[0020]图中:单晶硅清洗炉、内凹台2、单晶硅搅拌支架3、内凹槽4、上槽壁4-1、上半部5、下半部6、磁铁7、电磁线圈8、电源9、限位轴10上、筛状隔板11、隔槽12、耳畔13、气缸
14、输出轴14-1、风机15、超声波加热器16、圆柱形槽孔17、链条18。
【具体实施方式】
[0021]下面通过实施例结合附图对本实用新型作进一步的描述。
[0022]实施例1:
[0023]如图1、图2、图3所示，本实施例所描述的单晶硅的清洗装置，所述的单晶硅清洗炉I为圆柱型结构，在单晶硅清洗炉I内设有清洗剂，在单晶硅清洗炉I的底部设有内凹台2，在单晶硅清洗炉I内设有作为转子的单晶硅搅拌支架3，且所述的单晶硅搅拌支架3底部设有与内凹台2配合的内凹槽4，所述的单晶硅搅拌支架3以内凹槽4的上槽壁4-1为分割点将单晶硅搅拌支架3分成上半部5和下半部6，所述的上半部5为筛状结构，下半部6内嵌有绕内凹槽4环形分布的磁铁7，在单晶硅清洗炉I的内凹台2外设有作为定子的电磁线圈8，在电磁线圈8上连接有电源9，在内凹台2上设有限位轴10，且上述的单晶硅搅拌支架3转动套接在限位轴10上，在本实施例中为了将单晶硅搅拌支架3套于限位轴10上，在单晶硅搅拌支架3的