一种单沟式氧化沟污水处理装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本发明属于污水处理装置领域，具体涉及一种单沟式氧化沟污水处理装置。
【背景技术】
[0002]水污染是指排入水体的污染物在数量上超过该物质在水体中的本底含量和水体的环境容量，从而导致水体的物理性质、化学性质和生物学性质发生变化，使水体固有的生态系统和水体功能受到破坏。
[0003]近年来，我国有关部门在水源保护方面作了许多工作，但是，由于各种条件的制约，全国水源污染仍呈发展趋势，有90%以上的城市水域污染严重，近50%的重点城镇水源水质不符合饮用水源的水质标准。由此可见，虽然近年来我国在水污染防治方面做了许多工作，但不少江河湖泊的水质仍在逐渐变差。在这种情况下，在我国淡水资源本来就十分紧缺的前提下，完全不使用受到污染的淡水水源越来越不可能。也就是说，我国自来水厂不得不面临着使用更多的水质不符合要求的受污染原水作为生活饮用水的水源。
[0004]目前，我国污水处理面临三个最突出的问题:1)资金严重不；2)污水处理水平低；3)污水处理的运行机制不合理。
【发明内容】
[0005]为了解决上述技术问题，本发明提供一种单沟式氧化沟污水处理装置，所述一种单沟式氧化沟污水处理装置，包括位于支架8底部的污水池1，位于支架8上方的环形氧化沟3，与污水池1底部和环形氧化沟3左后侧相连的进水装置2，位于环形氧化沟3左后侧的曝气装置4，位于曝气装置4右侧的搅拌装置5，位于环形氧化池3右前方的排水装置6，位于环形氧化池3左前方的稳流排渣装置7，以及系统控制器9。
[0006]进一步地，所述排水装置6包括:排水槽6-1、水位传感器6-2、排水开关6-3和排水管6-4;排水槽6-1位于环形氧化沟3右前部，排水槽6-1为上端水平下端向右上方倾斜，左侧竖直右侧开口的梯形槽结构，排水槽6-1前后壁与环形氧化沟3前后池壁无缝焊接，排水槽
6-1槽体上部至环形氧化沟3上檐口距离为10cm-15cm;水位传感器6-2位于排水槽6-1上方，水位传感器6-2与排水槽6-1槽体上部的距离为5cm，水位传感器6-2与系统控制器9通过导线连接;排水开关6-3位于环形氧化沟3右前方外部，排水开关6-3贯通环形氧化沟3前部池壁与排水槽6-1前方槽壁无缝焊接，排水开关6-3下端与排水管6-4无缝连接;排水管6-4位于排水开关6-3正下方。
[0007]进一步地，所述稳流排渣装置7包括:刮板7-1、集渣槽7-2、稳流板7-3和排渣管7-4;刮板7-1位于环形氧化沟3左前方中部位置，刮板7-1左侧与稳流板7-3连接，刮板7-1板面与环形氧化沟3底面垂直，刮板3上部距环形氧化沟3上檐口的距离为5cm;集渣槽7-2位于环形氧化沟3前后沟壁外侧，集渣槽7-2左侧与稳流板7-3连接，集渣槽7-2为上部和靠近环形氧化沟3内壁部分开口的长方体结构;稳流板7-3位于环形氧化沟3左前方，稳流板7-3上部与环形氧化沟3上檐口齐平，稳流板7-3前后壁与环形氧化沟3前后壁无缝焊接，稳流板7-3下方距环形氧化沟3上檐口的距离为30cm-40cm;排渣管7-4位于集渣槽7-2正下方，排渣管7-4上方与集渣槽7-2下部槽体相贯通且无缝焊接。
[0008]工作本发明专利公开的一种单沟式氧化沟污水处理装置，其优点在于:
[0009](1)该装置采用氧化沟法处理污水，可使处理效果更好。
[0010](2)该装置占用空间少，结构合理，处理效率高。
[0011](3)该装置可以处理间歇式或者连续式排放的污水，适用范围广扩。
[0012]本发明所述的一种单沟式氧化沟污水处理装置结构新颖合理，能耗低，效率高，适用范围广阔。
【附图说明】
[0013]图1为本发明中所述的一种单沟式氧化沟污水处理装置的示意图。
[0014]图2为本发明中所述的排水装置的示意图。
[0015]图3为本发明中所述的稳流排渣装置的示意图。
[0016]以上图1?图3中，1为污水池，2为进水装置，3为环形氧化沟，4为曝气装置，5为搅拌装置，6为排水装置，6-1为排水槽，6-2为水位传感器，6-3为排水开关，6-4为排水管，7为稳流排渣装置，7-1为刮板，7-2为集渣槽，7-3为稳流板，7-4为排渣管，8为支架，9为系统控制器。
【具体实施方式】
[0017]下面结合附图对本发明提供的一种单沟式氧化沟污水处理装置进行进一步说明。
[0018]如图1所示，为本发明提供的一种单沟式氧化沟污水处理装置示意图，包括污水池
1、进水装置2、环形氧化沟3、曝气装置4、搅拌装置5、排水装置6、稳流排渣装置7、支架8和系统控制器;进水装置2将污水从污水池1输送至环形氧化沟3左侧靠后位置，曝气装置4将空气持续输送至环形氧化沟3左后方底部，位于曝气装置4右侧的搅拌装置5将污水和空气进行搅拌混合，水流在环形氧化沟3内按顺时针方向流动，当水流至位于环形氧化池3右前方的排水装置6时，清水从排水装置6排出，剩余的未反应完全水继续沿顺时针方向流动，水流在环形氧化沟3左前方经过稳流排渣装置7后，浮渣沿稳流排渣装置7排出，未反应完全水从稳流排渣装置7底部流过，在环形氧化沟3内循环流动直至反应完全。
[0019]如图1?图2所示，所述排水装置6由排水槽6-1、水位传感器6-2、排水开关6_3和排水管6-4组成；当环形氧化沟3水位上升至水位传感器6-2所在位置时，水位传感器6-2发送信号至系统控制器9，系统控制器9控制排水开关6-3开启，清水从排水槽6-1经过排水开关
6-3最终从排水管6-4排出，当水位下降至水位传感器6-2下部后，水位传感器6-2发送信号至系统控制器9，系统控制器9则控制排水开关6-3关闭，停止排水。
[0020]如图1和图3所示，所述稳流排渣装置7由刮板7-1、集渣槽7-2、稳流板7-3和排渣管
7-4组成;刮板7-1以与稳流板7-3相连接部位为中心，在水平面上做180°往复转动，浮渣被刮板7-1刮送至集渣槽7-2后经排渣管7-4排出，未反应完全水经稳流板7-3稳流后从稳流板
7-3底部流过。
[0021]本发明所述的一种单沟式氧化沟污水处理装置的工作过程是:
[0022]进水装置2将污水从污水池1输送至环形氧化沟3左侧靠后位置，曝气装置4将空气持续输送至环形氧化沟3左后方底部，位于曝气装置4右侧的搅拌装置5将污水和空气进行搅拌混合，水流在环形氧化沟3内按顺时针方向流动，当水流至位于环形氧化池3右前方的排水装置6且环形氧化沟3水位上升至水位传感器6-2所在位置时，水位传感器6-2发送信号至系统控制器9，系统控制器9控制排水开关6-3开启，清水从排水槽6-1经过排水开关6-3最终从排水管6-4排出，当水位下降至水位传感器6-2下部后，水位传感器6-2发送信号至系统控制器9，系统控制器9则控制排水开关6-3关闭，停止排水，剩余的未反应完全水继续沿顺时针方向流动，水流在环形氧化沟3左前方经过稳流排渣装置7后，浮渣被刮板7-1刮送至集渣槽7-2后经排渣管7-4排出，未反应完全水经稳流板7-3稳流后从稳流板7-3底部流过，未反应完全水在环形氧化沟3内循环流动直至反应完全为止。
[0023]本发明所述的一种单沟式氧化沟污水处理装置结构新颖合理，能耗低，效率高，适用范围广阔。
【主权项】
1.一种单沟式氧化沟污水处理装置，其特征在于，包括位于支架(8)底部的污水池(1)，位于支架(8)上方的环形氧化沟(3)，与污水池(1)底部和环形氧化沟(3)左后侧相连的进水装置(2)，位于环形氧化沟(3)左后侧的曝气装置(4)，位于曝气装置(4)右侧的搅拌装置(5)，位于环形氧化池(3)右前方的排水装置(6)，位于环形氧化池(3)左前方的稳流排渣装置(7)，以及系统控制器(9)。2.根据权利要求1所述的一种单沟式氧化沟污水处理装置，其特征在于，所述排水装置(6)包括:排水槽(6-1)、水位传感器(6-2)、排水开关(6-3)和排水管(6-4);排水槽(6_1)位于环形氧化沟(3)右前部，排水槽(6-1)为上端水平下端向右上方倾斜，左侧竖直右侧开口的梯形槽结构，排水槽(6-1)前后壁与环形氧化沟(3)前后池壁无缝焊接，排水槽(6-1)槽体上部至环形氧化沟(3)上檐口距离为10cm-15cm;水位传感器(6-2)位于排水槽(6-1)上方，水位传感器(6-2)与排水槽(6-1)槽体上部的距离为5cm，水位传感器(6-2)与系统控制器(9)通过导线连接;排水开关(6-3)位于环形氧化沟(3)右前方外部，排水开关(6-3)贯通环形氧化沟(3)前部池壁与排水槽(6-1)前方槽壁无缝焊接，排水开关(6-3)下端与排水管(6-4)无缝连接;排水管(6-4)位于排水开关(6-3)正下方。3.根据权利要求1所述的一种单沟式氧化沟污水处理装置，其特征在于，所述稳流排渣装置(7)包括:刮板(7-1)、集渣槽(7-2)、稳流板(7-3)和排渣管(7-4);刮板(7-1)位于环形氧化沟(3)左前方中部位置，刮板(7-1)左侧与稳流板(7-3)连接，刮板(7-1)板面与环形氧化沟(3)底面垂直，刮板(7-1)上部距环形氧化沟(3)上檐口的距离为5cm;集渣槽(7-2)位于环形氧化沟(3)前后沟壁外侧，集渣槽(7-2)左侧与稳流板(7-3)连接，集渣槽(7-2)为上部和靠近环形氧化沟(3)内壁部分开口的长方体结构;稳流板(7-3)位于环形氧化沟(3)左前方，稳流板(7-3)上部与环形氧化沟(3)上檐口齐平，稳流板(7-3)前后壁与环形氧化沟(3)前后壁无缝焊接，稳流板(7-3)下方距环形氧化沟(3)上檐口的距离为30cm-40cm;排渣管(7-4)位于集渣槽(7-2)正下方，排渣管(7-4)上方与集渣槽(7-2)下部槽体相贯通且无缝焊接。
【专利摘要】本实用新型公开了一种单沟式氧化沟污水处理装置，由污水池、进水装置、环形氧化沟、曝气装置、搅拌装置、排水装置、稳流排渣装置、支架和系统控制器组成；进水装置将污水从污水池输送至环形氧化沟左侧靠后位置，曝气装置将空气持续输送至环形氧化沟左后方底部，位于曝气装置右侧的搅拌装置将污水和空气进行搅拌混合，水流在环形氧化沟内按顺时针方向流动，当水流至排水装置时，清水从排水装置排出，剩余的未反应完全水继续沿顺时针方向流动，水流在环形氧化沟左前方经过稳流排渣装置后，浮渣沿稳流排渣装置排出，未反应完全水从稳流排渣装置底部流过，在环形氧化沟内循环流动直至反应完全。本实用新型所述的一种单沟式氧化沟污水处理装置结构新颖合理，能耗低，效率高，适用范围广阔。
【IPC分类】C02F3/02
【公开号】CN205087989
【申请号】CN201520880489
【发明人】梁峙, 梁骁
【申请人】徐州工程学院
【公开日】2016年3月16日
【申请日】2015年11月7日