专利名称：一种洁净微环境的制作方法
技术领域：
一种洁净微环境技术领域[0001]本实用新型涉及一种洁净微环境，可用于半导体晶圆制造领域中。
背景技术：
[0002]目前，由于集成电路的集成度越来越高，而且环境的要求越来越严，费用越来越大，且由于没有能最大限度地消除人在芯片的加工和清洗过程中的污染，因此即使生产环境很好，也不一定能生产出合格产品。在生产工艺中，最终需要有单个硅晶片的装卸操作， 通常是操作人员用特殊设训的镊子夹住品片的边缘，或者借助真宅棒产生的吸力从硅晶片的背面拿起或吸起来。然而，在这过程中来自人、镊子或真空棒的直接粒子污染或非粒子污染仍无法完全避免。针对上述问题，人们发明了洁净微环境，其可以把生产、加工芯片的部位用高洁净的微环境封闭起来，使操作人员与硅晶片彻底隔开。[0003]在洁净微环境中，洁净气流以均匀的断面风速流经工作区，从而形成高洁净的工作环境。洁净微环境的风量可调，并可根据客户的需要配备日光灯及紫外灯。此外，微环境可以进行拆装，安装在客户指定的任何位置。因此，洁净微环境在生物、制药、航天、航空、半导体、制造等行业取得了较好的应用，是一种理想的辅助设备。[0004]现有的洁净微环境参见附图f 2所示，包括一洁净空间I，洁净空间的顶部设有气相过滤器2和风机3，洁净空间的底部设有通气孔，使洁净空间与整个洁净室底部的出气空间相连通；此外，洁净空间的侧面还设有工作台4，工作台和洁净空间之间设有工作台出气口。工作时，待过滤气体由风机吸入，并经过气相过滤器过滤之后进入洁净微环境的洁净空间内，这些过滤后的洁净气体中，一部分经过洁净空间底部的通气孔流出，另一部分通过洁净空间的工作台出气口流出，从而形成一空气循环系统，如图2所示。 然而，对于一些需要深度过滤的场合，例如待过滤气体中的杂质含量为lOppb， 而洁净微环境的洁净空间内需要达到的杂质含量为lppb，这就需要其气相过滤器一直处于高负荷的工作状态，这不仅加重了气相过滤器的工作负担，而且也很容易导致气相过滤器发生吸附饱和，降低了气相过滤器的使用寿命。发明内容[0006]本实用新型的发明目的是提供一种洁净微环境。[0007]为达到上述发明目的，本实用新型采用的技术方案是一种洁净微环境，包括一洁净空间，洁净空间的顶部设有气相过滤器和风机；洁净空间的侧面设有工作台，工作台和洁净空间之间设有工作台出气口 ；所述洁净空间的一侧设有一循环空间，循环空间和洁净空间之间设有气体通道，循环空间的出气口与所述气相过滤器连通，使洁净空间、循环空间和气相过滤器构成一空气循环系统；[0008]所述洁净空间的底部为封闭系统。[0009]上文中，所述洁净空间的底部为封闭系统，即洁净空间的底部是封闭的，不设有通气孔；因而该洁净空间与整个洁净室底部的出气空间是不连通的。[0010]所述气相过滤器和风机，以及工作台、工作台出气口均为现有技术。[0011]上述技术方案中，所述气体通道内设有气体调节阀。[0012]由于上述技术方案运用，本实用新型与现有技术相比具有下列优点[0013]1、本实用新型设计得到了一种新的洁净微环境，在洁净空间的一侧设置循环空间，并使洁净空间、循环空间和气相过滤器构成一空气循环系统，因而可以利用一部分从洁净空间里出来的过滤后气体作为气源，而这部分过滤后气体由于具有较低的杂质含量，从而降低了气相过滤器的工作负荷，有利于气相过滤器的长期使用。[0014]2、本发明的装置结构简单，易于制备，适于推广应用。
[0015]图1是背景技术中洁净微环境的结构示意图；[0016]图2是图1的气流不意图；[0017]图3是本实用新型实施例一的结构示意图；[0018]图4是图3的气流示意图。其中1、洁净空间；2、气相过滤器；3、风机；4、工作台；5、循环空间；6、气体通道。
具体实施方式
[0020]
以下结合附图及实施例对本实用新型作进一步描述[0021]实施例一[0022]参见图3 4所示，一种洁净微环境，包括一洁净空间1，洁净空间的顶部设有气相过滤器2和风机3 ;洁净空间的侧面设有工作台4，工作台和洁净空间之间设有工作台出气口 ；所述洁净空间的一侧设有一循环空间5，循环空间和洁净空间之间设有气体通道6，循环空间的出气口与所述气相过滤器连通，使洁净空间、循环空间和气相过滤器构成一空气循环系统；[0023]所述洁净空间的底部为封闭系统，可以采用盲板结构。[0024]所述气体通道内设有气体调节阀。采用该气体调节阀可以调节从洁净空间出去的过滤后气体的气体量。[0025]例如，假设从整个洁净室内的某一杂质含量(如氯气含量)为10 ppb，对于洁净微环境而言，待过滤气体中的杂质含量为10 ppb，而假设洁净微环境内要求改杂质含量为I ppb，在进气流量相同的条件下，则现有的气相过滤器的工作负荷为从10 ppb处理到I ppb; 而采用本实施例的洁净微环境，假设所述循环空间和洁净空间之间设有气体通道6的气流量为进气量的一般，则此时的进气口出的杂质含量为10*0. 5+1*0. 5=5. 5 ppb，即本实施例中的气相过滤器的工作负荷为从5. 5 ppb处理到I ppb。由此可见，本实用新型的洁净微环境可以有效降低气相过滤器的工作负荷，有利于气相过滤器的长期使用。
权利要求1.一种洁净微环境，包括一洁净空间(I)，洁净空间的顶部设有气相过滤器(2)和风机(3);洁净空间的侧面设有工作台(4)，工作台和洁净空间之间设有工作台出气口 ；其特征在于所述洁净空间的一侧设有一循环空间(5)，循环空间和洁净空间之间设有气体通道(6)，循环空间的出气口与所述气相过滤器连通，使洁净空间、循环空间和气相过滤器构成一空气循环系统；所述洁净空间的底部为封闭系统。
2.根据权利要求1所述的洁净微环境，其特征在于所述气体通道内设有气体调节阀。
专利摘要本实用新型公开了一种洁净微环境，包括一洁净空间，洁净空间的顶部设有气相过滤器和风机；洁净空间的侧面设有工作台，工作台和洁净空间之间设有工作台出气口；所述洁净空间的一侧设有一循环空间，循环空间和洁净空间之间设有气体通道，循环空间的出气口与所述气相过滤器连通，使洁净空间、循环空间和气相过滤器构成一空气循环系统；所述洁净空间的底部为封闭系统。本实用新型利用了一部分从洁净空间里出来的过滤后气体作为气源，而这部分过滤后气体由于具有较低的杂质含量，从而降低了气相过滤器的工作负荷，有利于气相过滤器的长期使用。
文档编号B01D46/00GK202839558SQ201220483579
公开日2013年3月27日 申请日期2012年9月20日 优先权日2012年9月20日
发明者杨政谕, 周步东 申请人:亚翔系统集成科技(苏州)股份有限公司