一种塔式气液接触设备均匀布气装置及其用途的制作方法

技术特征：
1.一种塔式气液接触设备均匀布气装置，其特征在于，所述装置从上到下依次包括塔体(1)、气体分布盘(2)、阻力层(7)和气室(3)；塔体(1)下部水平设置有气体分布盘(2)，所述气体分布盘(2)的直径与塔体(1)的内径相等；所述气体分布盘(2)的基体上开设有贯穿基体的竖直孔道；所述气体分布盘(2)的基体上开设的竖直孔道中插有圆直管，圆直管的外壁与孔道内壁之间密封；所述圆直管贯穿气体分布盘(2)的基体；所述阻力层(7)由2个以上空心圆筒(8)和固体颗粒填充物(9)组成；所述阻力层(7)厚度为2～100mm，且阻力层(7)的厚度沿塔体横截面的径向由内向外逐渐增大；所述空心圆筒(8)的内径沿塔体(1)横截面的径向由内向外逐渐增大，且相邻两个空心圆筒(8)间留有空隙形成圆环空腔(12)；所述直径最小的空心圆筒(8)内形成中心圆筒空腔(11)；所述固体颗粒填充物(9)由织物包裹后填充于中心圆筒空腔(11)和圆环空腔(12)中；所述中心圆筒空腔(11)和圆环空腔(12)之间的气体不串通；所述圆环空腔(12)之间的气体不串通。2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述塔体(1)为顶端开放的空心圆筒，塔体(1)下部设置有气体分布盘(2)。3.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述气体分布盘(2)的基体为具有耐腐蚀性能的平板。4.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述气体分布盘(2)基体的厚度为2～20mm。5.根据权利要求4所述的装置，其特征在于，所述气体分布盘(2)基体的厚度为10mm。6.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述气体分布盘(2)的基体上开设的竖直孔道的内径为0.1～5mm。7.根据权利要求6所述的装置，其特征在于，所述气体分布盘(2)的基体上开设的竖直孔道的内径为1～4mm。8.根据权利要求7所述的装置，其特征在于，所述气体分布盘(2)的基体上开设的竖直孔道的内径为2mm。9.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述气体分布盘(2)的基体上开设的竖直孔道的孔眼总面积占气体分布盘(2)基体总面积的5～80％。10.根据权利要求9所述的装置，其特征在于，所述气体分布盘(2)的基体上开设的竖直孔道的孔眼总面积占气体分布盘(2)基体总面积的10～30％。11.根据权利要求10所述的装置，其特征在于，所述气体分布盘(2)的基体上开设的竖直孔道的孔眼总面积占气体分布盘(2)基体总面积的20％。12.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述圆直管的顶部平面高出气体分布盘(2)的基体上端面0.1～20mm。13.据权利要求12所述的装置，其特征在于，所述圆直管的顶部平面高出气体分布盘(2)的基体上端面0.1～10mm。14.据权利要求13所述的装置，其特征在于，所述圆直管的顶部平面高出气体分布盘(2)的基体上端面5mm。15.据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述圆直管的底部平面与气体分布盘(2)的基体下端面保持水平。16.据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述固体颗粒填充物(9)为不溶于水的固体颗粒。17.据权利要求16所述的装置，其特征在于，所述固体颗粒填充物(9)为玻璃球和/或聚苯乙烯球。18.据权利要求17所述的装置，其特征在于，所述固体颗粒填充物(9)为聚苯乙烯球。19.据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述空心圆筒(8)以塔体(1)的中心轴线为轴，空心圆筒(8)上端与气体分布盘(2)基体的下端面密封连接。20.据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述空心圆筒(8)的个数为2～100。21.据权利要求20所述的装置，其特征在于，所述空心圆筒(8)的个数为3～30。22.据权利要求1所述的装置，其特征在于，贯穿气体分布盘(2)的基体上圆直管与中心圆筒空腔(11)和圆环空腔(12)连通。23.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，填充于中心圆筒空腔(11)和圆环空腔(12)中的固体颗粒填充物(9)允许气体通过的阻力沿塔体(1)横截面的径向由内向外逐渐增大。24.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，填充于中心圆筒空腔(11)和圆环空腔(12)中的固体颗粒填充物(9)的填充密度沿塔体(1)横截面的径向由内向外逐渐增大。25.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述中心圆筒空腔(11)和圆环空腔(12)内填充的固体颗粒物(9)的粒径沿塔体(1)的横截面的径向由内向外逐渐减小。26.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述圆环空腔(12)的环带宽度与塔体(1)内径的比为1:(3～1000)。27.根据权利要求26所述的装置，其特征在于，所述圆环空腔(12)的环带宽度与塔体(1)内径的比为1:(10～100)。28.根据权利要求27所述的装置，其特征在于，所述圆环空腔(12)的环带宽度与塔体(1)内径的比为1:10。29.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述中心圆筒空腔(11)内径与塔体(1)内径的比为1:(3～1000)。30.权利要求29所述的装置，其特征在于，所述中心圆筒空腔(11)内径与塔体(1)内径的比为1:(10～100)。31.权利要求30所述的装置，其特征在于，所述中心圆筒空腔(11)内径与塔体(1)内径的比为1:10。32.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述气室(3)为位于阻力层(7)下方的与塔体(1)相连的圆锥形空腔。33.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述气室(3)底部设置有排液阀(10)。34.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述气室(3)的侧壁开有进气口。35.根据权利要求34所述的装置，其特征在于，所述进气口的方向与塔体(1)的水平横截面相切。36.根据权利要求34所述的装置，其特征在于，所述气室(3)的进气口与进气管(13)连通。37.根据权利要求36所述的装置，其特征在于，所述进气管(13)从进气口一端依次设置有气体调节阀(4)、气体稳压罐(5)和空气压缩机(6)。38.根据权利要求1-37任一项所述的装置的用途，其应用于塔式气液接触设备中。39.根据权利要求1-37任一项所述的装置的用途，其应用于溶剂萃取、溶剂气浮或溶剂浮选领域。