技术总结
本发明提供了一种塔式气液接触设备均匀布气装置及其用途，所述装置从上到下依次包括塔体、气体分布盘、阻力层和气室；塔体下部水平设置有气体分布盘，气体分布盘的基体上开设有贯穿基体的竖直孔道，开设的竖直孔道中插有圆直管，圆直管的外壁与孔道内壁之间密封；阻力层由2个以上空心圆筒和固体颗粒填充物组成；固体颗粒填充物由织物包裹后填充于由空心圆筒形成的中心圆筒空腔和圆环空腔中；气室为位于阻力层下方的与塔体相连的圆锥形空腔。该装置通过增加气室阻力实现塔体横截面内气泡的均匀分布，并且气泡的直径均一。
技术研发人员：黄焜;肖传绪;隋娜;郑翰;刘会洲
受保护的技术使用者：中国科学院过程工程研究所
文档号码：201510649720
技术研发日：2015.10.09
技术公布日：2017.07.04