附有阻气层的成型物的制造装置的制作方法

本发明涉及附有阻气层的成型物的制造装置。

背景技术：

以往，已经提出过一种阻气膜的制造方法等(例如，参照专利文献1)，其特征在于，用于el元件用玻璃所使用的基板的替代品，具有良好的阻气性，并且制造时间短。

更具体而言，是在基材上的至少一表面上涂布聚硅氮烷含有液、并且对完成了加热干燥的聚硅氮烷膜施加常压等离子体处理或真空等离子体处理的阻气膜的制造方法。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：(日本)特开2007-237588号公报

技术实现要素：

发明所要解决的技术问题

然而，在所述专利文献1公开的技术中，因为涂布工序、加热干燥工序、真空等离子体处理工序分别在不同的工序中进行，所以，除了生产性能差以外，还存在涂布液中的聚硅氮烷与空气中的水分发生反应、容易在阻气膜上产生瑕疵这样的问题。

本发明的目的在于，提供一种附有阻气层的成型物的制造装置，能够有效制造阻气特性良好的附有阻气层的成型物。

用于解决技术问题的技术方案

本发明的一个方式的附有阻气层的成型物的制造装置是一种制造在成型物的表面形成有阻气层的附有阻气层的成型物的附有阻气层的成型物的制造装置，其特征在于，连续配置有在所述成型物上涂布阻气材料的涂布加工部、对在所述涂布加工部涂布的阻气材料进行干燥的干燥部、以及对在所述干燥部干燥的阻气材料的表面进行改性的表面改性部，所述涂布加工部、所述干燥部、以及所述表面改性部通过分隔部件相互区隔，在所述涂布加工部、所述干燥部、以及所述表面改性部之间设有输送所述成型物的输送部。

根据该方式的附有阻气层的成型物的制造装置，通过将涂布加工部、干燥部、以及表面改性部连续设置，能够在短时间内通过输送部输送成型物，所以，能够有效率地制造附有阻气层的成型物。

另外，根据该方式的附有阻气层的成型物的制造装置，因为能够缩短输送时间，减少输送过程中阻气层与空气中的水分发生反应，所以，能够防止在阻气层上产生瑕疵等。

即，根据本发明的一个方式，能够提供一种能够有效率地制造阻气特性良好的附有阻气层的成型物的附有阻气层的成型物的制造装置。

在本发明一个方式的附有阻气层的成型物的制造装置中，优选在装置中央配置有所述干燥部，将所述涂布加工部的输入输出开口、以及所述表面改性部的输入输出开口配置在与所述干燥部相对的位置，所述输送部配置在所述干燥部内。

根据该方式，在涂布加工部于成型物表面形成了阻气层后，仅通过由输送部从涂布加工部取出成型物就能够开始在干燥部的干燥。因此，能够在从涂布加工部向表面改性部的输送过程中在干燥部内对阻气层进行干燥，进一步有效率地制造附有阻气层的成型物。

在本发明一个方式的附有阻气层的成型物的制造装置中，优选所述涂布加工部的输入输出开口、所述干燥部的输入输出开口、以及所述表面改性部的输入输出开口与配置有所述输送部的空间相对。

根据该方式，能够享有与上述相同的作用及效果。

在本发明一个方式的附有阻气层的成型物的制造装置中，优选所述成型物是卷绕成卷轴状的长条基材，所述输送部具有：送出所述长条基材的送出辊、以及卷绕所述长条基材的卷绕辊，所述涂布加工部具有：支承所述长条基材的支承辊、以及隔着所述长条基材与所述支承辊对置且在所述长条基材上涂布所述阻气材料的涂布机，所述干燥部具有输送所述长条基材的多个输送辊、以及隔着所述长条基材与所述多个输送辊对置的加热器。

根据该方式，能够在由送出辊送出的长条基材上连续地通过涂布机涂布阻气材料，并且在输送辊上通过加热器使阻气材料干燥，能够迅速地制造附有阻气层的成型物。

在本发明一个方式的附有阻气层的成型物的制造装置中，优选所述表面改性部具有：卷绕所述长条基材的电极辊、向所述电极辊施加电压的电压施加装置、以及隔着所述长条基材与所述电极辊对置的电极。

根据该方式，因为能够在长条基材的输送过程中、对形成于长条基材的阻气层的表面进行改性，所以能够在长条基材的输送过程中进行涂布、干燥、以及表面改性的各工序的全部连续加工，能够更迅速地制造附有阻气层的长条基材。

在本发明一个方式的附有阻气层的成型物的制造装置中，优选还具有测量部，其对在所述涂布加工部涂布的阻气材料、在所述干燥部干燥的阻气材料、以及在所述表面改性部改性的阻气材料的至少任一种进行测量。

根据该方式，针对阻气层的状态，能够在涂布工序后、干燥工序后、以及改性工序后的流水线上进行测量(在线测量)，在附有阻气层的成型物的生产线内，能够随时通过对膜状态进行管理来实施连续性的膜评估、以及管理，能够进行从阻气材料的涂布加工到离子注入处理的一系列连续制造。

在本发明一个方式的附有阻气层的成型物的制造装置中，还优选将所述测量部与所述涂布加工部、所述干燥部、以及所述表面改性部连续设置，所述涂布加工部、所述干燥部、所述表面改性部、以及所述测量部通过分隔部件相互区隔。

另外，在本发明一个方式的附有阻气层的成型物的制造装置中，还优选所述测量部配置在所述涂布加工部、所述干燥部、以及所述表面改性部的至少一个的内部。

根据上述方式，通过将涂布加工部、干燥部、表面改性部、以及测量部连续设置，即使是导入了在线测量的制造装置，也能够与上述同样地，有效率地制造附有阻气层的成型物。此外，根据上述方式，能够与上述同样地，防止在阻气层产生瑕疵等。

在本发明一个方式的附有阻气层的成型物的制造装置中，优选所述成型物按照所述涂布加工部、所述干燥部、以及所述测量部的顺序进行输送。

根据该方式，因为成型物按照涂布加工部、干燥部、以及测量部的顺序进行输送，所以，能够对表面改性前的阻气层的状态进行测量。因此，能够在表面改性前确认阻气层是否处于适用于表面改性的状态。

在本发明一个方式的附有阻气层的成型物的制造装置中，且在成型物是卷绕成卷轴状的长条基材的情况下的方式中，还优选在所述干燥部与所述表面改性部之间配置有所述测量部。

根据该方式，因为测量部配置在所述干燥部与所述表面改性部之间，所以，能够对表面改性前的阻气层的状态进行测量。因此，能够在表面改性前确认形成于长条基材的阻气层是否处于适用于表面改性的状态。

在本发明一个方式的附有阻气层的成型物的制造装置中，优选所述测量部测量从所述阻气层的折射率、透光率、光反射率、色度、膜组成、膜密度、膜瑕疵以及膜厚形成的群中选择的至少任一项。

根据该方式，能够实施更适当的膜评估、以及管理。

附图说明

图1是表示以本发明实施方式制造的附有阻气层的成型物结构的剖视示意图。

图2是表示本发明第一实施方式的附有阻气层的成型物的制造装置结构的俯视示意图。

图3是表示所述实施方式的涂布加工部结构的侧视示意图。

图4是表示所述实施方式的表面改性部结构的侧视示意图。

图5是表示本发明第二实施方式的附有阻气层的成型物的制造装置结构的示意图。

图6是表示所述实施方式的表面改性部结构的示意图。

图7是表示本发明第三实施方式的附有阻气层的成型物的制造装置结构的俯视示意图。

图8是表示本发明第四实施方式的附有阻气层的成型物的制造装置结构的俯视示意图。

图9是表示本发明第五实施方式的附有阻气层的成型物的制造装置结构的俯视示意图。

图10是表示本发明第六实施方式的附有阻气层的成型物的制造装置结构的俯视示意图。

图11是表示所述第六实施方式的涂布加工部结构的侧视示意图。

图12是表示所述第六实施方式的表面改性部结构的侧视示意图。

图13是表示本发明第七实施方式的附有阻气层的成型物的制造装置结构的示意图。

具体实施方式

下面，基于附图，说明本发明的实施方式。

[1]附有阻气层的成型物的结构

附有阻气层的成型物是具有阻气层的成型物。阻气层优选形成于成型物的任一部位，可以根据附有阻气层的成型物的用途，适当选择阻气层的形成部位。例如，阻气层优选形成于成型物的表面。

作为成型物，未特别限定。作为成型物的例子，可以举例出板状体、各种容器、以及各种电子器件用部件。作为板状体，例如可以举例出膜、片、以及板。作为各种容器，可以举例出食品用容器、饮料用容器、化妆品用容器、衣料用容器、医药品容器、食品用瓶、饮料用瓶、食用油瓶、以及调味料瓶等瓶等。作为各种电子器件用部件，可以举例出有机el元件、液晶元件、量子点元件、电子纸元件、有机太阳能电池元件、薄膜电池、有机薄膜晶体管元件、有机传感器元件、以及微机电传感器(mems)用元件等。在本实施方式中，作为成型物，可以使用单枚的板状体，也可以使用长条状的板状体。

下面，作为附有阻气层的成型物的一个例子，以阻气膜为例进行说明。

图1表示本发明的一个实施方式的阻气膜1。该阻气膜1通过在成型物3上形成阻气层2而制造。

阻气层2由聚硅氮烷形成，以10nm～500nm左右的厚度形成。

当聚硅氮烷层的厚度为10nm～500nm左右时，能够容易地控制阻气层2的折射率，能够稳定地形成阻气层2，并且能够得到具有良好阻气性及透光性(总透光率)的阻气膜1。

当聚硅氮烷层的厚度为10nm～500nm左右时，阻气层2的柔韧性良好，并且相对于成型物的紧贴性良好。

当聚硅氮烷层的厚度不足10nm时，可能会难以控制为均匀的厚度，或者难以控制折射率。

另外，当聚硅氮烷层的厚度不足10nm时，阻气膜1的机械强度可能降低，或者水蒸气透过率可能增加，使阻气特性不充分。

另一方面，当聚硅氮烷层的厚度为超过500nm的值时，可能难以控制折射率。此外，在得到具有超过500nm厚度的聚硅氮烷层作为阻气层的阻气膜1的情况下，阻气膜1的柔韧性可能过低，或者阻气层2与成型物3等之间的紧贴性可能过低，或者阻气层2的透光性可能过低。

用于形成聚硅氮烷层的聚硅氮烷材料是在分子内具有含有-si-n-键(硅氮烷键)的重复单元的高分子化合物。

聚硅氮烷化合物具体而言，优选为由下面通式(1)表示的、具有重复单元的化合物。

另外，所使用的聚硅氮烷化合物的数量平均分子量未特别限定。聚硅氮烷化合物的数量平均分子量优先为100～50000范围内的值。

[化1]

(通式(1)中，rx、ry、以及rz分别独立，是氢原子、无取代或具有取代基的烷基、无取代或具有取代基的环烷基、无取代或具有取代基的烯基、无取代或具有取代基的芳基或烷基甲硅烷基等非水解性基团，下标n表示任意自然数。)

另外，作为上述“无取代或具有取代基的烷基”中的烷基，例如可以举例出丁基、异丁基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基、仲丁基、叔丁基、正戊基、异戊基、新戊基、正己基、正庚基、正辛基等碳原子数为1～10的烷基。

另外，作为上述“无取代或具有取代基的环烷基”的环烷基，可以举例出环丁基、环戊基、环己基、环庚基等碳原子数为3～10的环烷基。

另外，作为上述“无取代或具有取代基的烯基”的烯基，例如可以举例出乙烯基、1-丙烯基、2-丙烯基、1-丁烯基、2-丁烯基、3-丁烯基等碳原子数为2～10的烯基。

另外，作为上述烷基、环烷基、以及烯基的取代基，可以举例出氟原子、氯原子、溴原子、碘原子等卤原子；羟基；硫醇基；环氧基；环氧丙氧基；(甲基)丙烯酰氧基；苯基、4-甲基苯基、4-氯苯基等无取代或具有取代基的芳基等。

另外，作为上述无取代或具有取代基的芳基，例如可以举例出苯基、1-萘基、2-萘基等碳原子数为6～10的芳基。

另外，作为上述芳基的取代基，可以举例出氟原子、氯原子、溴原子、碘原子等卤原子；甲基、乙基等碳原子数为1～6的烷基；甲氧基、乙氧基等碳原子数为1～6的烷氧基；硝基；氰基；羟基；硫醇基；环氧基；环氧丙氧基；(甲基)丙烯酰氧基；苯基、4-甲基苯基、4-氯苯基等无取代或具有取代基的芳基等。

另外，作为上述烷基甲硅烷基，可以举例出三甲基甲硅烷基、三乙基甲硅烷基、三异丙基甲硅烷基、三叔丁基甲硅烷基、甲基二乙基甲硅烷基、二甲基甲硅烷基、二乙基甲硅烷基、甲基甲硅烷基、以及乙基甲硅烷基等。

另外，在上述中，rx、ry、以及rz也都各自独立，优选氢原子、碳原子数为1～6的烷基、或苯基，特别优选氢原子。

另外，作为具有上述通式(1)所示的重复单元的聚硅氮烷化合物，优选rx、ry、以及rz全部为氢原子的无机聚硅氮烷化合物。

成型物3未特别限制。在成型物3是板状体的情况下，作为板状体，例如可以举例出从由玻璃板、陶瓷板、热塑性树脂膜、热固化性树脂膜以及光固化性树脂膜形成的群中选择的任意一种板状体的一种单独、或二种以上的板状体的组合。作为热塑性树脂膜，可以举例出聚酯膜、聚烯烃膜、聚碳酸酯膜、聚酰亚胺膜、聚酰胺膜、聚酰胺酰亚胺膜、聚苯醚膜、聚醚酮膜、聚醚醚酮膜、聚砜膜、聚醚砜膜、聚苯硫醚膜、聚芳酯膜、丙烯酸类树脂膜、环烯烃类聚合物膜、以及芳香族类聚合物膜等。作为热固化性树脂膜，例如可以举例出环氧树脂膜、有机硅树脂膜、以及酚醛树脂膜等。作为光固化性树脂膜，例如可以举例出光固化性丙烯酸树脂膜、光固化性氨基甲酸酯树脂膜、以及光固化性环氧树脂膜等。

成型物3为板或膜的情况下的厚度未特别限制。成型物3的厚度通常优先为0.5μm～1000μm范围内的值，更优选为1μm～300μm范围内的值，进一步优选为5μm～200μm范围内的值。

即使在上述中，也因为透光性良好，具有广泛的应用性，所以，作为成型物3，优选聚酯膜、聚酰胺膜、聚酰亚胺膜、聚酰胺酰亚胺膜、聚砜膜、聚醚砜膜、聚苯硫醚膜、聚芳酯膜或环烯烃类聚合物膜，更优选聚酯膜、聚酰胺膜或环烯烃类聚合物膜。

作为聚酯膜的具体例子，可以举例出由聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、或聚芳酯等形成的膜。

另外，作为聚酰胺膜的具体例子，可以举例出由全芳香族聚酰胺、尼龙6、尼龙66、或尼龙共聚合物等形成的膜。

[2]第一实施方式

在第一实施方式中，以用来制造作为附有阻气层的成型物的阻气膜1的制造装置及制造方法的实施方式为例进行说明。阻气膜的制造装置也可以作为阻气层制造装置来使用。

·阻气膜的制造装置

图2表示第一实施方式的阻气膜的制造装置4的俯视示意图。阻气膜的制造装置4具有配置在制造装置中央的干燥部5、涂布加工部6、表面改性部7、以及加载互锁室(ロードロック室)8。

在阻气膜的制造装置4中，将涂布加工部6、干燥部5、表面改性部7、以及加载互锁室8连续设置。

涂布加工部6、表面改性部7、以及加载互锁室8分别具有成型物3的输入及输出用的开口部(输入输出开口)。涂布加工部6、表面改性部7、以及加载互锁室8的各开口部与干燥部5相对而配置。涂布加工部6、表面改性部7、以及加载互锁室8的各开口部由相对于干燥部5可开闭的、作为分隔部件的门挡板6a、门挡板7a、以及门挡板8a封闭。

干燥部5是对在涂布加工部6中涂布了阻气材料而形成的阻气层2进行干燥的部分。

在干燥部5的中央配置有作为输送部的自动输送装置9。自动输送装置9具有：利用未图示的马达而能够转动的支柱10、从支柱10向水平方向突出的一对臂部11、以及安装于臂部11前端的基座12。

一对臂部11能够在远离支柱10的方向上伸展。通过使臂部11伸展，能够将载置于基座12上的阻气膜1的成型物3输入涂布加工部6、表面改性部7、以及加载互锁室8。

加载互锁室8与干燥部5连接。加载互锁室8具有与干燥部5相对而配置的开口部、以及输入口8b。加载互锁室8的开口部由作为分隔部件的门挡板8a封闭。在将成型物3输入制造装置4时，在从输入口8b输入成型物3、关闭输入口8b的门后，打开与干燥部5相对的门挡板8a，通过自动输送装置9输送成型物3。

涂布加工部6是在成型物3上涂布阻气材料来形成阻气层2的部分。涂布加工部6与干燥部5连接。有时会将加热处理前的阻气层2称为阻气材料层、或者聚硅氮烷层。

如图3所示，涂布加工部6具有：顶板13、底板14、背板15、以及一对侧板16。涂布加工部6具有与干燥部5相对而配置的开口部。涂布加工部6的开口部由作为分隔部件的门挡板6a封闭。

涂布加工部6的内外被隔离。因为涂布加工部6的内外被隔离，所以，在成型物3上形成阻气层2时，能够防止成型物3上附着不需要的尘埃等。为了防止在内外隔离的涂布加工部6内聚硅氮烷进行转化反应，将阻气材料的涂布在常压、氮气环境下进行。

在涂布加工部6的内部设有设置于侧板16的一对轨道17。在一对轨道17上滑动自如地安装有涂布机18。

涂布机18通过未图示的驱动马达，在轨道17上滑动。涂布机18具有前端宽度窄的一对模具19。在一对模具19之间形成有缝隙20。从该缝隙20向成型物3的表面涂布聚硅氮烷等阻气材料。一对模具19的间隔可以调整。通过调整缝隙20的宽度，能够改变阻气材料的涂布量。

阻气材料从输送软管21向缝隙20内供给。具体而言，阻气材料通过未图示的、贮存阻气材料的箱体与从箱体输送阻气材料的泵，经过输送软管21向缝隙20内供给。

为了将阻气材料涂布为均匀的厚度，例如优选在聚硅氮烷化合物中掺和有机溶媒等而成为液状体，将该液状体涂布在成型物3上。

在涂布加工部6中，作为在成型物3上涂布阻气材料的方法，不限于上述方法。作为涂布阻气材料的方法，可以采用丝网印刷法、刮涂法、辊涂法、喷墨法、旋涂法、喷涂法、凹版涂布法、棒涂法等各种公知的方法。

作为干燥部5的加热处理条件，优选加热温度为50℃～200℃、加热处理时间为30秒～60分范围内的值。

通过设定上述的加热处理条件，能够不损伤成型物3等，使由聚硅氮烷形成的阻气层2干燥、以及成膜，能够稳定地制造阻气性极好的阻气膜1。作为加热处理条件，更优选加热温度为60℃～180℃、加热处理时间为1分～50分，进一步优选加热温度为70℃～150℃、加热处理时间为2分～30分。作为干燥部5的加热处理条件，不限于上述条件。作为干燥部5，只要能够干燥阻气层2，就可以使用各种干燥装置。作为干燥装置，例如可以举例出热风加热器、以及ir加热器等。在干燥部5中，有时将干燥的阻气层2称为改性聚硅氮烷层。为了在干燥部5内控制聚硅氮烷的转化反应，而将阻气材料的干燥在常压、氮气环境下或加湿环境下进行。

表面改性部7是对在干燥部5中干燥的阻气层2(改性聚硅氮烷层)进行表面改性的部分。通过向阻气层2注入等离子体离子，进行阻气层2的表面改性。

表面改性部7如图4所示，具备具有顶板22、底板23、背板24、以及相互对置而配置的一对侧板25的加工室。表面改性部7与干燥部5连接。表面改性部7具有与干燥部5相对而配置的开口部。表面改性部7的开口部由作为分隔部件的门挡板7a封闭。

表面改性部7的内外被隔离。在表面改性部7的一方的侧板25设有贯通表面改性部7内外的气体注入口26。在背板24的上部设有排气口27。

在表面改性部7的内部设有电极28。电极28与作为电压施加装置的高频电源29a和高压脉冲电源29b连接。另外，顶板22、底板23、背板24、以及一对侧板25由金属板构成，并且接地。

作为通过上述表面改性部7注入等离子体离子的基本方法，可以举例出如下方法，即，在含有稀有气体等的等离子体生成气体的环境下产生等离子体，通过施加负的高压脉冲，在改性聚硅氮烷层的表面注入等离子体中的离子(阳离子)。

具体而言，从气体注入口26向加工室内注入气体，接通高频电源29a，在阻气层2表面生成等离子体，接着接通高压脉冲电源29b，向电极28施加高压，进行等离子体离子注入。

作为注入阻气层2的离子，未特别限制。作为注入阻气层2的离子，例如可以举例出下述(a)～(k)所示的离子等。

(a)氩气、氦气、氖气、氪气、以及氙气等稀有气体的离子

(b)氟碳化合物、氢、氮、氧、二氧化碳、氯、水、氟、以及硫等的离子、氨

(c)甲烷、乙烷、丙烷、丁烷、戊烷、以及己烷等烷烃类气体的离子

(d)乙烯，丙烯，丁烯、以及戊烯等烯烃类气体的离子

(e)戊二烯、以及丁二烯等二烯烃类气体的离子

(f)乙炔、以及甲基乙炔等炔类气体的离子

(g)苯、甲苯、二甲苯、茚、萘、以及菲等芳香族烃类气体的离子

(h)环丙烷、以及环己烷等环烷烃类气体的离子

(i)环戊烯、以及环己烯等环烯烃类气体的离子

(j)金、银、铜、铂、镍、钯、铬、钛、钼、铌、钽、钨、以及铝等导电性金属的离子

(k)硅烷(sih4)或有机硅化合物的离子

在上述离子中，因为能够更简单地向阻气层2的规定深度位置进行离子注入，并且即使是薄膜也能够得到稳定且具有良好阻气性的阻气膜1，所以，优选从氢、氮、氧、水、氩、氦、氖，氙、以及氪形成的群中选择至少一种离子。

注入离子时的加工室内的等离子体离子注入压力优选为0.01pa～1pa的范围。

当等离子体离子注入时的压力在上述范围时，能够简单且有效率地均匀地注入离子，能够有效率地形成兼具抗弯性以及阻气性的阻气膜1。

更优选等离子体离子注入压力为0.02pa～0.8pa的范围，进一步优选为0.03pa～0.6pa的范围。

优选注入离子时的施加电压为－1kv～－50kv的范围。

接着，说明本实施方式的阻气膜的制造装置4的作用。需要说明的是，本实施方式的成型物3为单枚板状体(膜)。

在阻气膜的制造装置4中虽然未图示，但连接有计算机等控制器。控制器除了普通半导体制造装置的输送工序控制以外，还进行调整涂布加工部6中的涂布机18的缝隙20的开口尺寸的涂布量控制、干燥部5中的调湿、调温控制、以及表面改性部7中的电极调整控制及施加电压调整控制。

·阻气膜的制造方法

本实施方式的附有阻气层的成型物(阻气膜1)的制造方法使用阻气膜的制造装置4作为阻气层制造装置。

本实施方式的阻气膜1的制造方法实施以下工序，即，在涂布加工部6中在成型物3的表面涂布阻气材料的工序、在涂布了阻气材料后将成型物3向干燥部5输送的工序、在干燥部5中对涂布后的阻气材料进行干燥的工序、在使阻气材料干燥后将成型物3向表面改性部7输送的工序、以及在表面改性部7中对干燥后的阻气材料的表面进行改性的工序。

下面，对使用阻气膜的制造装置4来制造阻气膜1的方法的一个例子进行说明。

首先，从输入口8b向加载互锁室8供给成型物3，关闭输入口8b门。当门关闭后，门挡板8a打开，通过自动输送装置9将成型物3从加载互锁室8输出。自动输送装置9转动，将成型物3输送至涂布加工部6前。当涂布加工部6的门挡板6a打开时，自动输送装置9将成型物3输入涂布加工部6的内部。

当成型物3配置在涂布加工部6的内部的规定位置后，关闭门挡板6a，涂布机18沿轨道17滑动，在成型物3表面涂布阻气材料，形成阻气层2。

当形成了阻气层2后，打开门挡板6a，自动输送装置9将成型物3从涂布加工部6输出，在干燥部5内、以规定时间将成型物3保持，使阻气层2的阻气材料干燥。

当通过干燥部5完成干燥后，自动输送装置9将成型物3输送到表面改性部7前，当门挡板7a打开后，将成型物3输入表面改性部7的内部。输入后，从排气口27抽出表面改性部7内的空气，并且从气体注入口26向表面改性部7内注入氩气等，通过高频电源29a及高压脉冲电源29b施加电压，注入等离子体离子。

当等离子体离子注入完毕后，向表面改性部7内注入空气。当表面改性部7内达到常压后，自动输送装置9将成型物3输出，将成型物3输入加载互锁室8的内部。工作人员从输入口8b将具有阻气层2的成型物3、即阻气膜1取出。

根据本实施方式，具有以下的效果。

通过将涂布加工部6、干燥部5、以及表面改性部7连续设置，能够由自动输送装置9在短时间内输送成型物3，所以，能够有效率地制造阻气膜1。

另外，通过缩短输送时间，能够在输送过程中减少阻气层2与空气中的水分发生反应，所以，能够防止在阻气层2产生瑕疵等。

即，根据本实施方式的制造装置及制造方法，能够有效率地制造阻气特性良好的阻气膜。

在涂布加工部6于成型物3的表面形成阻气层2后，只通过由自动输送装置9从涂布加工部6取出，就可以开始在干燥部5的干燥。因此，能够在从涂布加工部6向表面改性部7的输送过程中在干燥部5内对阻气层2进行干燥，能够更有效率地制造阻气膜1。

[3]第二实施方式

接着，针对本发明的第二实施方式进行说明。需要说明的是，在以下的说明中，针对与已经说明的部分相同的部分，省略其说明。

·阻气膜的制造装置

在所述的第一实施方式中，利用自动输送装置9，将单枚式的成型物3向涂布加工部6、干燥部5、以及表面改性部7输送，进行阻气层2的涂布、干燥、以及表面改性。

与此相对，在本实施方式的阻气膜的制造装置30中，以所谓的辊到辊(rolltoroll)方式制造阻气膜这一点，是与第一实施方式的阻气膜的制造装置4的不同之处。本实施方式的阻气膜的制造装置30如图5所示，作为成型物，使用卷绕成卷轴状的长条基材3a及长条基材3b，利用驱动辊35及驱动辊36来输送长条基材3a及长条基材3b，在输送过程中，在涂布加工部32、干燥部33、以及表面改性部34分别进行加工。需要说明的是，长条基材3a、以及长条基材3b都是膜状的成型物。所谓的长条，例如是指长度相对于宽度的比例在10倍以上。

如图5所示，本实施方式的阻气膜的制造装置30具有：加工室31、涂布加工部32、干燥部33、表面改性部34、驱动辊35、驱动辊36、分隔部件37、以及分隔部件38。

在加工室31收纳有制造装置30的整体，具体而言，收纳有：涂布加工部32、干燥部33、表面改性部34、驱动辊35、驱动辊36、分隔部件37、以及分隔部件38。

在加工室31设有贯通内外的气体注入口31a及排气口31b。在图5的a方向上送出的情况下，因为进行涂布加工、以及干燥，所以，加工室31的内部为常压、氮气环境。另一方面，在图5的b方向上送出的情况下，因为实施等离子体离子注入，所以，加工室31的内部为低压、氩气环境。涂布、干燥、以及等离子体离子注入的各自的条件与第一实施方式相同。

涂布加工部32具有涂布机39、以及作为支承辊的支持辊40。在支持辊40卷绕有长条基材3a。涂布机39隔着长条基材3a而与支持辊40对置。通过涂布机39，在长条基材3a上涂布阻气材料。

干燥部33具有多个输送辊41、以及加热器42。

多个输送辊41输送插入卷绕轴x的长条基材3a。

多个输送辊41与加热器42隔着长条基材3a对置而配置。通过加热器42的热量，对长条基材3a上的阻气层进行干燥。

需要说明的是，输送辊41的辊数、以及加热器42的长度可以根据长条基材3a的送出速度以及加热器42的加热温度、根据需要进行确定。

表面改性部34的详细情况将在后面叙述，其具有多个等离子体离子注入单元43。表面改性部34向形成于长条基材3a上的阻气层实施等离子体离子注入。

需要说明的是，涂布加工部32中的涂布条件、干燥部33中的干燥条件、以及表面改性部34中的表面改性条件分别与第一实施方式相同。

驱动辊35以及驱动辊36在各自的轴部设有未图示的驱动马达。能够通过驱动辊35将卷绕成卷轴状的长条基材3a在a方向上送出，并且通过驱动辊36卷绕在卷绕轴y上。当在a方向上送出时，驱动辊35为送出辊，驱动辊36为卷绕辊。也能够通过驱动辊36将长条基材3b在b方向上送出，并且通过驱动辊35卷绕在卷绕轴x上。当在b方向上送出时，驱动辊35为卷绕辊，驱动辊36为送出辊。

在涂布加工部32与干燥部33之间设有分隔部件37。在干燥部33与表面改性部34之间设有分隔部件38。通过分隔部件37、以及分隔部件38，将各工序部(涂布加工部32、干燥部33及表面改性部34)隔离。需要说明的是，在分隔部件37、以及分隔部件38设有用来使长条基材3a、以及长条基材3b通过的切口。

构成表面改性部34的等离子体离子注入单元43如图6所示，具有电极辊44、高频电源45、高压脉冲电源46、作为电极的电极部件47、以及引导辊48。

在电极辊44卷绕有长条基材3b。电极辊44与作为电压施加装置的高频电源45及高压脉冲电源46电连接。需要说明的是，高频电源45及高压脉冲电源46的结构及作用与第一实施方式相同。

电极部件47隔着长条基材3b与电极辊44对置。电极部件47以包围电极辊44的方式沿着电极辊44的外周面进行配置。电极部件47接地。

引导辊48将长条基材3b向电极辊44引导，并且向下一步的等离子体离子注入单元43引导长条基材3b。

在本实施方式中，使用了多个上述等离子体离子注入单元43。等离子体离子注入单元43的数量可以根据等离子体离子注入所需要的次数适当进行设定。

接着，针对本实施方式的作用进行说明。

在阻气膜的制造装置30中连接有计算机等控制器。控制器除了对长条基材3a及长条基材3b的送出及卷绕、以及涂布加工部32中的阻气材料的涂布量进行控制以外，还进行干燥部33中的调湿及调温控制、以及表面改性部7中的电极调整控制及施加电压调整控制。

·阻气膜的制造方法

本实施方式的附有阻气层的成型物(长条状阻气膜)的制造方法使用阻气膜的制造装置30作为阻气层制造装置。

本实施方式的阻气膜的制造方法实施以下的工序，即，将长条基材3a送出的工序、在涂布加工部32中在长条基材3a的表面涂布阻气材料的工序、在涂布了阻气材料后将长条基材3a向干燥部33输送的工序、在干燥部33中对涂布后的阻气材料进行干燥的工序、在使阻气材料干燥后卷绕长条基材3a的工序、将卷绕后的长条基材3a接着作为长条基材3b送出的工序、将长条基材3b向表面改性部34输送的工序、在表面改性部34对干燥后的阻气材料的表面进行改性的工序、以及卷绕长条基材3b的工序。在对阻气材料进行干燥的工序之后且进行表面改性的工序之前，优选实施将阻气层制造装置的内部环境改变为与干燥时不同的环境的工序。作为改变阻气层制造装置的内部环境的方式的例子，可以举例出从氮气环境改变为氩气环境的方式。

下面，说明使用阻气膜的制造装置30来制造长条状阻气膜的方法的一个例子。

首先，使加工室31内为常压、氮气环境下的状态。然后，使驱动辊35朝送出方向转动，将卷绕于卷绕轴x的长条基材3a在a方向上送出，通过涂布加工部32中的涂布机39，在长条基材3a涂布阻气材料。在涂布了阻气材料后，通过干燥部33的加热器42，使阻气层干燥，通过驱动辊36，将长条基材3a卷绕在卷绕轴y上。

接着，使加工室31内为低压、氩气环境下的状态，使驱动辊36的转动方向反转，将卷绕于卷绕轴y的长条基材3b在b方向上送出。

在表面改性部34中，向长条基材3b上的阻气层注入等离子体离子，对阻气层的表面进行改性。

表面改性后，通过驱动辊35将长条基材3b卷绕在卷绕轴x上。

在多层层压阻气层的情况下，根据其层数，反复实施上述工序。

根据本实施方式，除了所述第一实施方式的效果以外，还具有以下的效果。

根据本实施方式的制造装置及制造方法，能够在由驱动辊35送出的长条基材3a上连续地通过涂布机39涂布阻气材料，在输送辊41上通过加热器42使之干燥，在由驱动辊36送出的长条基材3b上通过高频电源45及高压脉冲电源46，对长条基材3b上的阻气层的表面进行改性。因此，根据本实施方式的制造装置及制造方法，能够连续且迅速地制造阻气膜。

[4]第三实施方式

接着，针对本发明的第三实施方式进行说明。需要说明的是，在以下的说明中，针对与已经说明的部分相同的部分，省略其说明。

·阻气膜的制造装置

在所述的第一实施方式中，配置有自动输送装置9的空间也具有作为干燥部5的功能。在第一实施方式中，作为输送部的自动输送装置9收纳在干燥部5的内部。

与此相对，本实施方式的阻气膜的制造装置50如图7所示，干燥部5与配置有自动输送装置9的空间9a独立这一点，是与第一实施方式的阻气膜的制造装置4的不同之处。

阻气膜的制造装置50具有：配置在制造装置中央的输送室90、干燥部5、涂布加工部6、表面改性部7、以及加载互锁室8。

在输送室90的内部形成有空间9a。在空间9a配置有自动输送装置9。自动输送装置9的一对臂部11能够朝远离支柱10的方向伸展，通过使臂部11伸展，能够将载置于基座12上的成型物3输入干燥部5、涂布加工部6、表面改性部7、以及加载互锁室8。

在阻气膜的制造装置50中，将输送室90、涂布加工部6、干燥部5、表面改性部7、以及加载互锁室8连续设置。

干燥部5与输送室90连接。干燥部5具有与输送室90的空间9a相对而配置的开口部。干燥部5的开口部由门挡板5a封闭。

涂布加工部6与输送室90连接。涂布加工部6具有与输送室90的空间9a相对而配置的开口部。涂布加工部6的开口部由门挡板6a封闭。

表面改性部7与输送室90连接。表面改性部7具有与输送室90的空间9a相对而配置的开口部。表面改性部7的开口部由门挡板7a封闭。

加载互锁室8与输送室90连接。加载互锁室8具有与输送室90的空间9a相对而配置的开口部、以及输入口8b。加载互锁室8的开口部由门挡板8a封闭。以输送室90的空间9a为中心，按照逆时针的顺序，连续设置涂布加工部6、干燥部5、表面改性部7以及加载互锁室8。

需要说明的是，涂布加工部6、干燥部5、表面改性部7以及加载互锁室8的结构及作用与第一实施方式相同。

·阻气膜的制造方法

本实施方式的附有阻气层的成型物(阻气膜)的制造方法使用阻气膜的制造装置50作为阻气层制造装置。本实施方式中的成型物3为单枚板状体。

本实施方式的阻气膜的制造方法实施以下的工序，即，在涂布加工部6中在成型物3的表面涂布阻气材料的工序；在涂布了阻气材料后，通过涂布加工部6的输入输出开口将成型物3输出到输送室90，并将从涂布加工部6输出的成型物3通过干燥部5的输入输出开口输入干燥部5的工序；在干燥部5中对涂布后的阻气材料进行干燥的工序；在使阻气材料干燥后，通过干燥部5的输入输出开口将成型物3输出至输送室90，并且将从干燥部5输出的成型物3通过表面改性部7的输入输出开口向表面改性部7输入的工序；在表面改性部7中对干燥后的阻气材料的表面进行改性的工序。

下面，说明使用阻气膜的制造装置50来制造阻气膜的方法的一个例子。

在本实施方式中，因为从向加载互锁室8供给成型物3的工序至在涂布加工部6中在成型物3表面涂布阻气材料的工序(涂布工序)，与第一实施方式都相同，所以省略说明。

在涂布工序结束后，通过自动输送装置9将成型物3输送至干燥部5前。当门挡板5a打开后，通过自动输送装置9将成型物3向干燥部5的内部输入，进而载置在规定位置。在干燥部5中，对阻气层2进行干燥。干燥部5中的加热处理条件例如可以采用与第一实施方式相同的条件。

在通过干燥部5完成干燥后，打开门挡板5a，通过自动输送装置9将成型物3从干燥部5输出，将输出的成型物3输入表面改性部7，与第一实施方式相同地实施等离子体离子注入工序。

因为在等离子体离子注入工序结束后，将阻气膜1从输入口8b取出的工序与第一实施方式相同，所以省略说明。

根据本实施方式，也能够享有与第一实施方式相同的作用及效果。

此外，根据本实施方式的制造装置，即使在表面改性工序后不通过干燥部5，也能够经由输送室90及加载互锁室8，从制造装置中取出阻气膜。

[5]第四实施方式

接着，针对本发明的第四实施方式进行说明。需要说明的是，在以下的说明中，针对与已经说明的部分相同的部分，省略其说明。

·阻气膜的制造装置

图8表示了表示本实施方式的阻气膜的制造装置60结构的俯视示意图。

阻气膜的制造装置60具有用来进行阻气层2的测量的测量部100这一点，是与第一实施方式的阻气膜的制造装置4的主要不同之处。

阻气膜的制造装置60具有：配置在制造装置中央的干燥部5、涂布加工部6、表面改性部7、加载互锁室8、以及测量部100。自动输送装置9的一对臂部11能够朝远离支柱10的方向伸展，通过使臂部11伸展，能够将载置于基座12上的成型物3输入涂布加工部6、表面改性部7、测量部100、以及加载互锁室8。

涂布加工部6、干燥部5、表面改性部7、以及加载互锁室8的结构及作用与第一实施方式相同。

测量部100对在涂布加工部6中涂布的阻气材料、在干燥部5中干燥的阻气材料、以及在表面改性部7中改性的阻气材料中的至少任一材料进行测量。即，测量部100对形成于成型物3的阻气层2进行测量。

测量部100与干燥部5连接。如图8所示，测量部100与干燥部5的连接部位位于涂布加工部6和干燥部5的连接部位与表面改性部7和干燥部5的连接部位之间。

测量部100具有与干燥部5相对而配置的开口部。测量部100的开口部通过作为分隔部件的门挡板100a封闭。

测量部100对阻气层2的测量项目优选为从由折射率、透光率、光反射率、色度、膜组成、膜密度、膜瑕疵、以及膜厚形成的群中所选择的至少任一测量项目。

阻气层2的折射率可以利用光谱椭圆偏光法进行测量。

阻气层2的透光率可以利用光谱透光率测量法进行测量。

阻气层2的光反射率可以利用光谱反射率测量法进行测量。

阻气层2的色度可以利用光谱测色法进行测量。

阻气层2的膜组成可以利用xps测量法(x射线光电子光谱法)、以及ir测量法(红外光谱法)的至少任一测量法进行测量。xps是xrayphotoelectronspectroscopy的简称。ir是infraredspectroscopy的简称。

阻气层2的膜密度可以利用xrr测量法(x射线反射率测量法)进行测量。xrr是x-rayreflection的简称。

阻气层2的膜瑕疵可以利用如下方法，即，利用透过光、以及反射光的至少任一种光，拍摄阻气层2的图像，并针对拍摄的阻气层2的图像进行图像处理来进行测量。

阻气层2的膜厚可以利用光谱椭圆偏光法、光谱反射率测量法、荧光x射线分析法、以及使用了接触式步进仪的测量法的至少任一种测量法进行测量。

在测量部100的内部收纳有未图示的测量装置。测量装置根据所述的测量项目、以及测量法适当进行选择。收纳于测量部100内部的测量装置不限于一种。也可以根据测量项目的种类及数目，将适合的、必要的测量装置收纳在测量部100的内部。

在阻气膜的制造装置60中虽然未图示，但也与第一实施方式相同，连接有计算机等控制器。本实施方式的控制器除了在第一实施方式说明的控制项目以外，例如还能够进一步进行测量部100中的阻气层2的测量装置的控制或测量数据的收集及解析。

·阻气膜的制造方法

本实施方式的附有阻气层的成型物(阻气膜)的制造方法使用阻气膜的制造装置60作为阻气层制造装置。本实施方式的成型物3为单枚板状体。

本实施方式的阻气膜的制造方法除了在第一实施方式中说明的制造方法的各工序以外，进而还实施对在涂布加工部6中涂布的阻气材料、在干燥部5中干燥的阻气材料、以及在表面改性部7中改性的阻气材料的至少任一种阻气材料进行测量的工序。

在本实施方式的阻气膜的制造方法中，优选在表面改性部7进行改性前对阻气材料进行测量。

下面，说明使用阻气膜的制造装置60来制造阻气膜的方法的一个例子。

在本实施方式中，因为从向加载互锁室8供给成型物3的工序至在干燥部5中对阻气层2进行干燥的工序，都与第一实施方式相同，所以，省略说明。

在通过干燥部5完成干燥后，通过自动输送装置9将成型物3输送至测量部100前。在门挡板100a打开后，通过自动输送装置9将成型物3输入测量部100的内部，进而载置于测量装置的规定位置。在测量部100中，对阻气层2进行测量。作为在阻气层2干燥后且表面改性前所进行的测量项目，如上所述。

优选在阻气层2干燥后且表面改性前，对改性聚硅氮烷层进行测量，从而对聚硅氮烷膜的转化反应的进行程度、以及涂布膜厚进行管理。

转化反应的进行程度可以通过测量改性聚硅氮烷层的折射率、光反射率、膜组成，以及膜密度的至少任一种进行确认。优选通过折射率测量来确认聚硅氮烷膜的转化反应的进行程度。通过折射率测量而得到的关于折射率的数据优选向所述控制器进行反馈。在该情况下，控制器可以基于折射率数据更适当地控制干燥部5中的加热处理条件。

优选使阻气层2干燥后且表面改性前的改性聚硅氮烷层的折射率在1.48以上、1.70以下的范围内进行管理。

通过将改性聚硅氮烷层的折射率在上述范围内进行管理，能够通过在表面改性工序中的等离子体离子注入，得到具有阻气性(水蒸气透过率等)及透光性(总透光率)等良好的阻气层2的阻气膜。当改性聚硅氮烷层的折射率不足1.48时，阻气膜的水蒸气透过率或氧透过率可能过高。当改性聚硅氮烷层的折射率超过1.70时，阻气膜的透光性(总透光率)可能过低，或者阻气膜着色。

更优选将阻气层2干燥后且表面改性前的改性聚硅氮烷层的折射率管理在1.49以上、1.65以下的范围内，进而管理在1.50以上、1.60以下的范围内。

在对阻气层2测量结束后，打开门挡板100a，通过自动输送装置9从测量部100输出成型物3，并输入表面改性部7的内部。

在本实施方式中，因为表面改性部7中的等离子体离子注入工序与第一实施方式相同，所以省略说明。

在表面改性后，通过自动输送装置9，从表面改性部7输出成型物3，并且输入测量部100，并针对表面改性后的阻气层2进行测量。

改性聚硅氮烷层的改性进行程度可以通过对折射率、透光率、光反射率、色度、膜组成、以及膜密度的至少任一种项目进行测量来确认。改性聚硅氮烷层的改性进行程度优选通过透光率测量进行确认。通过透光率测量得到的关于透光率的数据优选向所述控制器进行反馈。在该情况下，控制器可以基于透光率数据，更适当地控制表面改性部7的等离子体离子注入条件。

在阻气层2测量结束后，通过自动输送装置9从测量部100输出成型物3。之后到从输入口8b取出阻气膜1的工序为止，都与第一实施方式相同，所以省略说明。

在使用聚硅氮烷材料作为阻气层前体、通过离子注入处理进行表面改性、形成阻气层的工序中，离子注入后(表面改性后)的膜状态可以认为大多依赖于离子注入前(涂布工序后且表面改性前)的改性聚硅氮烷层的状态。表面改性后的膜状态的管理可以认为是用来判断改性处理妥当性的重要检查项目。

根据本实施方式，能够享有与第一实施方式相同的作用及效果。

此外，根据本实施方式，针对阻气层的状态，可以在从涂布工序经由干燥工序而至改性工序的生产线上进行测量(在线测量)，在阻气膜的生产线内能够随时通过对膜状态进行管理而实施连续性的膜评估、以及管理，能够进行从阻气材料的涂布加工至离子注入处理的一系列连续制造。

此外，根据本实施方式，能够在阻气层2干燥后且表面改性前，对聚硅氮烷膜的转化反应的进行程度、以及聚硅氮烷膜的涂布加工膜厚适当地进行管理。因此，根据本实施方式，能够得到具有阻气性(水蒸气透过率等)及透光性(总透光率)等良好的阻气层2的阻气膜。

此外，根据本实施方式，干燥部5、涂布加工部6、表面改性部7、以及测量部100通过作为分隔部件的门挡板相互区隔。因此，易于将测量部100的内部维持在适合测量的状态，能够提高测量的正确性及迅速性。

[6]第五实施方式

接着，针对本发明的第五实施方式进行说明。需要说明的是，在以下的说明中，针对与已经说明的部分相同的部分，省略其说明。

·阻气膜的制造装置

图9表示了表示本实施方式的阻气膜的制造装置70结构的俯视示意图。

阻气膜的制造装置70具有用来进行阻气层2的测量的测量部100这一点，是与第三实施方式的阻气膜的制造装置50的主要不同之处。

阻气膜的制造装置70具有配置在制造装置中央的输送室90a、干燥部5、涂布加工部6、表面改性部7、加载互锁室8、以及测量部100。

需要说明的是，涂布加工部6、干燥部5、表面改性部7、以及加载互锁室8的结构及作用与第一实施方式或者第三实施方式相同。测量部100的结构及作用、以及通过测量部100测量阻气层2的测量项目与第四实施方式相同。在阻气膜的制造装置70虽然未图示，但也与第四实施方式相同，连接有计算机等控制器。

在阻气膜的制造装置70中，将输送室90a、涂布加工部6、干燥部5、表面改性部7、加载互锁室8、以及测量部100连续设置。

输送室90a如图9的俯视示意图所示，俯视观察形成为大致五边形。在输送室90a的内部形成有空间9a。在空间9a配置有自动输送装置9。自动输送装置9的一对臂部11能够朝远离支柱10的方向伸展，通过使臂部11伸展，能够将载置于基座12上的成型物3输入涂布加工部6、干燥部5、表面改性部7、测量部100、以及加载互锁室8。

在本实施方式中，在与俯视为大致五边形的各边对应的输送室90a的各部位连接有涂布加工部6、干燥部5、表面改性部7、加载互锁室8、以及测量部100。涂布加工部6、干燥部5、表面改性部7、加载互锁室8、以及测量部100分别具有与输送室90a的空间9a相对而配置的开口部。涂布加工部6、干燥部5、表面改性部7、加载互锁室8、以及测量部100的各开口部与上述相同，分别由门挡板6a、门挡板5a、门挡板7a、门挡板8a、以及门挡板100a封闭。

·阻气膜的制造方法

本实施方式的附有阻气层的成型物(阻气膜)的制造方法使用阻气膜的制造装置70作为阻气层制造装置。本实施方式的成型物3为单枚板状体。

本实施方式的阻气膜的制造方法除了在第三实施方式中说明的制造方法的各工序以外，进而还实施对在涂布加工部6中涂布的阻气材料、在干燥部5中干燥的阻气材料、以及在表面改性部7中改性的阻气材料的至少任一种进行测量的工序。此外，在本实施方式的阻气膜的制造方法中，在对阻气材料进行测量时，实施将成型物3向测量部100输送的工序。

在本实施方式的阻气膜的制造方法中，优选在表面改性部7进行改性前对阻气材料进行测量。

下面，说明使用阻气膜的制造装置70来制造阻气膜的方法的一个例子。

在本实施方式中，从向加载互锁室8供给成型物3的工序至在干燥部5中使阻气层2干燥的工序(干燥工序)，都与第三实施方式相同，所以省略说明。

在干燥工序结束后，通过自动输送装置9将成型物3输送到测量部100前。在门挡板100a打开后，通过自动输送装置9将成型物3输入测量部100的内部，进而将成型物3载置在规定位置。因为测量部100中的测量与第四实施方式相同，所以省略说明。

在阻气层2测量结束后的以下工序、即、表面改性部7中的等离子体离子注入工序、表面改性后阻气层2的测量以及将阻气膜1从输入口8b提出的工序与上述实施方式相同，所以省略说明。

根据上述本实施方式，也能够享有与第一实施方式及第四实施方式相同的作用及效果。

此外，根据本实施方式的制造装置70，即使在测量部100中的测量及表面改性工序后不通过干燥部5，也能够经由输送室90及加载互锁室8，从制造装置取出阻气膜。

[7]第六实施方式

接着，针对本发明的第六实施方式进行说明。需要说明的是，以下的说明中，针对与已经说明的部分相同的部分，省略其说明。

·阻气膜的制造装置

图10表示了表示本实施方式的阻气膜的制造装置80结构的俯视示意图。

本实施方式的阻气膜的制造装置80具有用来进行阻气层2的测量的测量部101、测量部102以及测量部103这一点，是与第一实施方式的阻气膜的制造装置4的主要不同之处。需要说明的是，涂布加工部6、干燥部5、表面改性部7以及加载互锁室8的结构及作用与第一实施方式相同。

另外，在本实施方式的阻气膜的制造装置80中，在涂布加工部6、干燥部5、以及表面改性部7中收纳有测量部，与此相对，在第四实施方式及第五实施方式的阻气膜的制造装置中，涂布加工部6、干燥部5、以及表面改性部7独立而设有测量部100，这一点是本实施方式与第四实施方式及第五实施方式的主要不同之处。

在阻气膜的制造装置80中，涂布加工部6具有测量部101，干燥部5具有测量部103，表面改性部7具有测量部102。

测量部101的设置部位只要在涂布加工部6的内部即可，未特别限定。也可以在涂布加工部6中根据测量的项目，适当选择设置部位。例如，如图11所示，测量部101也可以安装在涂布加工部6的顶板13。

测量部102的设置部位只要在表面改性部7的内部即可，未特别限定。也可以在表面改性部7中根据测量的项目，适当地选择设置部位。例如，如图12所示，测量部102也可以安装在表面改性部7的顶板22。

测量部101、测量部102以及测量部103只要能够测量与测量部100相同的测量项目即可，未特别限定。例如，作为测量部101、测量部102以及测量部103，也可以采用与在测量部100中使用的测量装置相同的测量装置。在阻气膜的制造装置80中虽然未图示，但也与第四实施方式相同，连接有计算机等控制器。

·阻气膜的制造方法

本实施方式的附有阻气层的成型物(阻气膜)的制造方法使用阻气膜的制造装置80作为阻气层制造装置。本实施方式中的成型物3为单枚板状体。

本实施方式的阻气膜的制造方法除了第一实施方式中说明的制造方法的各工序以外，进而还实施对在涂布加工部6中涂布的阻气材料、在干燥部5中干燥的阻气材料、以及在表面改性部7中改性的阻气材料的至少任一种进行测量的工序。在本实施方式的阻气膜的制造方法中，在收纳于干燥部5、涂布加工部6、以及表面改性部7的测量部中的至少任一个测量部实施测量阻气材料的工序。

在本实施方式的阻气膜的制造方法中，优选在表面改性部7中进行改性之前测量阻气材料。

下面，说明使用阻气膜的制造装置80来制造阻气膜的方法的一个例子。

阻气膜的制造装置80与第一实施方式的阻气膜的制造装置4不同，能够在测量部101、测量部102、以及测量部103的至少任一个测量部测量阻气层2。

涂布加工部6的测量部101优选在阻气层2干燥前测量膜厚。

干燥部5的测量部102能够针对表面改性前、以及表面改性后的阻气层2进行测量。

表面改性部7的测量部103能够针对表面改性前、以及表面改性后的阻气层2进行测量。

根据上述本实施方式，也能够享有与第一实施方式、以及第四实施方式相同的作用及效果。

此外，根据本实施方式的制造装置80，因为在干燥部5、涂布加工部6、以及表面改性部7分别收纳有测量部，所以，在实施各工序的处理后，能够迅速开始测量。

[8]第七实施方式

接着，针对本发明的第七实施方式进行说明。需要说明的是，在以下的说明中，针对与已经说明的部分相同的部分，省略其说明。

·阻气膜的制造装置

图13表示了表示本实施方式的阻气膜的制造装置30a结构的示意图。

阻气膜的制造装置30a具有与第二实施方式的阻气膜的制造装置30相同的结构，此外，具有测量部104以及测量部105。测量部104配置在干燥部33与表面改性部34之间。测量部104以及测量部105只要能够测量与测量部100相同的测量项目即可，未特别限定。例如，作为测量部104以及测量部105，也可以采用与在测量部100使用的测量装置相同的测量装置。

阻气膜的制造装置30a中的加工室31、涂布加工部32、干燥部33、表面改性部34、驱动辊35、驱动辊36、分隔部件37、以及分隔部件38的结构及作用与第二实施方式相同。

在阻气膜的制造装置30a中虽然未图示，但也与第二实施方式相同，连接有计算机等控制器。

·阻气膜的制造方法

本实施方式的附有阻气层的成型物(长条状阻气膜)的制造方法使用阻气膜的制造装置30a作为阻气层制造装置。

本实施方式的长条状阻气膜的制造方法除了在第二实施方式中说明的制造方法的各工序以外，进而还实施对在涂布加工部6中涂布的阻气材料、在干燥部5中干燥的阻气材料、以及在表面改性部7中改性的阻气材料的至少任一种进行测量的工序。

在本实施方式中，优选在对涂布加工部6中涂布的阻气材料进行干燥之前实施测量的工序。

下面，说明使用阻气膜的制造装置30a来制造长条状阻气膜的方法的一个例子。

在本实施方式中，因为测量部104以及测量部105中的其他测量与第二实施方式相同，所以省略说明。

测量部104在通过干燥部33进行干燥后、将长条基材3a向表面改性部34输送的过程中，对表面改性前的阻气层2(改性聚硅氮烷层)进行测量。测量部104在通过表面改性部34进行表面改性后、将长条基材3b向干燥部33输送的中途，也能够对表面改性后的阻气层2进行测量。

测量部105配置在表面改性部34与卷绕轴y之间。测量部105在通过表面改性部34进行表面改性之后、将长条基材3a卷绕到卷绕轴y之前，对表面改性后的阻气层2进行测量。

根据本实施方式，除了所述的第二实施方式的效果以外，还具有以下的效果。

根据本实施方式的制造装置及制造方法，能够对在干燥部33与表面改性部34之间输送的长条基材3a的阻气材料进行测量。因此，能够提前确认表面改性前的阻气层2是否为适用于表面改性的状态。

此外，根据本实施方式的制造装置及制造方法，在辊到辊方式的生产线内能够随时通过对膜状态进行管理而实施连续性的膜评估、以及管理，能够进行从阻气材料的涂布加工至离子注入处理的一系列连续制造。

此外，根据本实施方式的制造装置及制造方法，即使在辊到辊方式的生产线内，也能够在阻气层2干燥后且表面改性前、对聚硅氮烷膜的转化反应的进行程度、以及聚硅氮烷膜的涂布膜厚适当地进行管理。因此，能够通过辊到辊方式制造具有阻气性(水蒸气透过率等)及透光性(总透光率)等良好的阻气层2的阻气膜。

[实施方式的变形]

本发明不限于所述实施方式，在能够达到本发明目的的范围内的变形及改良等都包含在本发明中。需要说明的是，在以下的说明中，与所述实施方式中说明的部件及装置等相同的部件及装置，使用相同的标记，从而省略或简化说明。

在所述实施方式中，主要以用来制造阻气膜的制造方法及制造装置为例进行了说明，但本发明不限于上述方式。在成型物是各种容器及各种电子器件用部件的情况下，也能够适用所述实施方式中说明的制造方法及制造装置。

本发明不限于在成型物上形成一层阻气层的方式，也包括在形成了的阻气层之上进而层压一层以上阻气层的方式。根据所述的附有阻气层的成型物的制造方法及制造装置，通过层压形成阻气层，也能够制造具有希望厚度的阻气层的成型物。

例如，在第一、第三～第六实施方式中说明的方式中，也能够在形成阻气层后，不从加载互锁室输出，而是再次按照涂布加工部、干燥部、以及表面改性部的顺序输送成型物，使阻气层层压。

另外，例如在第二及第七实施方式中说明的方式中，也能够在由卷绕辊卷绕表面改性后的长条基材后，再次向a方向送出长条基材，进行涂布加工部及干燥部中的处理，进而向b方向送出，进行表面改性部中的处理，从而使阻气层层压。

在使多层阻气层层压的情况下，也优选在形成各阻气层时、在测量部对阻气层的膜状态进行测量。

在第四实施方式、第五实施方式、第六实施方式、以及第七实施方式中，以在表面改性工序之前、以及表面改性工序之后、通过测量部对阻气层进行测量的方式为例进行了说明，但本发明不限于上述方式。

只要在表面改性工序之前、以及表面改性工序之后的至少任一时刻对阻气层进行测量即可。更优选至少在阻气层干燥后且表面改性前对阻气层进行测量的方式。

在所述第六实施方式中，以涂布加工部、干燥部、以及表面改性部分别具有测量部的方式为例进行了说明，但本发明不限于上述方式。

具有测量部的方式的阻气膜的制造装置只要在任一部位具有所述实施方式中说明的测量部即可。在测量部与涂布加工部、干燥部、以及表面改性部不独立的方式的情况下，优选涂布加工部、干燥部、以及表面改性部的至少任一个部位具有测量部。例如，也优选涂布加工部具有测量部、而干燥部、以及表面改性部不具有测量部的方式，也优选干燥部具有测量部、而涂布加工部、以及表面改性部不具有测量部的方式，也优选表面改性部具有测量部、而涂布加工部、以及干燥部不具有测量部的方式。因为优选能够在阻气层干燥后且表面改性前测量改性聚硅氮烷层的方式，所以，在上述方式的情况下，设有测量部的部位只要能够测量改性聚硅氮烷层即可，未特别限定。

在所述第七实施方式中，以具有测量部104及测量部105的阻气膜的制造装置30a为例进行了说明，但本发明不限于上述方式。例如，如第三实施方式或第七实施方式的辊到辊方式的制造装置优选具有至少一个测量部。因为优选能够在阻气层干燥后且表面改性前测量改性聚硅氮烷层的方式，所以，在上述方式的情况下，在辊到辊方式的制造装置中设置测量部的部位未特别限定，只要能够测量改性聚硅氮烷层即可。

附图标记说明

1阻气膜；2阻气层；3成型物；3a长条基材；3b长条基材；4阻气膜的制造装置；5干燥部；5a门挡板；6涂布加工部；6a门挡板；7表面改性部；7a门挡板；8加载互锁室；8a门挡板；8b输入口；9自动输送装置；9a空间；10支柱；11臂部；12基座；13顶板；14底板；15背板；16侧板；17轨道；18涂布机；19模具；20缝隙；21输送软管；22顶板；23底板；24背板；25侧板；26气体注入口；27排气口；28电极；29a高频电源；29b高压脉冲电源；30阻气膜的制造装置；30a阻气膜的制造装置；31加工室；31a气体注入口；31b排气口；32涂布加工部；33干燥部；34表面改性部；35驱动辊；36驱动辊；37分隔部件；38分隔部件；39涂布机；40支持辊；41输送辊；42加热器；43等离子体离子注入单元；44电极辊；45高频电源；46高压脉冲电源；47电极部件；48引导辊；50阻气膜的制造装置；60阻气膜的制造装置；70阻气膜的制造装置；80阻气膜的制造装置；90输送室；90a输送室；100测量部；100a门挡板；101测量部；102测量部；103测量部；104测量部；105测量部；x卷绕轴；y卷绕轴。