具有清洁功能的滤清器的制作方法

文档序号:11415231阅读:436来源:国知局
具有清洁功能的滤清器的制造方法与工艺

本实用新型涉及一种过滤设备,更具体地说,它涉及一种具有清洁功能的滤清器。



背景技术:

滤清器是一种过滤设备,内设有过滤组件,包括由滤芯纸制成的滤芯本体,滤芯本体内设有滤芯腔。需要过滤的液体经过滤芯本体的过滤后,进入到滤芯腔腔内进行运输,在滤芯腔的腔壁上设有滤网,过滤时间长久后,滤网容易发生堵塞,无法清理,造成过滤工作的效率缓慢,极大的影响了滤芯的工作质量。而且滤芯在运输的过程中,杂质易堆积于滤芯腔内,在使用前无法及时清洁处理,使得过滤质量低下。



技术实现要素:

针对现有技术存在的不足,本实用新型的目的在于提供一种能及时将滤芯腔内杂质清理,和将滤网上堵塞的杂质清理的一种具有清洁功能的滤清器。

为实现上述目的,本实用新型提供了如下技术方案:

一种具有清洁功能的滤清器,包括滤芯本体,所述滤芯本体内设有滤芯腔,所述滤芯腔的上下两端分别设有进口和出口,所述滤芯腔的内壁上设有滤网,所述滤芯腔相对出口的位置上设有清洁组件,所述清洁组件包括固定于滤芯腔上的缓冲盘,所述缓冲盘上设有若干供液体流出的出水孔,所述缓冲盘相对滤芯腔出口的一端设有安装槽,所述安装槽内设有清洁件,所述清洁件包括可朝向滤芯腔出口方向伸缩的伸缩轴,和套设于伸缩轴且与伸缩联动连接的清洁盘,所述清洁盘上设有海绵层和与缓冲盘相连通的通槽,所述清洁盘嵌设于安装槽内时,海绵层呈收缩状态,所述清洁盘朝向滤芯腔出口方向运动时,所述海绵层与滤网相抵触。

本实用新型进一步设置为:所述清洁盘上设有两个滑块,所述滤网上设有与滑块相适配的滑槽,所述滑块与滑槽相配合时,所述清洁盘可朝向滤芯腔出口处运动。

本实用新型进一步设置为:所述海绵层上设有若干凸点,所述凸点与海绵层一体设置,且可穿设于滤网的滤孔内。

通过采用上述技术方案,缓冲盘的设置,能减缓液体在出口处的流速,避免流量过大对设备造成损害;清洁组件的设置,能及时将滤芯腔内的杂质清理,同时滤网上的滤孔发生堵塞,也能及时将杂质处理,保持过滤的畅通,保持工作效率。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图一;

图2为本实用新型的结构示意图二。

1、滤芯本体;10、滤芯腔;11、进口;12、出口;3、滤网;30、滑槽;4、清洁组件;40、缓冲盘;41、出水孔;42、安装槽; 43、清洁件;44、伸缩轴;45、清洁盘;46、海绵层;47、滑块;48、凸点;49、通槽。

具体实施方式

参照图1至图2对本实用新型一种具有清洁功能的滤清器实施例做进一步说明。

一种具有清洁功能的滤清器,包括滤芯本体1,所述滤芯本体1内设有滤芯腔10,所述滤芯腔10的上下两端分别设有进口11和出口12,所述滤芯腔10的内壁上设有滤网3,所述滤芯腔10相对出口12的位置上设有清洁组件4,所述清洁组件4包括固定于滤芯腔10上的缓冲盘40,所述缓冲盘40上设有若干供液体流出的出水孔41,所述缓冲盘40相对滤芯腔10出口12的一端设有安装槽42,所述安装槽42内设有清洁件43,所述清洁件43包括可朝向滤芯腔10出口12方向伸缩的伸缩轴44,和套设于伸缩轴44且与伸缩联动连接的清洁盘45,所述清洁盘45上设有海绵层46和与缓冲盘40相连通的通槽49,所述清洁盘45嵌设于安装槽42内时,海绵层46呈收缩状态,所述清洁盘45朝向滤芯腔10出口12方向运动时,所述海绵层46与滤网3相抵触。

所述清洁盘45上设有两个滑块47,所述滤网3上设有与滑块47相适配的滑槽30,所述滑块47与滑槽30相配合时,所述清洁盘45可朝向滤芯腔10出口12处运动。

所述海绵层46上设有若干凸点48,所述凸点48与海绵层46一体设置,且可穿设于滤网3的滤孔内。

滤芯在运输的过程中,杂质会进入到滤芯腔10内,对过滤的质量造成影响,里用清洁件43上的清洁盘45和伸缩杆的配合,将清洁盘45由滤芯腔10进口11方向朝向出口12方向运动,收缩于缓冲盘40安装槽42内的海绵层46便会舒张,与滤网3相抵触,随着清洁盘45的运动,将滤芯腔10内的杂质从出口12处推离,达到清洁的效果。

清洁盘45在运动的过程中,利用滑块47与滤网3上滑槽30的配合,来回运动,可以使得清洁盘45的运动更加稳定。

当滤芯本体1过滤,滤网3发生堵塞时,利用清洁盘45的运动,能将滤网3上滞留的杂质清理。清洁盘45上的海绵层46上设有凸点48,清洁盘45在朝向滤芯腔10出口12运动的过程中,能使凸点48穿设过滤网3上的滤孔,将堵塞物推离滤孔,进一步提升了清洁效果,使得滤网3能继续工作,保证滤芯的工作效率,同时提升滤清器的清洁功能。

以上所述仅是本实用新型的优选实施方式,本实用新型的保护范围并不仅局限于上述实施例,凡属于本实用新型思路下的技术方案均属于本实用新型的保护范围。应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型原理前提下的若干改进和润饰,这些改进和润饰也应视为本实用新型的保护范围。

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