本实用新型涉及锂离子电池隔膜生产技术领域，特别是涉及一种涂布微凹辊。
背景技术：
微凹辊精密涂布是目前常见的三种精密涂布方式之一，它是一种反方向、接触式涂布方式，即微凹型涂布辊的旋转方向与基材的走纸方向相反，涂料通过微凹辊接触到基材，被广泛应用在锂电池材料、遮光膜、各种光学膜、复合胶带、菲林胶片等。
微凹版涂布系统一般包括涂布微凹辊、浆料槽、刮刀，所述涂布微凹辊位于浆料槽的上方且部分下沉于浆料槽内，刮刀位于浆料槽的一侧。微凹辊涂布方式的开发是基于市场对于薄层涂布均匀需求的提高，这种新的涂布方式机构简单，工艺重复性好并且可靠。跟传统的网纹辊类似，微凹辊的辊面也雕刻有孔穴，孔穴的大小用于控制可以从胶盘转移的胶量，通过刮刀把多余的料刮除，剩余在孔穴里的料以一定的比例转移到基材上。
但是，现有微凹辊涂布中，由于基膜厚度不一，难以涂布获得极薄且均匀的涂布层。
技术实现要素：
鉴于以上所述现有技术的缺点，本实用新型的目的在于提供一种涂布微凹辊，用于解决现有技术中由于膜存在厚度不一，微凹辊涂布无法涂布获得极薄且均匀的涂布层的问题。
为实现上述目的及其他相关目的，本实用新型提供一种涂布微凹辊，所述微凹辊至少包括：主轴、钢制套管以及硬质陶瓷层；
所述钢制套管套设在所述主轴表面；所述硬质陶瓷层涂覆在所述钢制套管表面；
所述硬质陶瓷层表面具有雕刻部和光亮部；所述雕刻部和光亮部均沿所述硬质陶瓷层的径向分布，且所述雕刻部和光亮部在轴向上间隔排列；所述雕刻部内雕刻有孔穴。
作为本实用新型涂布微凹辊的一种优化的结构，所述微凹辊还包括设在所述主轴两端的轴承轴、以及设在所述轴承轴上的动力轴。
作为本实用新型涂布微凹辊的一种优化的结构，所述微凹辊架设在一支架上，所述支架上还设置有刮刀，所述刮刀与所述微凹辊表面接触。
作为本实用新型涂布微凹辊的一种优化的结构，所述刮刀与所述微凹辊表面的接触角范围为45°～50°。
作为本实用新型涂布微凹辊的一种优化的结构，所述孔穴的深度范围为150～155μm。
作为本实用新型涂布微凹辊的一种优化的结构，所述孔穴的形状为菱形或半圆形。
作为本实用新型涂布微凹辊的一种优化的结构，所述雕刻部的宽度为30～50μm，所述光亮部的宽度为50～80μm。
作为本实用新型涂布微凹辊的一种优化的结构，将一个所述雕刻部和一个所述光亮部定义为一个线，所述硬质陶瓷层表面具有88～90线。
作为本实用新型涂布微凹辊的一种优化的结构，单个所述孔穴中浆料的涂布量为6～8μm。
作为本实用新型涂布微凹辊的一种优化的结构，所述微凹辊的下方设有盛放浆料的容器，所述微凹辊部分浸在所述容器中的浆料中，以获取浆料。
如上所述，本实用新型的涂布微凹辊，所述微凹辊至少包括：主轴、钢制套管以及硬质陶瓷层；所述钢制套管套设在所述主轴表面；所述硬质陶瓷层表面具有雕刻部和光亮部；所述雕刻部和光亮部均沿所述硬质陶瓷层的径向分布，且所述雕刻部和光亮部在轴向上间隔排列；所述雕刻部内雕刻有孔穴。所述孔穴的深度范围为150～155μm，形状为菱形或半圆形；所述雕刻部的宽度为30～50μm，所述光亮部的宽度为50～80μm；所述孔穴中浆料的涂布量为6～8μm。利用本实用新型的微凹辊，通过所述微凹辊的反转式转动，再经过刮刀的协同作用，并调节一下喷涂过程中的速度比，能够在基膜表面上形成一层极薄且均匀的涂布层。
附图说明
图1显示为本实用新型支架、刮刀以及微凹辊的结构示意图。
图2显示为本实用新型涂布微凹辊的结构示意图。
图3显示为本实用新型硬质陶瓷层表面雕刻部和光亮部示意图。
元件标号说明
1 微凹辊
11 主轴
12 钢制套管
13 硬质陶瓷层
131 雕刻部
132 光亮部
14 轴承轴
15 动力轴
2 支架
3 刮刀
具体实施方式
以下由特定的具体实施例说明本实用新型的实施方式，熟悉此技术的人士可由本说明书所揭露的内容轻易地了解本实用新型的其他优点及功效。
请参阅图1至图3。须知，本说明书所附图式所绘示的结构、比例、大小等，均仅用以配合说明书所揭示的内容，以供熟悉此技术的人士了解与阅读，并非用以限定本实用新型可实施的限定条件，故不具技术上的实质意义，任何结构的修饰、比例关系的改变或大小的调整，在不影响本实用新型所能产生的功效及所能达成的目的下，均应仍落在本实用新型所揭示的技术内容得能涵盖的范围内。同时，本说明书中所引用的如“上”、“下”、“左”、“右”、“中间”及“一”等的用语，亦仅为便于叙述的明了，而非用以限定本实用新型可实施的范围，其相对关系的改变或调整，在无实质变更技术内容下，当亦视为本实用新型可实施的范畴。
如图2～图3所示，本实用新型提供一种涂布微凹辊1，所述微凹辊1至少包括：所述微凹辊至少包括：主轴11、钢制套管12以及硬质陶瓷层13。
如图2所示，所述钢制套管12套设在所述主轴11表面，所述硬质陶瓷层13涂覆在所述钢制套管12的表面。需要说明的是，图2中未展示外表面的所述硬质陶瓷层13。
如图3所示，所述硬质陶瓷层13表面具有雕刻部131和光亮部132；所述雕刻部131和光亮部132均沿着所述硬质陶瓷层13的径向分布，且所述雕刻部131和光亮部132在轴向上间隔排列；所述雕刻部131内雕刻有孔穴。
需要说明的是，所述光亮部132为未进行雕刻操作的所述硬质陶瓷层13的表面。
作为示例，如图2所示，所述微凹辊还包括设在所述主轴11两端的轴承轴14、以及设在所述轴承轴14上的动力轴15。通过所述动力轴15可以连接其他动力部件，以驱动所述主轴11旋转，所述轴承轴14用于连接所述主轴11和动力轴15。
作为示例，如图1所示，所述微凹辊1架设在一支架2上，所述支架2上还设置有刮刀3，所述刮刀3可以与所述微凹辊1表面接触。通过所述刮刀3，可以刮除所述微凹辊1表面多余的浆料，剩余的浆料将转移至基膜(未予以图示)上。
作为示例，为了达到更好的刮除浆料的效果，采用的刮刀3的刀口呈斜面，以使所述刮刀3与所述微凹辊1表面的接触角范围优选在45°～50°。最优的，所述刮刀3与所述微凹辊1表面的接触角范围为46°。
作为示例，所述孔穴的深度范围为150～155μm。优选地，所述孔穴的深度范围为152μm。
作为示例，所述孔穴的形状为菱形或半圆形，优选为半圆形。当然，在其他实施例中，也可以是其他适合的形状，在此不做限制。
作为示例，将一个所述雕刻部131和相邻的一个所述光亮部132的组合定义为一个线，所述硬质陶瓷层13表面具有88～90线。优选地，所述硬质陶瓷层13表面具有90线。
进一步地，其中，所述雕刻部131的宽度为30～50μm，所述光亮部132的宽度为50～80μm。此处的宽度均指沿着所述主轴11轴线方向的宽度。更优地，所述雕刻部131的宽度为36μm，所述光亮部132的宽度为57μm时，涂布效果最佳。
更进一步地，单个所述孔穴中浆料的涂布量为6～8μm。优选地，单个所述孔穴中浆料的涂布量为7μm。
作为示例，在所述微凹辊1的下方设有盛放浆料的容器(未予以图示)，所述微凹辊1部分浸在所述容器中的浆料中，以获取所述浆料。具体地，采用接触式反转涂布方式，微凹辊1与基膜运行的方向相反，微凹辊1在旋转过程中，获取下方的浆料，同时用刮刀3来调整涂布量，并调节涂布过程中微凹辊1与基膜之间的速度比，使微凹辊1和基膜之间形成一层极薄且均匀的涂布层。形成所述涂布层的厚度大概在0.5-2μm范围内。
综上所述，本实用新型的涂布微凹辊，至少包括：主轴、钢制套管以及硬质陶瓷层；所述钢制套管套设在所述主轴表面；所述硬质陶瓷层涂覆在所述钢制套管表面；所述硬质陶瓷层表面具有雕刻部和光亮部；所述雕刻部和光亮部沿着与所述主轴的轴线垂直的方向间隔排列；所述雕刻部内雕刻有孔穴。所述孔穴的深度范围为150～155μm，形状为菱形或半圆形；所述雕刻部的宽度为30～50μm，所述光亮部的宽度为50～80μm；所述孔穴中浆料的涂布量为6～8μm。利用本实用新型的微凹辊，通过所述微凹辊的反转式转动，再经过刮刀的协同作用，并调节喷涂过程中微凹辊与基膜的速度比，能够在基膜表面上形成一层极薄且均匀的涂布层。
所以，本实用新型有效克服了现有技术中的种种缺点而具高度产业利用价值。
上述实施例仅例示性说明本实用新型的原理及其功效，而非用于限制本实用新型。任何熟悉此技术的人士皆可在不违背本实用新型的精神及范畴下，对上述实施例进行修饰或改变。因此，举凡所属技术领域中具有通常知识者在未脱离本实用新型所揭示的精神与技术思想下所完成的一切等效修饰或改变，仍应由本实用新型的权利要求所涵盖。