技术总结
本实用新型公开了一种等离子体清洗陶瓷膜装置，包括清洗壳体、等离子体发生器、清洗底座、清洗柜门和行走轮，所述清洗壳体内部设置有清洗室，所述清洗室两侧壁安装有等离子体发生器，所述等离子体发生器之间形成有等离子电场，所述清洗室底部安装有清洗底座，所述清洗底座下侧安装有转轴，所述转轴下侧传动连接有电动机，且电动机安装在清洗壳体下侧，所述清洗壳体下侧安装有支撑脚，所述清洗壳体顶部安装有抽真空泵，所述抽真空泵通过输气管与清洗室连通，实用新型一种等离子体清洗陶瓷膜装置，通过将待清洗陶瓷膜的放置在清洗底座上，通过固定架进行压紧，通过等离子体发生器对陶瓷膜进行等离子体清洗。
技术研发人员：谢宏林
受保护的技术使用者：谢宏林
技术研发日：2017.12.19
技术公布日：2019.02.01