1.一种用于旋转反应器的支撑机构，其特征在于：所述的支撑机构包括能够固定在结构底座上的安装底板（1），安装底板（1）的上方设有用于支撑旋转反应器机身的支座（2），在安装底板（1）的顶部焊接有带顶凹槽（31）的下滑道副（3）且支座（2）的底部焊接有带底凹槽（41）的上滑道副（4），顶凹槽（31）和底凹槽（41）相对设置且两者构成一个能够容纳滑块（5）的腔体，所述的下滑道副（3）、滑块（5）和上滑道副（4）构成一个完整的滑道副。
2.根据权利要求1所述的用于旋转反应器的支撑机构，其特征在于：所述下滑道副（3）的下平面和上滑道副（4）的上平面之间留有间隙（6）。
3.根据权利要求2所述的用于旋转反应器的支撑机构，其特征在于：所述间隙（6）的高度与滑块（5）的高度之比为10～15:100。
4.根据权利要求1所述的用于旋转反应器的支撑机构，其特征在于：所述滑块（5）的长度小于顶凹槽（31）和底凹槽（41）的长度。
5.根据权利要求1或4所述的用于旋转反应器的支撑机构，其特征在于：所述滑块（5）的长度和顶凹槽（31）和底凹槽（41）的长度之比皆为90～95:100。