技术总结
本实用新型公开了一种用于旋转反应器的支撑机构，所述的支撑机构包括能够固定在结构底座上的安装底板（1），安装底板（1）的上方设有用于支撑旋转反应器机身的支座（2），在安装底板（1）的顶部焊接有带顶凹槽（31）的下滑道副（3）且支座（2）的底部焊接有带底凹槽（41）的上滑道副（4），顶凹槽（31）和底凹槽（41）相对设置且两者构成一个能够容纳滑块（5）的腔体，所述的下滑道副（3）、滑块（5）和上滑道副（4）构成一个完整的滑道副。本实用新型通过在支撑机构中设置滑道副，给旋转反应器转动时留出了轴向窜动量，并限定了轴向窜动量和磨损量，该支撑结构能有效解决现有旋转反应器的轴向窜动，故适宜推广使用。
技术研发人员：李伟;詹蓉;史玉芬;宋梦歧
受保护的技术使用者：江苏远方迪威尔设备科技有限公司
技术研发日：2018.05.02
技术公布日：2019.02.15