一种用于旋转反应器的支撑机构的制作方法

本实用新型涉及旋转反应器技术领域，具体地说是一种能够解决旋转反应器转动时轴向窜动的用于旋转反应器的支撑机构。

背景技术：

旋转反应器在工作时，由于里面输送介质的影响，可能会产生轴向窜动，而现有的支撑反应器由于固定设置，导致旋转部分在旋转时，会对支撑件造成拉扯，对旋转反应器的正常工作造成一定的影响，并降低旋转反应器的使用寿命。

技术实现要素：

本实用新型的目的是针对现有技术存在的问题，提供一种能够解决旋转反应器转动时轴向窜动的用于旋转反应器的支撑机构。

本实用新型的目的是通过以下技术方案解决的：

一种用于旋转反应器的支撑机构，其特征在于：所述的支撑机构包括能够固定在结构底座上的安装底板，安装底板的上方设有用于支撑旋转反应器机身的支座，在安装底板的顶部焊接有带顶凹槽的下滑道副且支座的底部焊接有带底凹槽的上滑道副，顶凹槽和底凹槽相对设置且两者构成一个能够容纳滑块的腔体，所述的下滑道副、滑块和上滑道副构成一个完整的滑道副。

所述下滑道副的下平面和上滑道副的上平面之间留有间隙。

所述间隙的高度与滑块的高度之比为10～15:100。

所述滑块的长度小于顶凹槽和底凹槽的长度。

所述滑块的长度和顶凹槽和底凹槽的长度之比皆为90～95:100。

本实用新型相比现有技术有如下优点：

本实用新型通过在支撑机构中设置滑道副，给旋转反应器转动时留出了轴向窜动量，并通过对滑道副进行具体的限定，限定了轴向窜动量和磨损量，该支撑结构简单实用，能有效解决现有旋转反应器的轴向窜动，故适宜推广使用。

附图说明

附图1是本实用新型的用于旋转反应器的支撑机构的结构示意图。

其中：1—安装底板；2—支座；3—下滑道副；31—顶凹槽；4—上滑道副；41—底凹槽；5—滑块；6—间隙。

具体实施方式

下面结合附图与实施例对本实用新型作进一步的说明。

如图1所示：一种用于旋转反应器的支撑机构，该支撑机构包括能够固定在结构底座上的安装底板1，安装底板1的上方设有用于支撑旋转反应器机身的支座2，在安装底板1的顶部焊接有带顶凹槽31的下滑道副3且支座2的底部焊接有带底凹槽41的上滑道副4，顶凹槽31和底凹槽41相对设置且两者构成一个能够容纳滑块5的腔体，上述的下滑道副3、滑块5和上滑道副4构成一个完整的滑道副。具体来说，在下滑道副3的下平面和上滑道副4的上平面之间留有间隙6，以给滑块5提供磨损高度方向上磨损空间，且间隙6的高度与滑块5的高度之比为10～15:100；滑块5的长度小于顶凹槽31和底凹槽41的长度，具体来说，滑块5的长度和顶凹槽31和底凹槽41的长度之比皆为90～95:100，即给旋转反应器留有顶凹槽31和底凹槽41的长度5%-10%的轴向窜动空间。

本实用新型通过在支撑机构中设置滑道副，给旋转反应器转动时留出了轴向窜动量，并通过对滑道副进行具体的限定，限定了轴向窜动量和磨损量，该支撑结构简单实用，能有效解决现有旋转反应器的轴向窜动，故适宜推广使用。

以上实施例仅为说明本实用新型的技术思想，不能以此限定本实用新型的保护范围，凡是按照本实用新型提出的技术思想，在技术方案基础上所做的任何改动，均落入本实用新型保护范围之内；本实用新型未涉及的技术均可通过现有技术加以实现。