本实用新型涉及抛光液生产装置的技术领域，特别涉及一种氧化锆抛光液配置装置。
背景技术：
为精密加工的化学机械抛光技术(cmp)，抛光液的性能对cmp效果有非常重要的影响，尤其是抛光磨料粒径的均匀度和磨料的分散程度直接控制着抛光面的去除率和光洁度，粒径均匀的抛光磨料可以获得更好的抛光速率和准确精细的光洁面，因此对抛光磨料比如氧化锆、碳化硅、金刚石等进行配置装置的研究非常重要。
现有的氧化锆抛光液配置装置，只起到混合的作用，不能很好的对氧化锆抛光液中的氧化锆颗粒进行分散，氧化锆颗粒容易发生团聚现象。且放置一段时间后，氧化锆抛光液容易发生沉降，使其性能降低。
技术实现要素：
本实用新型的目的在于提供一种氧化锆抛光液配置装置，解决上述现有技术问题中的一个或者多个。
本实用新型提供一种氧化锆抛光液配置装置，包括：
搅拌桶；
加料桶，设于所述搅拌桶的上方且与所述搅拌桶通过第一管路连通；
排料桶，设于所述搅拌桶的下方且与所述搅拌通过第二管路连通；
第三管路，连接所述排料桶的底部和所述搅拌桶的顶部；
第一泵，设于所述第三管路上；
第一阀门，设于所述第三管路上；
第四管路，连接所述第三管路和所述搅拌桶的顶部；
第二阀门，设于所述第四管路上。
在一些实施方式中，搅拌桶内设有搅拌装置，所述搅拌装置包括电机和旋转轴，所述旋转轴设于所述电机的输出端，所述旋转轴上设有搅拌机构。
在一些实施方式中，搅拌机构包括第一固定杆和第二固定杆，所述第一固定杆和第二固定杆均垂直设置于所述旋转轴；所述第一固定杆和第二固定杆之间设置有多根第三固定杆，所述第三固定杆上设有多个叶片，所述叶片与所述第三固定杆垂直设置，所述第三固定杆端部设有刀片。
在一些实施方式中，电机为减速电机。
在一些实施方式中，第一阀门为电磁阀，所述第二阀门为电磁阀。
在一些实施方式中，搅拌桶的侧壁开设有观察门或窗。
有益效果：
本实用新型提供的实施方案中的氧化锆抛光液配置装置能对氧化锆抛光液中的氧化锆颗粒进行有效的搅拌分散，避免出现团聚现象，获得分散度均匀和悬浮稳定性优良的氧化锆抛光液，从而提高抛光表面质量。且，该配置装置能将底部的氧化锆抛光液循环至抛光液的顶部，从而解决其容易发生沉降的问题。
附图说明
图1为本实用新型一实施方式中的一种氧化锆抛光液配置装置的结构示意图；
图2为本实用新型一实施方式中的一种氧化锆抛光液配置装置搅拌装置的结构示意图。
具体实施方式
为了使本技术领域的人员更好地理解本申请方案，下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分的实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都应当属于本申请保护的范围。
如图1所示，
一种氧化锆抛光液配置装置，包括：
搅拌桶100；
加料桶200，设于所述搅拌桶100的上方且与所述搅拌桶100通过第一管路连通；
排料桶300，设于所述搅拌桶100的下方且与所述搅拌通100过第二管路连通；
第三管路400，连接所述排料桶300的底部和所述搅拌桶100的顶部；
第一泵410，设于所述第三管路400上；
第一阀门420，设于所述第三管路400上；
第四管路500，连接所述第三管路400和所述搅拌桶100的顶部；
第二阀门510，设于所述第四管路500上。
工作原理：加料桶200用于加入氧化锆抛光液的原料，搅拌桶100用于对氧化锆抛光液的搅拌分散，排料桶300用于排出氧化锆抛光液，以便进行包装。当氧化锆抛光液长时间静置时，氧化锆抛光液中的氧化锆颗粒容易发生沉降，此时打开第一泵410和第一阀门420，将底部的氧化锆抛光液循环至抛光液的顶部；也可以同时打开第二阀门420，以增强循环的均匀性。
进一步的，搅拌桶200内设有搅拌装置600，所述搅拌装置600包括电机610和旋转轴620，所述旋转轴620设于所述电机610的输出端，所述旋转轴620上设有搅拌机构。
如图2所示，搅拌机构包括第一固定杆630和第二固定杆640，所述第一固定杆630和第二固定杆640均垂直设置于所述旋转轴620；所述第一固定杆630和第二固定杆640之间设置有多根第三固定杆650，所述第三固定杆650上设有多个叶片660，所述叶片660与所述第三固定杆650垂直设置，所述第三固定杆650端部设有刀片670。
如此设计，能有效的搅拌分散，避免出现团聚现象，获得分散度均匀和悬浮稳定性优良的氧化锆抛光液，且，位于底部的刀片可以对沉降于底部的氧化锆颗粒进行粉碎，从而进一步的搅拌分散，避免氧化锆颗粒间的团聚现象。
进一步的，电机610为减速电机。
为了实现自动化控制，第一阀门420为电磁阀，所述第二阀门510为电磁阀。
为了方便观察氧化锆抛光液的状态，搅拌桶100的侧壁开设有观察门或窗700。
本实用新型提供的实施方案中的氧化锆抛光液配置装置能对氧化锆抛光液中的氧化锆颗粒进行有效的搅拌分散，避免出现团聚现象，获得分散度均匀和悬浮稳定性优良的氧化锆抛光液，从而提高抛光表面质量。且，该配置装置能将底部的氧化锆抛光液循环至抛光液的顶部，从而解决其容易发生沉降的问题。
以上表述仅为本实用新型的优选方式，应当指出，对本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型创造构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些也应视为本实用新型的保护范围之内。