一种釉料搅拌装置的制作方法

本实用新型涉及上釉技术领域，尤其涉及一种釉料搅拌装置。

背景技术：

陶瓷杯在生产过程中需要在其内壁和外壁上釉，而陶瓷杯外壁的上釉通常是将陶瓷杯放置在釉料箱中完成上釉，储存在釉料箱的釉料很容易沉淀在箱底，因此，当釉料沉淀在箱底时，直接对杯体进行上釉的话，会影响杯体上釉的效果。

因此，需要开发一种釉料搅拌装置，解决以上指出的问题。

技术实现要素：

本实用新型的目的在于提出一种釉料搅拌装置，能够把沉淀于釉料箱底部的釉料搅拌至悬浮于釉料箱，使釉料处于运动状态，解决了釉料沉淀的问题，提高后续对坯体的上釉质量。

为达此目的，本实用新型采用以下技术方案：

一种釉料搅拌装置，包括釉料箱、滤网架、滤网和升降装置；

所述滤网架设置于所述釉料箱内，所述升降装置连接于所述滤网架，所述升降装置用于驱动所述滤网架于所述釉料箱内升降；

所述滤网位于所述釉料箱内，所述滤网设置于所述滤网架。

进一步，所述升降装置包括气缸、气缸支架和升降臂；

所述气缸支架位于所述釉料箱的外侧；

所述气缸固定于所述气缸支架的外侧；

所述气缸的驱动端与所述升降臂连接。

进一步，所述滤网架包括滤网架本体和连杆；

所述滤网架本体水平设置于所述釉料箱内；

所述连杆的一端竖直连接于所述滤网架本体的侧壁；

还包括吊板；

所述升降臂的一端连接于所述吊板的一侧，所述连杆的另一端连接于所述吊板的另一侧。

进一步，所述滤网的两侧设有挂耳。

进一步，所述釉料箱的底部设有供釉口。

进一步，所述釉料箱的外部设有溢流框，所述溢流框设有溢流孔。

进一步，还包括釉料箱高度调节装置，所述釉料箱高度调节装置用于调节所述釉料箱的竖直高度。

进一步，还包括釉料箱底架；

所述釉料箱高度调节装置包括电缸、导向轴、调节座、导向轴支座和直线轴承；

所述所述调节座设置于所述釉料箱的底部；

所述电缸设置于所述釉料箱底架，所述电缸的驱动端与所述调节座连接；

所述导向轴的一端安装于位于所述调节座底部的所述导向轴支座，所述导向轴的轴身穿过位于所述釉料箱底架的所述直线轴承。

本实用新型根据上述内容提出一种釉料搅拌装置，能够把沉淀于釉料箱底部的釉料搅拌至悬浮于釉料箱，使釉料处于运动状态，解决了釉料沉淀的问题，提高后续对坯体的上釉质量。

附图说明

图1是本实用新型其中一个实施例的结构示意图；

图2是本实用新型其中一个实施例的结构示意图（滤网3无示出）；

图3是本实用新型其中一个实施例的结构示意图。

其中：釉料箱1、供釉口11、溢流框12、溢流孔121、滤网架2、滤网架本体21、连杆22、滤网3、挂耳31、升降装置4、气缸41、气缸支架42、升降臂43、吊板44、底架5、釉料箱高度调节装置6、电缸61、导向轴62、调节座63、导向轴支座64、直线轴承65。

具体实施方式

下面结合附图并通过具体实施方式来进一步说明本实用新型的技术方案。

如图1-3所示，一种釉料搅拌装置，包括釉料箱1、滤网架2、滤网3和升降装置4；

所述滤网架2设置于所述釉料箱1内，所述升降装置4连接于所述滤网架2，所述升降装置4用于驱动所述滤网架2于所述釉料箱1内升降；

所述滤网3位于所述釉料箱1内，所述滤网3设置于所述滤网架2。

所述升降装置4通过驱动所述滤网架2于所述釉料箱1内升降，从而带动水平设置于所述滤网架2的滤网3在所述釉料箱1内升降，由于所述滤网3是沉底设置，所述滤网3在升降的过程中，会把沉淀于釉料箱1的底部的釉料搅开，将釉料带动至悬浮于釉料箱1，使釉料处于运动状态，避免釉料产生沉淀的问题，提高后续对坯体的上釉质量。

进一步，所述升降装置4包括气缸41、气缸支架42和升降臂43；

所述气缸支架42位于所述釉料箱1的外侧；

所述气缸41固定于所述气缸支架42的外侧；

所述气缸41的驱动端与所述升降臂43连接。

所述气缸支架42为所述气缸41提供一个安装的位置，所述气缸41的驱动端驱动所述升降臂43升降时，所述升降臂43能够通过所述吊板44带动所述连杆22升降，从而所述连杆22带动所述滤网架本体21升降，最终所述滤网架本体21带动所述滤网3在所述釉料箱1内升降，把沉淀于釉料箱1的底部的釉料带动至悬浮于釉料箱1。

进一步，所述滤网架2包括滤网架本体21和连杆22；

所述滤网架本体21水平设置于所述釉料箱1内；

所述连杆22的一端竖直连接于所述滤网架本体21的侧壁；

还包括吊板44；

所述升降臂43的一端连接于所述吊板44的一侧，所述连杆22的另一端连接于所述吊板44的另一侧。

进一步，所述滤网3的两侧设有挂耳31。

所述滤网3通过所述挂耳31能够挂在所述釉料箱1的两侧，同时也方便人工操作时通过所述挂耳31把所述滤网3提起。

进一步，所述釉料箱1的底部设有供釉口11。

通过所述供釉口11便能够对所述釉料箱1的内部进行供釉操作。

进一步，所述釉料箱1的外部设有溢流框12，所述溢流框12设有溢流孔121。

例如，在对坯体进行上釉过程中，若有釉料溢出，便能通过所述溢流框12接收溢出的釉料，溢出的釉料通过所述溢流孔121流至收集处，便于溢出釉料的二次利用。

进一步，还包括釉料箱高度调节装置6，所述釉料箱高度调节装置6用于调节所述釉料箱1的竖直高度。

通过所述高度调节装置6，能够调节所述釉料箱1的竖直高度，使所述釉料箱1处于合适的工作高度，从而调节坯体的浸釉深度。

进一步，还包括釉料箱底架5；

所述釉料箱高度调节装置6包括电缸61、导向轴62、调节座63、导向轴支座64和直线轴承65；

所述所述调节座63设置于所述釉料箱1的底部；

所述电缸61设置于所述釉料箱底架5，所述电缸61的驱动端与所述调节座63连接；

所述导向轴62的一端安装于位于所述调节座63底部的所述导向轴支座64，所述导向轴62的轴身穿过位于所述釉料箱底架5的所述直线轴承65。

在本实施例中，导向轴62、导向轴支座64和直线轴承65的数量分别为四，每个导向轴62、导向轴支座64和直线轴承65一一对应，所述釉料箱高度调节装置6调节所述釉料箱1的竖直高度时，具体是所述电缸61的驱动端驱动所述釉料箱底架5的升降，从而带动所述釉料箱1的升降，在釉料箱1升降的过程中，通过所述导向轴62与直线轴承65配合釉料箱1的升降导向。

以上结合具体实施例描述了本实用新型的技术原理。这些描述只是为了解释本实用新型的原理，而不能以任何方式解释为对本实用新型保护范围的限制。基于此处的解释，本领域的技术人员不需要付出创造性的劳动即可联想到本实用新型的其它具体实施方式，这些方式都将落入本实用新型的保护范围之内。