剂，其余为水组成；
22.(2)垢型转型清洗后的硅粉过滤芯在除垢清洗溶液中浸泡进行除垢清洗，浸泡温度为60-65℃、浸泡时间为1-1.5小时；除垢清洗液重量百分组成为：2-5％的除垢剂、1-2％的渗透剂，其余为水组成；
23.(3)除垢清洗后硅粉过滤芯在超声波清洗槽中清洗，常温、声波频率为33khz、清洗时间为2-2.5小时；超声波清洗液重量百分组成为：1～3％的松动剂，其余为水组成。
24.本发明的复合配方及特殊工艺包括三组：第一组为进行垢型转型清洗液复合配方，第二组为除垢清洗液配方，第三组为超声波清洗液配方。要求三组配方工艺只能单独使用，第一组复合配方使用完成后再进行第二组配方使用，然后进行第三组配方使用。
25.第一组为垢型转型清洗液复合配方
26.一种能实施硅粉过滤芯垢型转型清洗液复合配方，重量百分组成为：4-8％的氧化剂、 8-10％的助剂，其余为水组成。
27.本发明的优选为：6-7％的氧化剂、8-9％的助剂，其余为水组成。
28.本发明配方所述的氧化剂为氯酸钾，助剂为碳酸氢钠。
29.本发明垢型转型清洗液的制备方法，准备足量的单种药剂，现场配置。准备好清洁水在过滤芯清洗槽内，计算需要配置的药剂重量，分别加药剂(指固态)于过滤芯清洗槽内，搅匀。
30.第二组为除垢清洗液配方
31.一种能实施硅粉过滤芯除垢清洗液配方，重量百分组成为：2-5％的除垢剂，1-2％的助剂，其余为水组成。
32.本发明的优选为：4-5％的除垢剂，1-2％的助剂，其余为水组成。
33.本发明配方所述的除垢剂为柠檬酸，助剂为tx-10(tx-10的主要成分是：烷基酚聚氧乙烯醚，含量99％以上)。
34.本发明除垢清洗液的制备方法，准备足量的柠檬酸，现场配置。测量好过滤芯清洗槽的水容积量，计算需要柠檬酸、tx-10重量。往过滤芯清洗槽内加入清洁水，然后加入柠檬酸、tx-10，搅匀。
35.第三组为超声波清洗液配方
36.一种能对硅粉过滤芯进行超声波清洗液的配方，重量百分组成为：1-3％的松动剂，其余为水组成。
37.本发明的优选为：1-2％的松动剂，其余为水组成。
38.本发明配方所述的松动剂为yx-219(yx-219生产厂家：岳阳市民洁化工有限公司)。
39.本发明超声波清洗液的制备方法，准备足量的单种药剂，现场配置。准备好清洁水在超声波清洗槽内，计算需要配置的药剂重量，加入yx-219超声波槽内，搅匀。
40.2、清洗再生工艺
41.本发明需要专业的过滤芯清洗场地，过滤芯清洗设备，过滤芯检测设备。
42.本发明清洗再生工艺过程为：
43.(1)水冲洗：将过滤芯内外表浮渣冲洗干净。
44.(2)垢型转型清洗：将过滤芯网孔内不能灰化的部分，转型成可以清除的物质。
45.(3)水冲洗：将过滤芯内外表药剂冲洗干净。
46.(4)除垢清洗：清除过滤芯内外表及网孔内污垢。
47.(5)水冲洗：将过滤芯内外表药剂冲洗干净。
48.(6)超声波清洗：进一步清除过滤芯网孔内的垢渣。
49.(7)烘干：在过滤芯烘干房内将附在过滤芯网孔内的水份去掉。
50.本发明在清洗再生过程中，按表1工艺过程进行。
51.表1硅粉过滤芯清洗再生工艺过程
[0052][0053][0054]
发明的有益效果
[0055]
本发明所述的三组清洗液复合配方与清洗工艺，用于多晶硅生产企业的硅粉过滤芯清洗再生，硅粉过滤芯的除垢率达到95％以上，满足硅粉过滤芯使用要求，腐蚀速率和腐蚀总量低于国家标准。
具体实施方式
[0056]
下面结合实施例对本发明作进一步说明，但是本发明的范围并不限制在实施例范围内，本领域的技术人员可进行改进，其都在本发明范围内。
[0057]
实施例1
[0058]
1、垢型转型液复合配方：在过滤芯清洗槽内加1000
㎏
清洁水，分别向过滤芯清洗槽加入氯酸钾药剂60
㎏
、碳酸氢钠药剂80
㎏
，搅匀，即制得所要求的垢型转型复合配方清洗液，溶液为无色液体。
[0059]
2、除垢清洗液配方：测量计算过滤芯清洗槽1000
㎏
溶液的刻度，在过滤芯清洗槽中加适量清洁水，加入柠檬酸40
㎏
、tx-10助剂10
㎏
，加水至所需刻度，搅匀，即制得所要求的除垢配方清洗液，溶液为淡黄色液体。
[0060]
3、超声波清洗液配方：测量计算清洗槽1000
㎏
溶液的刻度，在清洗槽中加适量清洁水，加入10
㎏
yx-219，加水至所需刻度，搅匀，即制得所要求的除垢配方清洗液，溶液为无色液体。
[0061]
实施例2
[0062]
1、垢型转型复合配方：在过滤芯清洗槽内加1000
㎏
清洁水，分别向过滤芯清洗槽加入氯酸钾药剂70
㎏
、碳酸氢钠药剂80
㎏
，搅匀，即制得所要求的垢型转型复合配方清洗液，溶液为无色液体。
[0063]
2、除垢清洗配方：测量计算过滤芯清洗槽1000
㎏
溶液的刻度，在过滤芯清洗槽中加适量清洁水，加入柠檬酸50
㎏
、tx-10助剂20
㎏
，加水至所需刻度，搅匀，即制得所要求的除垢配方清洗液，溶液为淡黄色液体。
[0064]
3、超声波清洗配方：测量计算清洗槽1000
㎏
溶液的刻度，在清洗槽中加适量清洁水，加入20
㎏
yx-219，加水至所需刻度，搅匀，即制得所要求的除垢配方清洗液，溶液为无色液体。
[0065]
实施例3
[0066]
将实施例1的工艺及配方对硅粉过滤芯清洗使用，为了验证特殊工艺及清洗复合配方的使用效果，并对硅粉过滤芯清洗再生前后的主要数据进行标定。
[0067]
对技术背景所述的某多晶硅有限公司冷氢化装置硅粉过滤芯进行清洗再生，清洗再生数量28根。
[0068]
1、清洗再生专业设备准备
[0069]
超声波设备、垢型转型清洗加热槽、除垢清洗加热槽、水冲洗设备、过滤芯放置木架。
[0070]
2、专业检测设备仪器准备
[0071]
过滤芯通透性检测设备、过滤芯气相压降检测设备、腐蚀检测仪。
[0072]
注：通透性检测，即单位时间规定压力、流量下的水流大小检测。
[0073]
气相压降，即规定压力、流量下的空气压降大小检测。
[0074]
3、清洗再生药剂准备
[0075]
药剂足量。
[0076]
4、准备1根新的硅粉过滤芯，作为检测数据对比。
[0077]
5、清洗再生
[0078]
(1)硅粉过滤芯按表1清洗再生控制实施，清洗再生后的硅粉过滤芯(随机抽取10 根)与新过滤芯、清洗前过滤芯进行检测对比，数据分析表2：
[0079]
表2硅粉过滤芯检测对比
[0080][0081][0082]
注：通透性检测条件：新鲜水压力为0.5mpa、流量20m3/h。
[0083]
气相压降检测条件：压缩空气压力为0.6mpa、流量为35nm3/h。
[0084]
(2)腐蚀检测。对垢型转型清洗、除垢清洗过程的腐蚀率与腐蚀总量进行在线监测，监测数据如表3：
[0085]
表3硅粉过滤芯清洗腐蚀检测
[0086]
项目过程垢型转型清洗除垢清洗平均腐蚀率(g/h.
㎡
)0.010.02平均腐蚀总量(g/
㎡
)0.060.12
[0087]
注：化学清洗腐蚀率控制国家标准：不锈钢腐蚀率≯2.0g/h.
㎡
[0088]
化学清洗腐蚀总量控制国家标准：不锈钢腐蚀总量≯20.0g/h.
㎡
[0089]
实施例4
[0090]
将实施例2的工艺及配方对硅粉过滤芯清洗使用，为了验证特殊工艺及清洗复合配方的使用效果，并对硅粉过滤芯清洗再生前后的主要数据进行标定。
[0091]
对技术背景所述的某多晶硅有限公司冷氢化装置硅粉过滤芯进行清洗再生，清洗再生数量100根。
[0092]
1、清洗再生专业设备准备
[0093]
超声波设备、垢型转型清洗加热槽、除垢清洗加热槽、水冲洗设备、过滤芯放置木架。
[0094]
2、专业检测设备仪器准备
[0095]
过滤芯通透性检测设备、过滤芯气相压降检测设备、腐蚀检测仪。
[0096]
3、清洗再生药剂准备
[0097]
足量。
[0098]
4、准备1根新的硅粉过滤芯，作为检测数据对比。
[0099]
5、清洗再生实施
[0100]
(1)硅粉过滤芯按表1清洗再生控制实施，清洗再生后的硅粉过滤芯(随机抽取20 根)与新过滤芯、清洗前过滤芯进行检测对比，数据分析表4：
[0101]
表4硅粉过滤芯检测对比
[0102]
序号通透性(l/分钟)气相压降(mbar)备注1286.75.6新过滤芯2069.0清洗前的过滤芯3283.45.5清洗后的过滤芯4285.85.6清洗后的过滤芯5282.25.4清洗后的过滤芯6286.15.6清洗后的过滤芯7283.35.5清洗后的过滤芯8285,75.5清洗后的过滤芯9285.25.6清洗后的过滤芯10283.85.5清洗后的过滤芯11283.35.4清洗后的过滤芯12282.95.4清洗后的过滤芯13284.25.5清洗后的过滤芯14282.45.4清洗后的过滤芯15285.05.6清洗后的过滤芯16283,55.5清洗后的过滤芯17284.75.5清洗后的过滤芯18286.15.6清洗后的过滤芯19281.95.4清洗后的过滤芯20285.55.6清洗后的过滤芯21283,05.5清洗后的过滤芯22283.65.5清洗后的过滤芯
[0103]
(2)腐蚀检测。对垢型转型清洗、除垢清洗过程的腐蚀率与腐蚀总量进行在线监测，监测数据如表5：
[0104]
表5硅粉过滤芯清洗腐蚀检测
[0105]
项目过程垢型转型清洗除垢清洗平均腐蚀率(g/h.
㎡
)0.010.02
平均腐蚀总量(g/
㎡
)0.070.14
[0106]
实施例3、4结果表明，硅粉过滤芯经过垢型转型清洗、除垢清洗及超声波清洗，可以对使用后的硅粉过滤芯实施清洗再生，对比检测达到或接近新过滤芯的效果。