镁还原过滤装置的制作方法

1.本技术涉及冶炼镁技术领域，尤其涉及一种镁还原过滤装置。


背景技术：

2.金属镁是一种轻金属，在地壳中含量丰富，广泛应用于各行各业中。在工业上，金属镁一般采用熔融电解法或硅热还原法进行生产。
3.硅热还原法生产镁一般是在还原罐内进行，还原罐内产生高温的镁蒸汽，镁蒸汽通过冷却装置进行冷却得到结晶态的粗镁。粗镁再经过熔融精炼，得到精镁锭。
4.但是，通过硅热还原法生产的粗镁中含有较多的杂质，导致粗镁中镁的纯度较低。


技术实现要素：

5.本技术提供一种镁还原过滤装置，可以依次除去镁蒸汽中尺寸不同的多种杂质，提高镁蒸汽中镁的纯度，提高最终得到的镁产品的纯度。
6.为解决上述技术问题，本技术采用以下的技术方案：
7.一种镁还原过滤装置，包括底座、多个过滤网和半圆弧形顶盖，所述底座包括第一圆挡板、半圆弧形底板和第二圆挡板，所述第一圆挡板设有蒸汽入口，所述第二圆挡板设有蒸汽出口，所述第一圆挡板和所述第二圆挡板的直径相等，所述第一圆挡板和所述第二圆挡板的圆周壁与所述半圆弧形底板的内壁抵接，所述第一圆挡板和所述第二圆挡板分别与所述半圆弧形底板的两侧壁齐平，所述半圆弧形底板的内壁设有多个安装凹槽，所述安装凹槽沿所述半圆弧形底板的周向延伸，多个所述过滤网与多个所述安装凹槽的数量相等且一一对应设置，多个所述过滤网的网孔尺寸沿所述第一圆挡板指向所述第二圆挡板的方向依次减小，所述半圆弧形顶盖盖设于所述第一圆挡板和所述第二圆挡板上，且所述半圆弧形顶盖的两端的端面与所述半圆弧形底板的两端的端面抵接。
8.相比于现有技术，该镁还原过滤装置的底座和半圆弧形顶盖将多个过滤网罩在中间，起到一定的挡火作用，同时第一圆挡板设置蒸汽入口，第二圆挡板设置蒸汽出口，使得镁蒸汽可以从第一圆挡板进入到过滤网过滤，然后从第二圆挡板出来，多个过滤网的网孔尺寸沿镁蒸汽的移动方向依次减小，可以依次除去镁蒸汽中尺寸不同的多种杂质，提高镁蒸汽中镁的纯度，提高最终得到的镁产品的纯度。
9.在本技术的一实施例中，相邻两个所述过滤网之间通过连杆连接。
10.在本技术的一实施例中，所述半圆弧形顶盖的内壁设有多个半圆弧形卡板，相邻两个半圆弧形卡板形成卡槽，所述卡槽的数量与所述安装凹槽的数量相等，并且一一对应，所述过滤网的上端伸入到所述卡槽内。
11.在本技术的一实施例中，所述半圆弧形顶盖的两端的端面设有插接轴，所述半圆弧形底板的两端的端面设有插接孔，所述插接孔与所述插接轴配合插接。
12.在本技术的一实施例中，相邻两个所述过滤网的间距为20mm至25mm。
13.在本技术的一实施例中，所述过滤网的数量为三个，三个所述过滤网的网孔尺寸
依次为8mm、5mm和2mm。
14.在本技术的一实施例中，所述底座一体成型。
15.在本技术的一实施例中，所述第一圆挡板与所述第二圆挡板的外间距为70mm至100mm。
附图说明
16.为了更清楚地说明本技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作一简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
17.图1为本技术一实施例提供的镁还原过滤装置的立体结构示意图；
18.图2为本技术一实施例提供的镁还原过滤装置的爆炸结构示意图；
19.图3为本技术一实施例提供的镁还原过滤装置的剖视结构示意图；
20.图4为本技术一实施例提供的镁还原过滤装置所使用的半圆弧形顶盖的立体结构示意图。
21.附图标记：
22.100、底座；110、第一圆挡板；111、蒸汽入口；120、半圆弧形底板；121、安装凹槽；122、插接孔；130、第二圆挡板；131、蒸汽出口；200、过滤网；300、半圆弧形顶盖；310、半圆弧形卡板；320、插接轴。
具体实施方式
23.为使本技术实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，也属于本技术保护的范围。
24.在本技术的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。
25.术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本技术的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上。
26.在本技术的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。
27.硅热还原法经历了由隔热板到打红渣(还原渣)的演变，所生产粗镁杂质含量偏高(mgo、cao、sio2、mg3n2、fe、zn、mn、al、ni等)。目前杂质的去除主要通过向镁熔体加入氯盐熔剂(mgcl2、kcl等)，与杂质发生物理或化学反应，形成产物的密度远高于镁溶液的密度，从
而静置沉降除去杂质。但该方法不能去除fe、ni、si、mn等杂质元素，且还会引入f、cl、s等新的杂质元素，直接造成了现有原镁质量不稳定、杂质不可控，也因此严重影响了下游镁产品的稳定性。
28.因此，本技术提出了镁还原过滤装置，根据还原罐(反应容器)本身结构，在还原罐与冷却水套的卡槽内嵌放本技术的镁还原过滤装置。镁还原过滤装置内可加装多片不同孔径的过滤网，确保镁蒸汽必须通过该部分才可冷凝结晶，而不会从缝隙中漏出，保证了去除杂质的过滤效果的可靠性。其中，镁还原过滤装置的具体方案如下所述。
29.图1为本技术一实施例提供的镁还原过滤装置的立体结构示意图。图2为本技术一实施例提供的镁还原过滤装置的爆炸结构示意图。图3为本技术一实施例提供的镁还原过滤装置的剖视结构示意图。图4为本技术一实施例提供的镁还原过滤装置所使用的半圆弧形顶盖的立体结构示意图。
30.本技术的实施例提供一种镁还原过滤装置，如图1和图2所示，包括底座100、多个过滤网200和半圆弧形顶盖300，其中，底座100形成容纳过滤网200的结构，过滤网200用来除去镁蒸汽中的杂质，半圆弧形顶盖300与底座100一起围成包裹过滤网200的结构。
31.如图2和图3所示，底座100包括第一圆挡板110、半圆弧形底板120和第二圆挡板130，第一圆挡板110设有蒸汽入口111，第二圆挡板130设有蒸汽出口131，使得镁蒸汽可以进入底座100，并最终从底座100排出。第一圆挡板110和第二圆挡板130的直径相等，第一圆挡板110和第二圆挡板130的圆周壁与半圆弧形底板120的内壁抵接，第一圆挡板110和第二圆挡板130分别与半圆弧形底板120的两侧壁齐平。
32.半圆弧形底板120的内壁设有多个安装凹槽121，安装凹槽121沿半圆弧形底板120的周向延伸，也就是形成半圆弧形凹槽，用来安装过滤网200。
33.如图3所示，多个过滤网200与多个安装凹槽121的数量相等且一一对应设置在安装凹槽121内，多个过滤网200的网孔尺寸沿第一圆挡板110指向第二圆挡板130的方向(也就是镁蒸汽移动的方向，即图3中的箭头方向)依次减小，也就是说，多个过滤网200的网孔尺寸沿镁蒸汽移动的方向依次减小，能够除去的杂质的尺寸也依次减小。
34.在安装时，应使第一圆挡板110朝向镁蒸汽设置，也就是使镁蒸汽从第一圆挡板110上的蒸汽入口111进入，然后从第二圆挡板130上的蒸汽出口131排出。
35.半圆弧形顶盖300盖设于第一圆挡板110和第二圆挡板130上，且半圆弧形顶盖300的两端的端面与半圆弧形底板120的两端的端面抵接，从而将过滤网200包裹起来，减少高温对过滤网200的影响，即起到一定的挡火作用。
36.当然地，半圆弧形顶盖300与底座100的接触处可以设置密封，从而减少镁蒸汽的泄漏，使镁蒸汽尽可能从过滤网200处通过。
37.另外，底座100和半圆弧形顶盖300的外侧可以根据实际情况设置安装结构，以便于与还原罐(反应容器)进行安装，在此不再详述。
38.相比于现有技术，该镁还原过滤装置的底座100和半圆弧形顶盖300将多个过滤网200罩在中间，起到一定的挡火作用，同时第一圆挡板110设置蒸汽入口111，第二圆挡板130设置蒸汽出口131，使得镁蒸汽可以从第一圆挡板110进入到过滤网200过滤，然后从第二圆挡板130出来，多个过滤网200的网孔尺寸沿镁蒸汽的移动方向依次减小，可以依次除去镁蒸汽中尺寸不同的多种杂质，提高镁蒸汽中镁的纯度，提高最终得到的镁产品的纯度。
39.在一些实施例中，相邻两个过滤网200之间通过连杆(图中未示出)连接，使得这多个过滤网200形成一个整体，提高过滤网200的结构稳定性。过滤网200在使用一段时间后，需要进行清理或更换，而且，这多个过滤网200的更换周期相差不大，这样的结构能够实现整体更换，方便快捷。
40.在一些实施例中，如图4所示，半圆弧形顶盖300的内壁设有多个半圆弧形卡板310，相邻两个半圆弧形卡板310形成卡槽，卡槽的数量与安装凹槽121的数量相等，并且一一对应，过滤网200的上端伸入到卡槽内，使得这多个过滤网200的上端通过卡槽实现限位，降低过滤网200发生位移或形变的可能性，保证过滤效果。
41.在一些实施例中，如图2和图4所示，半圆弧形顶盖300的两端的端面设有插接轴320，半圆弧形底板120的两端的端面设有插接孔122，插接孔122与插接轴320配合插接，使得半圆弧形顶盖300与半圆弧形底板120之间不会发生错位，连接更牢固。
42.在一些实施例中，相邻两个过滤网200的间距为20mm至25mm。相比于间距小于20mm的情况，此范围的间距更大，镁蒸汽与过滤网200接触时间更长，过滤更充分。相比于间距大于25mm的情况，此范围的间距更小，使得装置的整体尺寸更小。
43.在一些实施例中，如图3所示，过滤网200的数量为三个，三个过滤网200的网孔尺寸依次为8mm、5mm和2mm，可以依次除去大于8mm的杂质、5mm至8mm之间的杂质以及2mm至5mm之间的杂质。
44.在一些实施例中，底座100一体成型，也就是说，第一圆挡板110、半圆弧形底板120和第二圆挡板130是一体成型的，无需后续的装配工作，节省安装时间。
45.在一些实施例中，第一圆挡板110与第二圆挡板130的外间距为70mm至100mm，使得整个装置的尺寸为70mm至100mm。该装置安装在还原罐内，与其他部件配合安装。
46.最后应说明的是，以上各实施例仅用以说明本技术的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述各实施例对本技术进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解；其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分或者全部技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本技术各实施例技术方案的范围。