技术特征：
1.一种应用于过滤半导体行业切割废水的多介质过滤系统，其特征在于：包括依次连通构成通路的切割废水储水箱(1)、多介质过滤器(2)和回用水箱(3)，其中多介质过滤器(2)内设有多介质滤料，设于多介质过滤器(2)中，用于过滤切割废水中的固体废料；制水单元，一侧与切割废水储水箱(1)连通，另一侧连通至回用水箱(3)，用于将切割废水注入多介质物料过滤并将过滤后的净水排入回用水箱(3)存储；气洗单元，包括进气阀(24)，进气阀(24)连通至多介质过滤器(2)底部，用于自下而上吹入压缩空气鼓动多介质滤料以松动污染物；反洗单元，包括连通至多介质过滤器(2)内并位于多介质滤料底部的反洗阀(23)，用于自下而上冲洗多介质滤料并带走污染物；回用水箱(3)的出水口分别连通至反洗阀(23)和制水单元的进口，用于提供反洗和正洗过程中的用水。2.根据权利要求1所述的一种应用于过滤半导体行业切割废水的多介质过滤系统，其特征在于：所述制水单元包括位于切割废水储水箱(1)与多介质过滤器(2)之间并与二者连通的过滤泵(4)，连通于多介质过滤器(2)中的进水阀(21)和产水阀(22)，进水阀(21)与过滤泵(4)连通，产水阀(22)连通至回用水箱(3)顶部。3.根据权利要求1所述的一种应用于过滤半导体行业切割废水的多介质过滤系统，其特征在于：所述气洗单元包括连通至多介质过滤器(2)顶部的排气阀(27)，用于排放鼓动多介质滤料后的废气和部分气水混合物。4.根据权利要求1所述的一种应用于过滤半导体行业切割废水的多介质过滤系统，其特征在于：所述反洗单元包括连通至多介质过滤器(2)内的上排阀(25)和下排阀(26)，上排阀(25)位于多介质滤料上方，下排阀(26)位于多介质滤料下方，用于相互配合实现反洗和正洗过程中污水的排放。5.根据权利要求2所述的一种应用于过滤半导体行业切割废水的多介质过滤系统，其特征在于：所述多介质过滤器(2)与回用水箱(3)之间设有相互连通的反洗泵(5)和回用水泵(6)，反洗泵(5)一侧分别于反洗阀(23)和进水阀(21)连通，另一侧与回用水泵(6)连通，回用水泵(6)连通至回用水箱(3)，用于为反洗泵(5)和生产线提供净水。6.根据权利要求1所述的一种应用于过滤半导体行业切割废水的多介质过滤系统，其特征在于：所述切割废水储水箱(1)和回用水箱(3)上均设有排放口，生产线上切割废水的进水管连通至切割废水储水箱(1)顶部。
技术总结
本实用新型公开了一种应用于过滤半导体行业切割废水的多介质过滤系统，涉及废水回收技术领域。该过滤系统包括依次连通构成通路的切割废水储水箱、多介质过滤器和回用水箱，其中多介质过滤器内设有多介质滤料、制水单元、气洗单元和反洗单元；在半导体行业切割废水的处理中加入多介质过滤器，实现制水-气洗-反洗-正洗-制水的往复过程，能够将过滤介质上积累的污染物清除，并将污染物虫排污口排出过滤器，从而使得过滤器恢复过滤能力，避免对过滤水量造成阻碍，提高了过滤效率和过滤效果，同时反洗时的出水量为制水时水量的两倍，能够较好地冲洗过滤层，保证过滤器效率恢复良好。保证过滤器效率恢复良好。保证过滤器效率恢复良好。
技术研发人员：林超 张晓军
受保护的技术使用者：伟泰科技（无锡）有限公司
技术研发日：2022.11.15
技术公布日：2023/3/30