新型分散研磨装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及粉碎技术领域，特别涉及一种新型分散研磨装置。
【背景技术】
[0002]研磨装置通过分散机构高速旋转带动磨球和研磨物料一起高速运动，磨球之间相互挤压或碰撞使物料破碎，实现对物料粉碎，并通过分离机构将粉碎好的物料与未完成粉碎的物料和磨球分离，使粉碎好的物料输出。
[0003]现有研磨装置工作时，只能使磨球在一个方向上运动，使得磨球与物料介质，例如物料只能在磨球之间或物料之间高速接触进行粉碎。由于磨球和介质只在一个方向运动，使得在粉碎过程中磨球与介质或物料与物料之间的接触机会和接触时的速度不大，从而影响研磨效率。同时受研磨时的离心作用，使得在研磨筒壁附近的磨球和介质密度较大，也影响研磨物料向分离机构方向移动，进而影响分离效率。
【发明内容】
[0004]本实用新型主要解决的技术问题是提供一种新型分散研磨装置，该新型分散研磨装置可以避免磨球和研磨物料在一个方向运动，增加磨球和研磨物料在多个方向运动，提高磨球捕获物料的机率；同时避免粉磨球和研磨物料聚集研磨筒壁，影响物料向移动分离机构移动。
[0005]为了解决上述问题，本实用新型提供一种新型分散研磨装置新型分散研磨装置，该新型分散研磨装置包括:设有进料通道的筒体和设于筒体内的分散机构和分离机构，该分散机构包括与主转轴固定的分散主体，该分散机构包括带中心通孔的圆柱形分散本体，该中心通孔周围均匀分布有轴向孔，该轴向孔与均匀分布于分散本体径向的径向盲孔连通形成轴向通道；在相邻的径向盲孔之间设有连通分散本体径向外侧和中心通孔的径向通孔形成的径向通道，该分散本体轴向两个端面中部向内凹陷，多个轴向孔孔口连接形成环形槽；靠近分离机构一侧设有与分离机构配合的分离缓存腔，该分离缓存腔与分离机构外侧之间设有分离通道。
[0006]进一步地说，所述分离缓存腔侧壁设有与研磨腔连通的减压孔。
[0007]进一步地说，所述分离机构包括分离器和与分离器连接并固定的出料通道，该出料通道设于转动配合的副转轴。
[0008]进一步地说，所述分离机构包括与主转轴固定的分离器，在该主转轴内设有与分离器连通的出料通道。
[0009]进一步地说，所述分离器为带空腔的分离轮，该空腔壁上设有呈螺旋渐开线状分离槽，该分离槽一端与分离轮外侧连通，另一端与出料通道的连通。
[0010]进一步地说，所述轴向孔呈螺旋状，径向通孔和径向盲孔为渐开线离散分布。
[0011]本实用新型分散研磨装置，包括设有进料通道的筒体和设于筒体内的分散机构和分离机构，该分散机构包括与主转轴固定的分散主体，该分散机构包括带中心通孔的圆柱形分散本体，该中心通孔周围均匀分布有轴向孔，该轴向孔与均匀分布于分散本体径向的径向盲孔连通形成轴向通道；在相邻的径向盲孔之间设有连通分散本体径向外侧和中心通孔的径向通孔形成的径向通道，该分散本体轴向两个端面中部向内凹陷，多个轴向孔孔口连接形成环形槽；靠近分离机构一侧设有与分离机构配合的分离缓存腔，该分离缓存腔与分离机构外侧之间设有分离通道，所述分离缓存腔侧壁设有与研磨腔连通的减压孔。使用时，磨球和物料在分散机构作用下不断加速，磨球和物料分散机构轴向移动至分离机构，由于离心作用，使得物料靠近筒壁移动，进而不影响分散机构对进入筒内的物料进行研磨。部分未分离的物料移动到离缓存腔后，随离心作用从减压孔内进入研磨腔再次研磨，避免影响物料分离效率。同时减压孔使得分离缓存腔内外两侧的压力平衡。
【附图说明】
[0012]为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单介绍，显而易见地，而描述中的附图是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来说，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他附图。
[0013]图1是分散研磨装置实施例沿转轴方向剖视结构示意图。
[0014]图2是分散主体实施例结构示意图。
[0015]图3是分离器实施例径向截面结构示意图。
[0016]图4是新型分散研磨装置第二实施例沿转轴方向剖视结构示意图。
[0017]下面结合实施例，并参照附图，对本实用新型目的的实现、功能特点及优点作进一步说明。
【具体实施方式】
[0018]为了使实用新型的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
[0019]如图1和图2所示，本实用新型提供一种新型分散研磨装置实施例。
[0020]该新型分散研磨装置包括:设有进料通道11的研磨筒和设于研磨筒内的分散机构2和分离机构3，与主转轴4固定分散机构2包括带中心通孔214的圆柱形分散本体，该中心通孔214周围均匀分布有轴向孔211，该轴向孔211与均匀分布于分散本体径向的径向盲孔216连通形成轴向通道；在相邻的径向盲孔216之间设有连通分散本体径向外侧和中心通孔214的径向通孔215形成的径向通道，该分散本体轴向两个端面中部向内凹陷，多个轴向孔孔口连接形成环形槽218 ;靠近分离机构3 —侧设有与分离机构3配合的分离缓存腔22，该分离缓存腔22与分离机构3外侧之间设有分离通道7，所述分离缓存腔22侧壁设有与研磨腔连通的减压孔20。
[0021]具体地说，所述研磨筒包括前筒板I和后边和后筒板6，在前筒板I和后筒板6之间设有内筒体4，在该内筒体4外还设有外筒体5，内筒体4与外筒体5之间设有用于冷却液体通过的空腔12。
[0022]所述分散本体21包括第一分散体210和第二分散体212，每个分散体210设有中心通孔214，该分散体210对应位置设有轴向孔211、径向盲槽和径向槽，装配后两个径向槽形成一个径向通孔215，两个径向盲槽形成一个径向盲孔216，两个径向槽成一个径向通孔215，径向盲槽和径向槽均匀相邻分布在径向面。
[0023]所述分散本体21设有中心通孔214，在分散本体21两侧分别均匀设有分布在中心通孔214周围的轴向孔211，该轴向孔211与均匀分布于分散本体径向的径向盲孔216连通形成轴向通道；在相邻的径向盲孔216之间设有一个连通分散本体径向外侧和中心通孔214的径向通孔215形成的径向通道，所述分散本体轴向两个端面中部向内凹陷，多个轴向