技术总结
本发明公开了一种可实现残渣富集的超临界水气化炉装置，包括超临界水气化炉及三级旋流分离器，超临界水气化炉自上到下依次分为小颗粒残渣分离区及超临界水气化反应区；超临界水气化反应区的侧壁上开设有物料入口及大颗粒残渣出口，超临界水气化反应区的底部开设有预热水入口，超临界水气化反应区内设置有分布板，该装置可实现超临界水气化炉中残渣的及时富集及排出。
技术研发人员：郭烈锦;程泽宁;金辉;徐加陵;欧国标;朱超
受保护的技术使用者：西安交通大学
文档号码：201610570687
技术研发日：2016.07.19
技术公布日：2016.12.21