技术特征：
技术总结
本发明公开一种全合成高光切削液及其制备方法，本发明全合成高光切削液的配方成分按重量比为：硼酸酯15‑20％；苯丙三唑1‑1.5％；异丙醇2‑4％；三乙醇胺4‑5％；甘油4‑5％；季铵盐沉降剂0.1‑1％；IPBC 1‑2％；消泡剂0.1‑0.8％；水65‑70％。全合成高光切削液的制备方法包括以下步骤：a、将硼酸酯18％、苯丙三唑1.5％、三乙醇胺4％依次加入反应釜，并将反应釜升温到90摄氏度，该反应釜的转速1000rpm，并搅拌15分钟；b、停止加温，并待反应釜冷却到常温，再依次加入异丙醇3％、甘油5％，并搅拌20分钟，并在搅拌的同时加入65.5％的水；c、最后加入季铵盐沉降剂0.5％、IPBC2％、消泡剂0.5％，混合均匀无沉淀即可。
技术研发人员：张茂琳
受保护的技术使用者：北京华懋伟业精密电子有限公司
技术研发日：2017.03.27
技术公布日：2017.08.04