专利名称：镁制品镀膜电解液的制作方法
技术领域：
本发明是关于一种镁制品镀膜电解液。
技术背景镁合金材料因其比重小、电磁屏蔽性能优良、适合压铸大批量生产等优点，在工业上已经得到了广泛的应用。但是，由于镁及镁合金材料的化学性质活泼，镁制品必须进行适当的表面保护处理，以提高镁合金材料表面的耐腐蚀性及耐磨性。
故而目前业界有采用镁合金微弧氧化技术对镁合金材料进行镀膜，如中国专利申请号86108405所揭示的一种镁制品的镀覆方法及所用的电解液，其采用碱金属硅酸盐(如硅酸钾)、碱金属氢氧化物(如氢氧化钾)及氟化物(如氟化钾)组成水溶液电解液，在浸于电解液中的镁制品与辅助阴极间加电压，通过火花放电，在镁合金表面形成覆层，使镁制品的耐蚀性、耐磨性有显著的提高。但是，该方法所采用的电解液所形成的陶瓷质膜为氧化镁陶瓷膜，颜色为白色，对于外观要求为黑色的产品则需要再喷漆，在产品磨损掉漆后，白色陶瓷膜外露，破坏产品外观。
发明内容有鉴于此，有必要提供一种可生成黑色镀膜的镁制品镀膜电解液。
一种镁制品镀膜电解液，包括基础液、发黑剂及络合剂，所述发黑剂包括主发黑剂及辅助发黑剂，所述主发黑剂含量为0.3～9g/l，所述辅助发黑剂含量为0.1～8g/l，所述络合剂含量为0.5～20g/l。
通过在镁制品镀膜电解液中加入发黑剂及络合剂，使生成的镁制品镀膜为黑色，满足镁制品黑色外观需求。
具体实施方式本发明镁制品镀膜电解液应用于镁合金材料，将镁合金基体材料作为阳极浸于镁制品镀膜电解液中，和浸于镁制品镀膜电解液中的阴极(如不锈钢或其它不溶性惰性金属)之间加电压直至金属表面产生电火花放电，在镁合金基体材料上形成黑色镀膜。镁制品镀膜电解液包括基础液、主发黑剂、辅助发黑剂、络合剂及缓蚀剂。镁制品镀膜电解液温度范围10～60℃。
基础液包括强碱、氟化物、硅酸盐及水。强碱为氢氧化钾、氢氧化钠的一种或其组合，其浓度为2～25g/l。氟化物可以是氟化钾、氟化钠、氟化铵等含氟离子的化合物的一种或几种的组合，其浓度为1～30g/l。硅酸盐为硅酸钾、硅酸钠、氟硅酸钾、氟硅酸钠等的一种或几种的组合，其含量为1～35g/l。
主发黑剂主要为铜盐，为氢氧化铜、碱式碳酸铜、焦磷酸铜、柠檬酸铜及其它含铜的金属盐的一种或几种的组合，其含量在0.3～9g/l。
辅助发黑剂为硝酸镍、钼酸铵、偏钒酸铵及其它含氧酸的一种或几种的组合，其含量为0.1～8g/l。
络合剂为氨水、乙二胺四乙酸(EDTA)、柠檬酸、酒石酸、乙二胺、三乙醇胺等的酸类或盐类的一种或几种的组合，含量为0.5～20g/l。
缓蚀剂可增加黑度、防止腐蚀，其为含有-NH2或-OH或-NO3等吸附型基团的硫脲、间硝基苯磺酸钠、乌洛托品等的一种或几种的组合，含量为0～5g/l。
下列各实施例是实施本发明所使用的代表性镁制品镀膜电解液及温度实施例1氢氧化钠 25g/l硅酸钠 1g/l氟化钾 10g/l焦磷酸铜 4g/l硝酸镍 0.1g/l柠檬酸钠 8g/l硫脲 1g/l温度35℃；镁制品镀膜膜厚10μm，黑色。
实施例2氢氧化钠 13g/l硅酸钠 8g/l氟化钾 13g/l焦磷酸铜 1.8g/l硝酸镍 0.1g/l
柠檬酸钠 5g/l硫脲 0.1g/l温度25℃；镁制品镀膜膜厚14μm，黑色。
实施例3氢氧化钾 2g/l硅酸钠35g/l氟化钾1g/l焦磷酸铜 6g/l硝酸镍0.1g/l乙二胺四乙酸二钠 3g/l乌洛托品 0.1g/l温度60℃；镁制品镀膜膜厚14μm，黑色略偏红。
实施例4氢氧化钠 15g/l硅酸钠 21g/l氟化钾 10g/l氢氧化铜 0.3g/l钼酸铵 1g/l乙二胺 0.5g/l硫脲 1g/l温度35℃；镁制品镀膜膜厚8μm，黑色。
实施例5氢氧化钠 3g/l硅酸钠 4g/l氟化钾 30g/l氢氧化铜 4.5g/l钼酸铵 0.6g/l乙二胺 0.5g/l
柠檬酸钠 8g/l硫脲 1.5g/l温度35℃；镁制品镀膜膜厚12μm，黑色。
实施例6氢氧化钾 15g/l硅酸钠21g/l氟化钾10g/l氢氧化铜 1g/l焦磷酸铜 8g/l偏钒酸铵 4g/l乙二胺5g/l柠檬酸钠 15g/l硫脲 1g/l温度35℃；镁制品镀膜膜厚18μm，黑色略偏蓝。
实施例7氢氧化钾 15g/l硅酸钠3g/l氟化钾15g/l焦磷酸铜 1g/l偏钒酸铵 8g/l乙二胺2g/l酒石酸钾钠12g/l温度35℃；镁制品镀膜膜厚11μm，黑色。
实施例8氢氧化钾 25g/l硅酸钠11g/l氟化钾10g/l氢氧化铜 1g/l
焦磷酸铜 2g/l偏钒酸铵 2g/l乙二胺1g/l柠檬酸钠 8g/l硫脲 1g/l乌洛托品 4g/l温度10℃；镁制品镀膜膜厚5μm，黑色。
权利要求
1.一种镁制品镀膜电解液，包括基础液，其特征在于所述镁制品镀膜电解液还包含有发黑剂及络合剂，所述发黑剂包括主发黑剂及辅助发黑剂，所述主发黑剂含量为0.3～9g/l，所述辅助发黑剂含量为0.1～8g/l，所述络合剂含量为0.5～20g/l。
2.如权利要求1所述的镁制品镀膜电解液，其特征在于所述基础液包括含量为2～25g/l的强碱、含量为1～30g/l的氟化物及含量为1～35g/l的硅酸盐。
3.如权利要求2所述的镁制品镀膜电解液，其特征在于所述强碱为氢氧化钾、氢氧化钠的一种或其组合。
4.如权利要求2所述的镁制品镀膜电解液，其特征在于所述氟化物为氟化钾、氟化钠、氟化铵的一种或其几种的组合。
5.如权利要求2所述的镁制品镀膜电解液，其特征在于所述硅酸盐为硅酸钾、硅酸钠、氟硅酸钾、氟硅酸钠的一种或其几种的组合。
6.如权利要求1所述的镁制品镀膜电解液，其特征在于所述主发黑剂为铜盐。
7.如权利要求6所述的镁制品镀膜电解液，其特征在于所述铜盐为氢氧化铜、碱式碳酸铜、焦磷酸铜、柠檬酸铜的一种或其几种的组合。
8.如权利要求1所述的镁制品镀膜电解液，其特征在于所述辅助发黑剂为含氧酸。
9.如权利要求8所述的镁制品镀膜电解液，其特征在于所述含氧酸为硝酸镍、钼酸铵、偏钒酸铵的一种或其几种的组合。
10.如权利要求1所述的镁制品镀膜电解液，其特征在于所述络合剂为氨水、乙二胺四乙酸、柠檬酸、酒石酸、乙二胺、三乙醇胺的酸类或盐类的一种或几种的组合。
11.如权利要求1所述的镁制品镀膜电解液，其特征在于所述镁制品镀膜电解液还包括缓蚀剂，所述缓蚀剂为含有吸附型基团的硫脲、间硝基苯磺酸钠、乌洛托品的一种或几种的组合，含量为0～5g/l，所述吸附型基团为-NH2或-OH或-NO3。
12.如权利要求1所述的镁制品镀膜电解液，其特征在于所述镁制品镀膜电解液温度范围为10～60℃。
全文摘要
一种镁制品镀膜电解液，包括基础液、发黑剂及络合剂，所述发黑剂包括主发黑剂及辅助发黑剂，所述主发黑剂含量为0.3～9g/l，所述辅助发黑剂含量为0.1～8g/l，所述络合剂含量为0.5～20g/l。
文档编号C25D11/30GK101058893SQ20061006039
公开日2007年10月24日 申请日期2006年4月19日 优先权日2006年4月19日
发明者罗忠无, 林军, 简琳, 彭铁强 申请人:鸿富锦精密工业(深圳)有限公司, 鸿海精密工业股份有限公司