可调节防滑动电镀槽的制作方法
【专利摘要】本实用新型公开了一种可调节防滑动电镀槽，包括镀槽和挂杆两部分。所述镀槽为圆柱体；所述挂杆在镀槽上端面直径处，且挂杆上刻有刻度，并在刻度线处刻有凹槽；所述挂杆中点为刻度尺零点，并且向两边依次增大，增量为0.5cm。在进行施镀时，可采用单阳极或双阳极系统，阴极可挂于挂杆零点位置，滑动阳极，可精确调节阴、阳极间距离。另外，刻度线处刻有凹槽，可将阴、阳极挂于凹槽处，防止电极滑动，减少无关变量对试验结果的影响。如果施镀过程要求进行搅拌，可在镀槽下面加磁力搅拌器，而将镀槽制作成圆柱体，可以使镀液搅拌更均匀。
【专利说明】可调节防滑动电镀槽
【技术领域】:
[0001]本实用新型涉及一种电镀槽，特别是涉及一种可调节阴阳极距离、防电极滑动的电镀槽。【背景技术】:
[0002]通过电镀，可以在机械制品上获得装饰保护性和各种功能性的表面镀层，还可以修复磨损和加工失误的工件。因此，越来越多的学者开展了对电镀的相关研究工作。而在实验室进行研究时，往往希望在试验操作中尽可能避免无关变量及额外变量的干扰。
[0003]目前加工使用的镀槽不能精确调节控制阴、阳极间距离，给试验过程增多了无关变量；且现大多数镀槽为立方体型镀槽，有搅拌不均匀现象。
【发明内容】
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[0004]本实用新型的目的就是针对现有技术存在的上述缺陷，提出了一种可以调节阴、阳极距离，防止电极滑动，并且有搅拌均匀特性的电镀槽。
[0005]其技术方案是:可调节防滑动电镀槽，包括镀槽和挂杆两部分。所述镀槽为圆柱体；所述挂杆在镀槽上端面直径处，且挂杆上刻有刻度，并在刻度线处刻有凹槽；所述挂杆中点为刻度尺零点，并且向两边依次增大，增量为0.5cm。
[0006]本实用新型的有益效果是:通过上述技术方案，本实用新型提供的可调节防滑动电镀槽在进行施镀时，可采用单阳极或双阳极系统，阴极可挂于挂杆零点位置，滑动阳极，可精确调节阴、阳极间距离。另外，刻度线处刻有凹槽，可将阴、阳极挂于凹槽处，防止电极滑动，减少无关变量对试验结果的影响。如果施镀过程要求进行搅拌，可在镀槽下面加磁力搅拌器，而将镀槽制作成圆柱体，可以使镀液搅拌更均匀。
【专利附图】
【附图说明】:
[0007]附图1是本实用新型结构示意图；
[0008]上图中:1、镀槽2、挂杆
【具体实施方式】:
[0009]结合附图1，对本实用新型作进一步的描述:
[0010]本实用新型提出了一种可调节防滑动电镀槽，如图1所示，包括镀槽(I)、挂杆
(2);所述镀槽(I)为圆柱体；所述挂杆(2)在镀槽(I)上端面直径处，且挂杆(2)上刻有刻度，并在刻度线处刻有凹槽；所述挂杆(2)中点为刻度尺零点，并且向两边依次增大，增量为 0.5cm。
[0011]本实用新型的工作过程为:进行施镀时，试验者可采用单阳极或双阳极系统。采用单阳极时，将阴极挂于挂杆(2)零点凹槽位置，阳极挂于两边均可，滑动阳极，精确调节阴、阳极间距离；采用双阳极系统时，将阴极挂于挂杆(2)零点凹槽位置，阳极挂于两边各一个，滑动阳极，精确调节阴、阳极间距离。阴、阳极均挂于挂杆(2)刻度线凹槽处，可防止电极滑动。如果施镀过程要求进行搅拌，可在镀槽(I)下面加磁力搅拌器，搅拌轨迹一般为圆形，而将镀槽(I)制作成圆柱体，可以使镀液搅拌更均匀。
[0012]通过上述技术方案，本实用新型提供的可调节防滑动电镀槽在进行施镀时，可采用单阳极或双阳极系统，阴极可挂于挂杆(2)零点位置，滑动阳极，可精确调节阴、阳极间距离。另外，刻度线处刻有凹槽，可将阴、阳极挂于凹槽处，防止电极滑动，减少无关变量对试验结果的影响。如果施镀过程要求进行搅拌，可在镀槽(I)下面加磁力搅拌器，而将镀槽(O制作成圆柱体，可以使镀液搅拌更均匀。
【权利要求】
1.可调节防滑动电镀槽，包括镀槽和挂杆两部分。所述镀槽为圆柱体；所述挂杆在镀槽上端面直径处，且挂杆上刻有刻度，并在刻度线处刻有凹槽；所述挂杆中点为刻度尺零点，并且向两边依次增大，增量为0.5cm。
【文档编号】C25D21/10GK203715769SQ201320806938
【公开日】2014年7月16日 申请日期:2013年12月10日 优先权日:2013年12月10日
【发明者】周永莉, 陈志伟, 李思 申请人:中国石油大学(华东)