一种铝型材电泳槽液自动控制系统的制作方法

1.本实用新型涉及合金材料生产加工领域，特别是一种铝型材电泳槽液自动控制系统。


背景技术：

2.铝型材作为现在常用的合金材料，为人们所广泛使用。铝型材的生产过程，电泳作为一种常用的加工工序，在进行电镀时，由于阳极溶解以及外界环境的影响，电镀槽液的有效离子浓度会随着电泳的进行发生改变，例如水分流失、杂质参入等，因此会导致电镀效果降低；通过加入搅拌装置对电镀槽液进行搅拌以利电镀槽液的均匀，但是容易造成较大的扰动使得电镀效果降低，另外，随着电镀的进行，电镀槽液的不合理利用使得电镀槽液的利用率低，并且造成浪费。现有的电镀槽液自动监控调节系统通常是在出液端进行浓度监控，根据监控的出液端电镀槽液的浓度来进行回流槽液的控制，存在监控准确性低，控制不灵活，控制滞后等不足。


技术实现要素：

3.针对上述技术问题，本实用新型提供了一种铝型材电泳槽液自动控制系统。
4.一种铝型材电泳槽液自动控制系统，包括电镀槽、出液管、浓度监控模块、过滤存储模块和回流管；所述电镀槽用以盛放电镀槽液，包含电镀正负极，待加工工件放置在电镀槽内进行电泳加工；所述电镀槽经所述出液管连接至所述过滤存储模块的进液端，所述电镀槽经所述回流管连接至所述过滤存储模块的出液端，所述过滤存储模块用于对所述电镀槽液进行过滤处理，形成回流电镀槽液，所述过滤存储模块至少包含两个存储单元，用于存储不同浓度的回流电镀槽液。
5.做为本实用新型的进一步说明，所述浓度监控模块包括测量槽，所述测量槽与所述电镀槽之间设置若干个采样点，所述测量槽经所述采样点与所述电镀槽连通。
6.更进一步地，所述测量槽为沿所述电镀槽外围设置的环形槽。
7.更进一步地，所述采样点在所述测量槽上均匀分布。
8.更进一步地，所述测量槽与所述出液管连通，检测后的样本槽液随出液管回流至过滤存储模块进行过滤处理，以便回流使用。
9.更进一步地，所述浓度监控模块还包括液面检测单元，用于检测所述电镀槽内电镀槽液的浓度以及液面信息，以控制所述回流管的回流速率。
10.与现有技术相比，由于采用了双浓度独立控制的回流方式，系统可以根据电镀槽的实际加工状态有效维持其内电镀槽液的浓度以及槽液液面的稳定，提升电泳加工的质量；测量槽提高了对电镀槽内电镀槽液浓度的检测准确性。
附图说明
11.图1是本实用新型铝型材电泳槽液自动控制系统结构示意图。
12.附图标记：电镀槽1、出液管2、回流管3、测量槽4、阀门5。
具体实施方式
13.实施例：
14.下面结合附图对本实用新型实施例详细的说明，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。
15.在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。
16.参见附图，本实用新型的铝型材电泳槽液自动控制系统包括电镀槽1、出液管2、浓度监控模块、过滤存储模块和回流管3；所述电镀槽1用以盛放电镀槽液，包含电镀正负极，待加工工件放置在电镀槽1内进行电泳加工；所述电镀槽1经所述出液管2连接至所述过滤存储模块的进液端，所述电镀槽1经所述回流管3连接至所述过滤存储模块的出液端，所述过滤存储模块用于对所述电镀槽液进行过滤处理，形成回流电镀槽液，所述过滤存储模块至少包含两个存储单元，用于存储不同浓度的回流电镀槽液；所述浓度监控模块用于检测所述电镀槽1内电镀槽液的浓度以及液面信息。在铝型材的电泳加工过程中，所述电镀槽1内电镀槽液除了正常用于工件的电镀加工外，同时经过所述出液管2持续流向所述过滤存储模块进行过滤处理，形成可以回流使用的回流电镀槽液，其中，如附图所示，所述过滤存储模块包含两个不同的过滤单元，将电镀槽液过滤成两种不同浓度的回流电镀槽液并分别存储到两个存储单元中，存储单元中的回流电镀槽液在系统的控制下持续向电镀槽1内回流，回流的速率由系统根据所述浓度监控模块检测的浓度及液面信息综合控制。由于采用了双浓度独立控制的回流方式，系统可以根据电镀槽1的实际加工状态有效维持其内电镀槽液的浓度以及槽液液面的稳定，提升电泳加工的质量。
17.为了提高对电镀槽1内电镀槽液浓度的检测准确性，所述浓度监控模块包括沿所述电镀槽1外围设置的测量槽4，所述测量槽4均匀设置若干的阀门5连通于所述电镀槽1，测量时可以控制各阀门5打开进行多点采样后混合的浓度作为检测样本，避免电镀槽液内浓度不均匀导致的检测误差，可以有效提升浓度检测的准确性，避免现有单一检测容易受到槽液扰动产生检测误差，控制不准确的情况。
18.作为上述实施例的优选，所述测量槽4与所述出液管2连通，检测后的样本槽液随出液管2回流至过滤存储模块进行过滤处理，以便回流使用。
19.以上仅就本实用新型较佳的实施例作了说明，但不能理解为是对权利要求的限制。本实用新型不仅局限于以上实施例，其具体结构允许有变化，总之，凡在本实用新型独立权利要求的保护范围内所作的各种变化均在本实用新型的保护范围内。