专利名称：金属表面抛光溶液及抛光工艺的制作方法
金属表面抛光溶液及抛光工艺，属于电化学领域，该溶液及其处理工艺用于金属制品表面电抛光，特别适用于仪器仪表制造、轻工和医疗器具零件的处理。
众所周知，钢件电化学抛光用的溶液的主要成分是磷酸和盐酸，这种溶液的缺点是毒性大，使用高价磷酸，且有化学侵蚀性。采用硫酸铵(NH4)2SO4水溶液(质量占2～6％)进行处理，其工艺范围受到限制，其中钢材40Cr13制品在上述电解质中没有抛光效果。
本发明的目的是为克服现有抛光溶液及其抛光工艺存在的上述不足，提供一种工艺范围宽，工件表面处理效果好的新型抛光溶液及抛光工艺。
具体技术方案是一种金属表面抛光溶液是用硫酸铵，硫酸钠和水组成，其中硫酸铵为0.2～20％，硫酸钠为0.2～20％，其余为水。
使用上述金属表面抛光溶液进行金属表面抛光处理工艺直流电压为110～290V，电解质温度为50～99℃，处理时间为2～10min，金属表面粗糙度Ra≤0.68μm，反射系数ρ≥12％。
本方案的效果是采用本发明的溶液和处理工艺，工艺处理范围大；成本低，效果好，特别对于小件，复杂件效果最佳。
本发明方案的实施例如表1.表2所示。表1为不同组分的电解质，表2为采用表1中各种组分的电解质对40Cr13和1Cr18Ni9Ti两种钢材进行表面抛光处理结果。电解质的成分为(NH4)2SO4、Na2SO4和水，其中(NH4)2SO4取(0.1～21)％，Na2SO4取(21～0.1)％，水取(78.9～80)％。用以上3种成分组成5种不同组分比例的电解质，在电解处理工况为电压110～290V，电解质温度50～99℃，处理时间为2～10min，表面原始粗糙度Ra 0.65～0.68μm，反射系数ρ＝12％的情况下，对40Cr13和1Cr18Ni9Ti进行表面抛光处理，得到的抛光结果为40Cr13的Ra为0.01～0.28μm，ρ为(48～68)％；1Cr18Ni9Ti的Ra为0.08～0.24μm，ρ为(54～72)％。从表2中的结果可以看出，当硫酸铵的浓度低于0.2％时，由于溶液中硫酸铵浓度过低，溶液中硫酸铵的饱和程度不足，导致抛光过程不稳定。将硫酸铵的浓度提高到最佳值以上时，就使溶液过饱和，在正极上大量放热，从而导致表面粗糙度增加，光泽降低。降低硫酸钠的浓度，导致抛光不均匀，零件的光泽下降，不同区域光泽不一样。提高硫酸钠的浓度，易产生腐蚀效应，从而使光泽降低，粗糙度增加。
采用本发明所述的电解质组份的浓度和工艺，既可抛光镍络钢(12Cr18Ni9Ti)，又可抛光含碳量高的不锈钢(40Cr13)，可以使抛光表面的粗糙度降低到Ra＝0.08μm，达到反光表面(ρ达72％)。
将电解质浓度提高到20％，可以强化抛光过程，对已进行过预处理的表面，可使抛光过程缩至2min。
上述实施例的试样样品采用40Cr13和1Cr18Ni9Ti钢的20×60×2mm的钢板。前者的抛光时间为4min，后者的抛光时间为5min，表面粗糙度是是用251型表面光度仪——面型仪测量的，表面光泽是用φ0-1型光度计的反射系数值评价的。
权利要求
1.一种金属表面抛光溶液及抛光工艺，其特征是它由硫酸铵、硫酸钠和水组成，其中硫酸铵和硫酸钠各为(0.2～20)％，其余为水。
2.一种使用权利要求1所述的金属表面抛光溶液进行金属表面抛光处理工艺，其特征是电压为110～290V，电解质温度50～99℃，处理时间为2～10min，金属表面粗糙度Ra≤0.68μm，反射系数ρ≥12％。
全文摘要
本发明涉及的金属表面抛光溶液及抛光工艺，属于电化学领域，用于金属表面抛光处理。其特点是采用各为(0.2～20)的硫酸铵和硫酸钠，其余为水的电解液，处理工况为电解质温度为50～99℃，处理时间为2～10min，金属表面粗糙度Ra≤0.68μm，反射系数ρ≥12％，可对各种不锈钢工件表面进行抛光处理。该溶液及工艺可明显提高表面处理质量，扩大工艺处理范围，成本低，特别适用于小件、复杂件表面处理。
文档编号C25F3/00GK1151451SQ95120179
公开日1997年6月11日 申请日期1995年12月8日 优先权日1995年12月8日
发明者黎志勤, 黎苏, 黎晓鹰, 张学逢, 肖兴华, 卡萨布斯基, 萨维斯基 申请人:黎志勤