银反射膜、光反射构件及光反射构件的制造方法
【专利说明】银反射膜、光反射构件及光反射构件的制造方法 【技术领域】
[0001] 本发明涉及一种由银或银合金构成的银反射膜、以其作为被膜的引线框架等光反 射构件及该光反射构件的制造方法。 【【背景技术】】
[0002] 银反射膜具有在可见光区域的反射率高的特性，故被广泛用于LED用的引线框架 等光反射构件（以下，亦称为反射构件）。用于引线框架等的银反射膜大多为对基材进行镀 敷或溅镀而形成的。
[0003] 例如，专利文献1中记载的技术中通过溅镀而形成银合金反射膜。溅镀具有可形 成具有高均匀性的膜的优点，但制造成本高，生产性低。该专利文献1中记载有一种关于反 射器用银合金反射膜的技术，即使在加热环境下，该反射器用银合金反射膜的表面平滑性 也是优异的，显示出高反射率。该方法中，成膜方法为溅镀，表面粗糙度方面，Ra = 2. Onm以 下。
[0004] 专利文献2中记载有一种关于可见光反射构件的技术，该可见光反射在可见光低 波长侧的反射率高，且耐久性优异。其为由成形于基板的银薄膜与形成于上述银薄膜上的 氮化硅保护膜构成的反射构件，银薄膜以（111)面或（200)面作为主要面方位。
[0005] 专利文献3中记载有一种关于银反射膜的技术，该银反射膜的最表面的结晶粒径 在0. 5 ym以上30 ym以下的范围内，银镀敷层具有1 ym以上的膜厚，基底材料由铜形成， 基底材料的表面粗糙度为〇. 5 y m以上，且对波长400nm的光的反射率为90%以上。
[0006] 然而，作为将银反射膜用于引线框架等光反射构件时的重要问题之一，可举出银 反射膜的耐热性的问题。银反射膜虽然显示出高反射率，但存在反射率因热而发生变化的 缺点。例如，引线框架等光反射构件中，当将银反射膜用于LED用基板时，其会暴露于焊接 或线接合等的加热环境。因此，耐热性可谓重要物性之一。然而，银反射膜的热历程与反射 率的关系复杂，至今未十分明确其机制，一般而言，反射率具有因加热而下降的倾向。因此， 期待开发出一种在加热前后均显示出良好反射率的银反射膜。并且，近年来银反射膜还被 指出会有因常温时效而软化的问题。因此，还要求银反射膜的硬度不易经时变化。
[0007] [专利文献1]日本专利特开2005-029849号公报
[0008] [专利文献2]日本专利特开2007-058194号公报 [0009][专利文献3]日本专利第4367457号说明书 【
【发明内容】
】
[0010] 因此，本发明的课题在于提供一种反射率高、加热前后反射率不易变化且不易在 常温软化的银反射膜。并且，本发明的课题在于提供一种使用该银反射膜作为被膜的光反 射构件。另外，本发明的课题在于以低成本且生产性良好地提供此种银反射膜及光反射构 件。进而，本发明的课题在于通过镀敷法提供具有耐热性良好的镀银反射膜与导电性基材 的光反射构件及其制造方法。
[0011] 本发明人等鉴于上述【背景技术】的问题而进行潜心研宄，结果发现：使银反射膜的 银结晶的取向方向以（100)取向为主，且使面内存在显示（221)取向的区域时，可由此使耐 热性提高等。并且发现：可不利用溅镀而以镀敷法解决这些课题。
[0012] 本发明为基于这些见解而完成的。
[0013] 即，根据本发明，提供以下技术方案。
[0014] < 1 >-种银反射膜，其由银或银合金构成，其特征在于：于上述银反射膜的表 面，上述银反射膜的结晶的（1〇〇)面取向于上述银反射膜的反射面法线方向的区域为50% 以上，且于上述银反射膜的表面存在上述银反射膜的结晶的（221)面取向于上述银反射膜 的反射面法线方向的区域。
[0015] < 2 >如< 1 >记载的银反射膜，其中，于上述银反射膜表面，上述银反射膜的结 晶的（221)面取向于上述银反射膜的反射面法线方向的区域为10%以上。
[0016] < 3 >如< 1 >或< 2 >记载的银反射膜，其中，于上述银反射膜表面，在上述银 反射膜的反射面法线方向上，与上述银反射膜的结晶的（1〇〇)取向接触的重合晶界23每 单位面积的长度为0. 4 ym/ ym2以上。
[0017] < 4 >-种光反射构件，在导电性基材上以< 1 >至< 3 >中任一项所记载的银 反射膜作为被膜。
[0018] < 5 >如< 4 >记载的光反射构件，其中，上述导电性基材的表面粗糙度Ry为 0? 5ym以下。
[0019] < 6 >如< 4 >或< 5 >记载的光反射构件，其中，于上述导电性基材与上述银反 射膜之间，设有以选自由镍、镍合金、钴、钴合金、铜及铜合金组成的组中的金属或合金构成 的至少1层中间层。
[0020] < 7 >-种光反射构件的制造方法，其通过对导电性基材实施镀敷处理，而将由 银或银合金构成的银反射膜制成皮膜，其特征在于：上述镀敷处理中使上述基材摇动。
[0021] < 8 >如< 7 >记载的光反射构件的制造方法，其中，通过对上述导电性基材实施 镀敷处理，而设置以选自由镍、镍合金、钴、钴合金、铜及铜合金组成的组中的金属或合金构 成的至少1层中间层，并通过对上述中间层实施镀敷处理，而将由银或银合金构成的银反 射膜制成皮膜。
[0022] < 9 >如< 7 >或< 8 >记载的光反射构件的制造方法，其中，以振幅1~10mm、 振动频率10~100Hz进行摇动。
[0023] 本发明的银反射膜于300~800nm的波段显示良好的反射率，尤其是于450~ 600nm的区域具有90%以上的反射率。并且，本发明的银反射膜即使于200°C进行2小时加 热后，亦同样地可于450~600nm的区域维持90%以上的反射率，其耐热性优异。该银反射 膜可通过电镀提供，成本相对较低，生产性良好。并且，本发明可通过镀敷法而提供具有耐 热性良好的镀银反射膜及导电性基材的光反射构件及LED用基板。
[0024] 本发明的上述及其它特征及优点可由下述记载而清楚得知。 【【具体实施方式】】
[0025] 本发明的银反射膜可提供如下光反射构件，该光反射构件于导电性基材上的最表 面具有以由银或银合金构成的镀敷层形式形成且反射率经提高的反射层。
[0026] (银反射膜及光反射构件）
[0027] 用于本发明的银反射膜及光反射构件中的反射层的银或银合金以选自由银、 银-锡合金、银-铟合金、银-铑合金、银-钌合金、银-金合金、银-钯合金、银-镍合金、 银-硒合金、银-锑合金及银-铂合金组成的组中的材料构成。上述之中，尤其是就反射率 提高的观点而言，优选为银、银-锡合金、银-铟合金、银-钯合金、银-硒合金、或银-锑合 金。通过将此种银或银合金用于银反射膜，可获得反射率良好且生产性好的银反射膜、具有 该银反射膜而形成的引线框架及LED用基板等光反射构件。
[0028] 另外，本发明的光反射构件中，关于由银或银合金构成的反射层的厚度（银反射 膜的厚度）并无特别限定。该反射层的厚度方面，例如通过将下限值设为0.5 ym以上，可 使反射率稳定地提高。另外，通过形成该反射层厚度，于制成半导体装置用引线框架的情况 下，可抑制因后续步骤即线接合及利用树脂或玻璃进行密封等中的加热所导致的劣化。如 果反射层的厚度过薄时（例如0. 1 y m)，将使得会因加热发生变色的导电性基材容易露出。 因此，为了更加稳定地防止由加热或加工所致的变色，反射层的厚度优选为0. 5 y m以上， 更优选为1. 〇 u m以上。另一方面，就削减贵金属银或抑制镀敷加工费等观点而言，该反射 层的厚度上限值优选为30 ym以下，更优选为10 ym以下，进一步更优选为5 ym以下。
[0029] 该光反射构件中，为了利用银或银合金镀敷达成于可见光区域具有高反射率的银 反射膜，通过使用平滑的基材及光泽剂，并适当地控制镀敷条件，使得反射层的表面织构的 取向性具有规则性，由此可进行更高反射率化。
[0030] 所谓平滑的基材是指具有以表面粗糙度计Ry = 0. 5 ym以下的特性的基材。导电 性基材表面的表面粗糙度Ry优选为0. 3 y m以下。对导电性基材表面的表面粗糙度Ry的 下限值并无特别限制，通常为〇. 05 ym以上。
[0031] 此处，所谓表面粗糙度Ry是指JIS B0601 :1994规定的最大高度，其于现在的标准 中相当于JIS B0601 :2013规定的轮廓曲线要素的高度Zt。
[0032] 作为光泽剂，可使用镀敷处理时所使用的通常的光泽剂，例如亚硒酸、硒氰酸钾等 Se系光泽剂或稳定剂、表面活性剂等。光泽剂的添加量优选为10~30ml/L。
[0033] 关于镀敷条件的