泵监视装置、真空处理装置以及真空泵的制作方法

本发明涉及泵监视装置、真空处理装置以及真空泵。

背景技术：

在制造半导体、液晶面板时的干式蚀刻或cvd等工序中，由于在高真空的处理腔内进行处理，因此作为对处理腔内的气体进行排气来维持高真空的手段，例如能够使用涡轮分子泵这样的真空泵。在对干式蚀刻或cvd等处理腔内的气体进行排气的情况下，随着气体的排出，反应生成物会堆积在泵内。

关于这样的反应生成物的堆积，专利文献1中公开了一种对堆积在泵内的生成物进行检测的方法。在专利文献1公开的堆积物检测方法中，对驱动泵的旋转体旋转的电机的电流值进行测量，并在测量值相对于电机电流初始值的变化量为规定值以上的情况下发出警告。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本专利第5767632号公报

技术实现要素：

发明要解决的技术问题

然而，实际上，即使在单个处理腔内被排出的气体流量也会较大地变动，所以随着气体流量的变动，驱动旋转体旋转的电机的电流值也较大地变动。因此存在以下问题：在由于气体流量的变动而导致电机电流值变动的情况下也会发出警告，无法避免误判定。

用于解决上述技术问题的方案

根据本发明的第1方案，泵监视装置对连接到同一腔室的多个真空泵的异常进行检测，该泵监视装置基于对表示多个所述真空泵的各个泵转子的旋转状态的信号进行比较后的结果，推定在多个所述真空泵的任一个发生了异常。

根据本发明的第2方案，在第1方案的泵监视装置中，表示所述旋转状态的信号是驱动所述泵转子旋转的电机的电机电流值，基于相互不同的所述真空泵的所述电机电流值的差，从而推定在多个所述真空泵的任一个发生了异常。

根据本发明的第3方案，在第1方案的泵监视装置中，所述泵转子由磁轴承以磁悬浮的方式支撑，基于所述磁轴承的磁轴承控制量而对表示所述旋转状态的信号进行计算。

根据本发明的第4方案，在第1方案的泵监视装置中，具备输入部，所述输入部从一个以上的真空处理装置被输入表示多个所述真空泵的所述旋转状态的信号，所述真空处理装置具备对腔室进行真空排气的多个真空泵，从而对每个所述真空处理装置推定在多个所述真空泵的任一个发生了异常。

根据本发明的第5方案，真空处理装置具备：腔室；多个真空泵，对所述腔室进行真空排气；第1方案的泵监视装置。

根据本发明的第6方案，真空泵具备：第1方案的泵监视装置；泵转子，由电机驱动旋转；输入部，输入有表示来自其他真空泵的旋转状态的信号，所述泵监视装置将表示所述泵转子的旋转状态的信号与从所述输入部所输入的表示旋转状态的信号相比较，从而对泵异常进行推定。

发明效果

根据本发明，能够防止真空泵的异常检测时的误判定。

附图说明

图1是示出第1实施方式中的半导体制造装置的图。

图2是示出泵主体的详情的剖视图。

图3是示出电机电流测量值的一例的图。

图4是示出真空泵以及泵监视装置的框图。

图5是示出位移传感器的构成的图。

图6是示出异常判定处理的一例的流程图。

图7是说明磁轴承控制的框图。

图8是示出xy值的一例的图。

图9是示出第2实施方式中的异常判定处理的一例的流程图。

图10是说明第3实施方式的图。

图11是说明第4实施方式的图。

具体实施方式

以下,参照附图对用于实施本发明的方式进行说明。

-第1实施方式-

图1是示出第1实施方式中的半导体制造装置10的图。半导体制造装置10是蚀刻装置等真空处理装置。如图1所示的例子中，在处理腔100安装有2台真空泵1a、1b，但也能够同样地应用于安装有3台以上的真空泵的情况。

真空泵1a经由阀3a安装于处理腔100，真空泵1b经由阀3b安装于处理腔100。半导体制造装置10具备主控制装置110，该主控制装置110对包括真空泵1a、1b以及阀3a、3b的制造装置整体进行控制。主控制装置110中具备监视装置4，该监视装置4对真空泵1a、1b是否异常进行监视。真空泵1a、1b为相同机型的真空泵，分别具备泵主体11与驱动控制泵主体11的控制器12。真空泵1a、1b的各个控制器12经由通信线路40而与半导体制造装置10的主控制装置110连接。

图2是示出泵主体11的详情的剖视图。本实施方式中的真空泵1a、1b是磁轴承式的涡轮分子泵，在泵主体11设置有旋转体r。旋转体r具备泵转子14与紧固在泵转子14的转子轴15。

在泵转子14中，在上游侧形成有多级旋转叶片14a，在下游侧形成有构成螺旋槽泵的圆筒部14b。与这些相对应地，在固定侧设置有多个固定叶片定子62与圆筒状的螺旋定子64。如图2所示的例子中，在螺旋定子64侧形成有螺旋槽，但也可以在圆筒部14b形成螺旋槽。各个固定叶片定子62经由间隔环63被载置于基座60上。

转子轴15由设置在基座60的径向磁轴承17a、17b与轴向磁轴承17c所磁悬浮支撑，并由电机16驱动旋转。各个磁轴承17a～17c具备电磁体与位移传感器，通过位移传感器对转子轴15的悬浮位置进行检测。通过转速传感器18对转子轴15的转速进行检测。在磁轴承17a～17c不运转的情况下，转子轴15由紧急用的机械轴承66a、66b所支撑。

形成有进气口61a的泵壳体61通过螺栓被固定于基座60。在基座60的排气口60a设置有排气端口65，在该排气端口65连接有后泵。如果通过电机16使紧固有泵转子14的转子轴15高速旋转，则进气口61a侧的气体分子向排气口65侧排出。

在基座60设置有加热器19与供冷却水等制冷剂流动的制冷剂管道20。在对反应生成物中容易堆积的气体进行排气的情况下，为了抑制生成物堆积至螺旋槽泵部分和下游侧的旋转叶片14a，通过进行加热器19的接通断开以及流经制冷剂管道20的制冷剂的接通断开从而进行温度调整，以使例如螺旋定子固定部附近的基座温度达到规定温度。另外，尽管省略了图示，但在制冷剂管道20设置有用于使制冷剂接通断开的电磁阀。

另外，安装于相同的处理腔100的2个真空泵1a、1b的使用条件可以视为几乎相同。此外，由反应生成物的堆积而引起的泵维护也在相同的时机进行。因此，可以认为随着使用时间的经过，真空泵1a以及真空泵1b中的反应生成物的堆积状态几乎相同。

图3是示出真空泵1a以及真空泵1b的电机电流的测量值的一例的图，示出进行了反应生成物的堆积的状态下的测量值。在图3中横轴表示时间，纵轴表示电机电流值。实线所示的线ma示出真空泵1a的电机电流值，虚线所示的线mb示出真空泵1b的电机电流值。在标号b所示的期间向处理腔100内进行气体导入，电机电流值ma、mb上升。

如图3所示，在重复气体的导入以及停止的运转状态下，随着气体流量的变动，电机电流值较大地变动。但是，由于真空泵1a、1b为相同机型的真空泵，并且使用条件也几乎相同，因此如图3所示，不论气体导入量的变化如何，电机电流值ma、mb示出几乎相同的变化倾向，并且电机电流值ma、mb之间的差也很小。

然而，在反应生成物的堆积量增大的状态下，观察到如图3的标号a所示那样电机电流值的瞬间上升。其推定为是因为如果反应生成物的堆积持续进行，则由于堆积物使图2所示的圆筒部14b与螺旋定子64的间隙变小，在泵转子14摇晃的情况下，圆筒部14b与螺旋定子64偶发性地接触，从而发生电机电流值的瞬间上升。如图3所示的例子中，在真空泵1a的电机电流值ma发生了瞬间上升。如果反应生成物的堆积量变得过大则会发生这样的现象，而且发现了发生电机电流值的瞬间上升之后，在几天～2周左右会发生由于堆积物而造成的故障(例如，由于圆筒部14b与螺旋定子64的接触而导致无法启动泵)。

因此，在本实施方式中，对真空泵1a的电机电流值ma与真空泵1b的电机电流值mb的差进行计算，在该差的大小超过预先设定的阈值的情况(例如，如图3的标号a所示的状况的情况)下，向用户发出警告。

图4是示出设置在半导体制造装置10的真空泵1a、1b的构成的框图。真空泵1a、1b为相同机型的真空泵，泵主体11具备电机16、磁轴承17以及转速传感器18，控制器12具备通信端口21、磁轴承控制部22、电机控制部23以及存储部24。另外，在图4中，将图2的径向磁轴承17a、17b以及轴向磁轴承17c统称为磁轴承17。此外，主控制装置110具备泵监视装置120以及显示部130以及通信端口44。

电机控制部23基于由转速传感器18检测到的旋转信号来推定转子轴15的转速，基于所推定的转速将电机16控制为规定目标转速。另外，因为如果气体流量变大则对泵转子14的负载也增加，所以根据负载控制电机电流从而维持规定目标转速。磁轴承17具备轴承电磁体与用于对转子轴15的悬浮位置进行检测的位移传感器。

图5是示出位移传感器的构成的图。图2的径向磁轴承17a由x轴以及y轴这2个轴的磁轴承构成，相对于x轴具备一对位移传感器x1a、x1b，相对于y轴具备一对位移传感器y1a、y1b。同样地，图2的径向磁轴承17b由x轴以及y轴这2个轴的磁轴承构成，相对于x轴具备一对位移传感器x2a、x2b，相对于y轴具备一对位移传感器y2a、y2b。此外，关于轴向磁轴承17c，具备用于对转子轴15的轴向的位移进行检测的位移传感器z。

返回图4，来自设置在真空泵1a的泵主体11的位移传感器x1a、x1b、y1a、y1b、x2a、x2b、y2a、y2b、z各自的检测信号被输入至设置在真空泵1a的控制器12的磁轴承控制部22。同样地，来自设置在真空泵1b的泵主体11的位移传感器x1a、x1b、y1a、y1b、x2a、x2b、y2a、y2b、z各自的检测信号被输入至设置在真空泵1b的控制器12的磁轴承控制部22。

基于位移传感器x1a、x1b、y1a、y1b、x2a、x2b、y2a、y2b、z的检测信号，控制器12的磁轴承控制部22对磁轴承17的励磁电流进行控制，以使转子轴15被磁支撑于目标悬浮位置。在控制器12的存储部24存储有电机控制、磁轴承控制所必需的参数，并且还存储有真空泵1a、1b的机型数据。

如上所述，设置在主控制装置110的泵监视装置120是对安装于处理腔100的真空泵1a、1b中是否发生异常(即反应生成物的过剩的堆积)进行监视的装置。真空泵1a、1b的控制器12与主控制装置110通过通信进行信息的收发。如图4所示的例子中，示出了通过串行通信进行信号的交换的情况。在控制器12设置有通信端口21，在主控制装置110也设置有通信端口44。控制器12的通信端口21通过通信线路40与主控制装置110的通信端口44相连接。

(监视方法的说明)

泵监视装置120使用表示各个泵转子14的旋转状态的信号作为用于检测真空泵1a、1b的异常的信息。在本实施方式中，对使用真空泵1a、1b的电机电流值ma、mb作为表示泵转子14的旋转状态的信号的情况进行说明。

在控制器12的电机控制部23中，基于转速传感器18的检测值计算电机16的旋转速度并进行反馈控制，以使检测到的旋转速度达到目标旋转速度。在如图3所示的进行一系列处理的状态下，电机控制部23进行通常运转控制以将旋转速度维持在额定旋转速度。如上所述，由于在标号b所示的区间向处理腔100内进行气体导入，所以对泵转子14的负载也增加。由于电机控制部23进行将电机旋转速度维持在额定旋转速度的控制，因此随着气体负载的增加，电机电流值ma、mb上升。

经由通信线路40获取的真空泵1a、1b的电机电流值ma、mb被输入至泵监视装置120。泵监视装置120对电机电流值ma、mb的差δm(＝ma-mb)进行计算。在差δm的大小|δm|超过规定的阈值α的情况下，泵监视装置120判定为异常。例如，在图3的时刻t1电机电流值ma、mb的差δm满足|δm|＜α，因此未被判定为异常，但在时刻t2变为|δm|＞α，因此被判定为异常。

真空泵1a、1b的使用环境几乎相同，反应生成物的堆积状况也几乎相同。如果反应生成物的堆积量变得过大，则发生电机电流值的瞬间上升，该电机电流值的瞬间上升推定为是由圆筒部14b与螺旋定子64的偶发性接触引起。然而，这样的电机电流值的上升是偶发性地发生，并且也不知道是在真空泵1a、1b中的哪一个发生。在本实施方式中，将差δm的大小|δm|与阈值α相比较，因此在真空泵1a、1b的任一个发生了异常(即电机电流值的上升)的情况下，也能够检测到该异常。

关于阈值α，可以使用预先设定的值，也可以基于实际运转时的真空泵1a、1b的电机电流值ma、mb进行设定。在基于运转状态中的电机电流值ma、mb设定阈值α的情况下，可以基于从开始使用真空泵1a、1b起的使用期间较短的初始状态的电机电流值ma、mb进行设定，也可以基于从开始使用的时间点到判断为异常时的电机电流值ma、mb而设定阈值α。

在初始状态中生成物的堆积量也较少，因此能够不受生成物堆积的影响而设定阈值σ。此外，在初始状态中，也几乎不会发生如图3的标号a所示的电机电流值的瞬时上升。关于电机电流值ma、mb，泵监视装置120随时间获取大量的数据，并基于这些数据计算差δm的标准偏差σ。与正常时的|δm|相比异常时的|δm|格外得大，因此为了避免误检测，将阈值设定为例如6σ这样的相对于标准偏差σ较大的值。

图6是示出由泵监视装置120进行的异常判定处理的一例的流程图。在步骤s100中，基于初始状态的电机电流值ma、mb设定阈值α。具体而言，将真空泵1a、1b安装至处理腔100之后，在从泵开始运转到规定期间的初始状态中，以一定时间间隔对电机电流值ma、mb进行取样。在该情况下，在相同时机进行电机电流值ma、mb的取样。对于得到的多对电机电流值ma、mb求出差δm＝ma-mb，计算差δm的标准偏差σ。然后，将6σ设定为阈值α。阈值α＝6σ被存储在图4的泵监视装置120中所设有的存储部(未图示)中。

接下来，在步骤s110中读取电机电流值ma、mb，在随后的步骤s120中计算差δm的大小|δm|。在步骤s130中，对|δm|与阈值α的大小关系是否为|δm|＞α进行判定。如果在步骤s130中判定为|δm|＞α，则前进至步骤s140执行警告处理。例如，通过在主控制装置110的显示部130进行警告显示，从而向用户通知需要对安装于处理腔100的真空泵1a、1b进行维护。

另一方面，在步骤s130中判定为|δm|≤α的情况下，则返回步骤s110，再次执行从步骤s110到步骤s130的处理。以规定的时间间隔重复执行从步骤s110到步骤s130的处理，直到在步骤s130中被判定为是。

(c1)如以上说明所述，对连接到同一处理腔100的多个真空泵1a、1b的异常进行检测的泵监视装置120基于对表示多个真空泵1a、1b的每个泵转子14的旋转状态的信号进行比较的结果，从而推定在真空泵1a、1b的任一个发生了异常。

由于真空泵1a、1b被连接到同一处理腔100，因此反应生成物的堆积量这样的泵状态变得几乎相同，即使在由于气体流量的变动而使电机电流值变动的情况下，表示泵转子14的旋转状态的信号也示出相同的倾向。因此，通过对表示旋转状态的信号进行比较，从而在如图3的时刻t2中这样表示旋转状态的信号(在图3的例子中为电机电流值ma、mb)相互背离的状态下，能够容易地推定在真空泵1a、1b的任一个发生了异常，并且能够防止以往那样的误判定。

(c2)例如，能够使用驱动泵转子14旋转的电机16的电机电流值ma、mb作为表示上述旋转状态的信号。在该情况下，基于相互不同的真空泵1a、1b的电机电流值ma、mb的差，例如通过将电机电流值ma、mb的差δm的大小|δm|与阈值α相比较，从而推定在真空泵1a、1b的任一个发生了异常。

(c5)此外，如图1所示，在具备处理腔100与对处理腔100进行真空排气的多个真空泵1a、1b的真空处理装置即半导体制造装置10中，也可以具备上述泵监视装置120。通过来自泵监视装置120的警告，操作员能够准确地知道安装于处理腔100的真空泵1a、1b的维护时机。

另外，在上述的实施方式中，在对判定是否异常时的阈值α进行设定的情况下，使用差＝ma-mb的标准偏差σ进行设定以使α＝6σ，但也可以使用差的平均值进行设定。

在上述的实施方式中，以在处理腔100安装有2台真空泵的情况为例进行了说明，但本发明也可以应用于安装有3台以上的真空泵的情况。即使在安装有3台以上的真空泵的情况下，由于每台真空泵在相同条件下被使用，因此在检测到多台真空泵的任一台异常(即反应生成物的过剩的堆积)的情况下，泵监视装置120警告需要对于所有安装于处理腔100的多台真空泵进行维护。

泵监视装置120从安装于处理腔100的多台真空泵中的任意2台中分别获取电机电流值，从而对这2个电机电流值的差的大小|δm|是否为|δm|>α进行判定。对多台真空泵全部进行关于任意2台这样的判定。例如，在将5台真空泵1a、1b、1c、1d、1e安装至处理腔100的情况下，对于(1a、1b)、(1c、1d)、(1e、1a)这3种类型的组合判定是否为|δm|＞α。然后，在针对3种类型的组合的至少1种为|δm|>α的情况下，对5台真空泵1a～1e全部发出维护警告。

另外，在3种类型的组合(1a、1b)、(1c、1d)、(1e、1a)中包括了安装于处理腔100的所有真空泵1a、1b、1c、1d、1e，因此通过对3种类型的组合进行上述的异常检测处理，从而对所有的真空泵1a～1e进行异常判定。

-第2实施方式-

在上述的第1实施方式中，使用了电机电流值ma、mb作为表示泵转子14的旋转状态的信号，但在第2实施方式中，基于磁轴承控制量来对表示旋转状态的信号进行计算，该磁轴承控制量基于位移传感器的位移信号而生成。如图5所示，在径向磁轴承17a、17b、17c中分别设置有用于检测转子轴15的悬浮位置的位移传感器。以下对于将检测径向的悬浮位置的位移传感器x2a、x2b、y2a、y2b的位移信号作为表示旋转状态的信号使用的情况进行说明。

如图5所示，径向磁轴承17a具备两对电磁体，以夹着转子轴15的方式而配置，对于配置在x轴方向上的其中一个电磁体对，设置有一对位移传感器x2a、x2b，对于配置在y轴方向上的另一个电磁体对，设置有一对位移传感器y2a、y2b。

图7是对与位移传感器x2a、x2b相关的磁轴承控制进行说明的框图。与位移传感器y2a、y2b相关的框图也与图7的情况完全相同。位移传感器x2a、x2b的位移信号根据位移传感器x2a、x2b与转子轴15的间隙的大小而变化。来自位移传感器x2a、x2b的位移信号被输入至差分放大器602。从差分放大器602输出这些信号的差值即差分信号vdif。

差分信号vdif被输入至pid控制电路53。pid控制电路53以使差分信号vdif变成零，即转子轴15被支撑于位移传感器x2a、x2b的中央的方式，对应该在电磁体37x流动的电流值进行pid运算，来作为磁轴承控制量输出至电流放大器55。电流放大器55将与输入的磁轴承控制量相对应的电磁体电流供给至电磁体37x。

在本实施方式中，基于从pid控制电路53输出至电流放大器55的磁轴承控制量，从而对表示泵转子14的旋转状态的信号即xy值进行计算。以下将x轴方向的磁轴承控制量表示为pid-ix，将y轴方向的磁轴承控制量表示为pid-iy。泵监视装置120分别从真空泵1a、1b读取这些磁轴承控制量pid-ix、pid-iy，并计算由式(1)所示的xy值。

xy＝{(pid-ix)²+(pid-iy)²}^1/2(1)

式(1)中所表示的xy值作为表示施加到泵转子14的水平方向的力，即表示泵转子14的轴芯相对于目标悬浮位置的偏差的指标而导入。水平方向的力越大即泵转子14的轴芯相对于目标悬浮位置的偏差越大，则xy值成为越大的值。如果反应生成物的堆积量增加，圆筒部14b与螺旋定子64接触并对泵转子14施加力，则泵转子14的旋转状态即轴芯的偏差变大，xy值也变大。

图8是示出xy值的一例的图。图8示出了安装在同一处理腔的2台真空泵1a、1b中所检测到的xy值，泵状态与图3所示的情况几乎为同时期的状态。在图8中纵轴表示xy值，横轴表示时间，实线所示的线sa示出真空泵1a的xy值，虚线所示的线sb示出真空泵1b的xy值。

各个区间c中的xy值sa、sb的变化图案在任一区间c均成为相同的图案。但是，时刻t3中的xy值sa与xy值sb的差的大小|δxy|比其他时刻中的|δxy|变得更大。可以认为这样的|δxy|的瞬时上升是由圆筒部14b与螺旋定子64的接触而引起的。实际上，在发生如图3的标号a所示的电机电流值瞬时上升的情况下，也同时发生如图8所示的|δxy|的瞬时上升。

另外，在外部干扰作用于泵转子14的情况下、或者在气体负载急剧变化的情况下，泵转子14也会摇晃，因此磁轴承控制量pid-ix、pid-iy以抑制该摇晃的方式而变动。因此，在圆筒部14b与螺旋定子64没有接触的状态下，xy值也会有一定程度的变动。

在本实施方式中，泵监视装置120分别对真空泵1a、1b的xy值进行计算。然后，在计算出的2个xy值的差δxy的大小|δxy|大于规定的阈值的情况下，警告在真空泵1a、1b的任一个发生了异常(即反应生成物的过剩的堆积)。即，警告需要对真空泵1a、1b进行维护。另外，对于阈值α的设定方法，可以认为与第1实施方式的情况相同，例如，在将差δxy的标准偏差设为σ的情况下，只要将6σ设为阈值α即可。

图9是示出第2实施方式中的异常判定处理的一例的流程图。在步骤s200中，与第1实施方式的情况相同，基于初始状态的xy值sa、sb设定阈值α。只要将第1实施方式的情况的电机电流值ma、mb替换为xy值sa、sb，进行与图6的步骤s100相同的处理即可，在此省略详细说明。计算出的阈值α被存储在泵监视装置120中所设有的存储部(未图示)中。

接下来，在步骤s210中读取xy值sa、sb，在步骤s220中对xy值的差的大小|δxy|＝|sa-sb|进行计算。在步骤s230中，对|δxy|与阈值α的大小关系是否为|δxy|＞α进行判定。如果在步骤s230中判定为|δxy|＞α，则进入步骤s240执行与第1实施方式的步骤s140中的警告处理相同的警告处理。

另一方面，在步骤s230中判定为|δxy|≤α的情况下，则返回步骤s210，再次执行从步骤s210到步骤s230的处理。以规定的时间间隔重复执行从步骤s210到步骤s230的处理，直到在步骤s230中被判定为是。

(c3)如上所述，在第2实施方式中，基于通过磁轴承使泵转子14磁悬浮支撑时的磁轴承控制量pid-ix、pid-iy，从而对表示旋转状态的信号即xy值进行计算。然后，关于真空泵1a、1b分别计算xy值sa、sb，通过将这些值的差的大小|δxy|与阈值α相比较，从而推定在真空泵1a、1b的任一个发生了异常。

xy值表示泵转子14的轴芯相对于目标悬浮位置的偏差，如果反应生成物的堆积量增加，圆筒部14b与螺旋定子64接触并对泵转子14施加力，则泵转子14的旋转状态即轴芯的偏差变大，xy值也变大。因此，关于真空泵1a、1b，通过将各自的xy值的差的大小|δxy|与阈值α相比较，从而能够在真空泵1a、1b的任一个容易地检测到异常(即反应生成物的过剩的堆积)。

另外，也可以使用xy值的差δxy与上述的电机电流值的差δm双方，检测在真空泵1a、1b的任一个发生了异常。

在上述说明中，在对泵转子14与螺旋定子64的接触进行检测的情况下，使用了在轴向上接近泵转子14的位移传感器x2a、x2b、y2a、y2b的位移信号，但也可以使用位移传感器x1a、x1b、y1a、y1b的位移信号。

-第3实施方式-

图10是说明第3实施方式的图，与图4同样是示出设置在半导体制造装置10的真空泵1a、1b的构成的框图。在上述的第1以及第2实施方式中，泵监视装置120设置在半导体制造装置10的主控制装置110。另一方面，在第3实施方式中，泵监视装置120设置在每个真空泵1a、1b的控制器12内。其他的构成与图4所示的构成相同。

设置在真空泵1a的控制器12中的泵监视装置120获取示出真空泵1a的泵转子14的旋转状态的信号，并且经由通信线路40从真空泵1b获取示出其他的真空泵1b的泵转子14的旋转状态的信号。同样地，设置在真空泵1b的控制器12中的泵监视装置120获取示出真空泵1b的泵转子14的旋转状态的信号，并且经由通信线路40从真空泵1a获取示出其他的真空泵1a的泵转子14的旋转状态的信号。

作为示出泵转子14的旋转状态的信号，可以是从第1实施方式中说明的电机控制部23获取的电机电流值ma、mb，也可以是根据从第2实施方式中说明的磁轴承控制部22获取的磁轴承控制量pid-ix、pid-iy而计算出的xy值。即使在使用了任一信号的情况下，各个真空泵1a、1b也分别检测在真空泵1a、1b的任一个发生了异常(即反应生成物的过剩的堆积)。

在真空泵1a、1b中分别检测到的异常检测结果经由通信线路40被发送至主控制装置110。如果从真空泵1a、1b的至少一个中输入异常检测结果，则主控制装置110显示警告显示，通知真空泵1a、1b的维护时期已到。

(c6)在本实施方式中，如图10所示在真空泵1a的控制器12设置有泵监视装置120。表示来自其他的真空泵1b的旋转状态的信号即电机电流值mb被输入至控制器12的信号输入部即通信端口21。然后，泵监视装置120将表示真空泵1a的泵转子14的旋转状态的信号即电机电流值ma与由通信端口21输入的电机电流值mb相比较，即将差δm＝ma-mb的大小|δm|与阈值α相比较，从而对泵异常进行推定。

如此，真空泵1a、1b分别进行泵异常推定，由于使用双方的推定结果从而使异常检测的冗余度增加，能够可靠地检测真空泵1a、1b的异常。

-第4实施方式-

图11是说明第4实施方式的图。在第4实施方式中，泵监视装置120对安装于多个半导体制造装置的各自的处理腔中的真空泵检测异常(即反应生成物的过剩的堆积)的发生情况。在图11所示的例子中，泵监视装置120对安装于3个半导体制造装置10a、10b、10c的处理腔100a-100c的真空泵1a-1f进行监视。

在各个半导体制造装置10a-10c分别设置有无线方式的通信装置140。此外，在泵监视装置120也设置有无线方式的通信装置200，能够在通信装置140与通信装置200之间进行信息的收发。泵监视装置120能够经由通信装置140、200从各个半导体制造装置10a-10c获取示出真空泵1a-1f的泵转子的旋转状态的信号。以下，以示出旋转状态的信号为电机电流值的情况为例进行说明。

即使是3个半导体制造装置10a-10c为相同的装置的情况，在各自的半导体制造装置10a-10c中设置有的真空泵1a-1f的最近的维护时期不同的情况下，各个半导体制造装置10a-10c中的真空泵的下次维护时期也将有所不同。因此，泵监视装置120对每个半导体制造装置10a-10c进行真空泵的异常检测。

在对真空泵1a、1b的异常进行判定的情况下，从半导体制造装置10a获取真空泵1a、1b的电机电流值ma、mb。基于电机电流值ma、mb的异常检测处理与第1实施方式的图6所示的异常检测处理相同。即，运算部210基于初始状态中的电机电流值ma、mb设定用于判定异常的阈值α。该阈值α被存储在存储部220。运算部210以规定的时间间隔从半导体制造装置10a获取电机电流值ma、mb，从而对电机电流值ma、mb的差的大小|δm|＝|ma-mb|是否为|δm|＞α进行判定。然后，在|δm|>α的情况下，判定为在真空泵1a、1b的任一个发生了异常，并在显示部230显示警告显示，催促真空泵1a、1b的维护。

关于半导体制造装置10b、10c的真空泵1c、1d以及1e、1f，对各半导体制造装置10b、10c也分别进行与半导体制造装置10a的真空泵1a、1b的情况相同的异常判定处理。

(c4)在第4实施方式中，泵监视装置120具备作为输入部的通信装置200，该输入部被输入来自一个以上的半导体制造装置10a、10b、10c中分别设置的真空泵1a-1f的电机电流值ma-mf，从而对每个半导体制造装置10a、10b、10c推定在各自的半导体制造装置中设置的2个真空泵的任一个发生了异常。

通过设置这样的泵监视装置120，对于多个半导体制造装置10a、10b、10c，能够分别对设置于这些半导体制造装置的真空泵的异常进行检测。

另外，在图11所示的例子中将通信装置200设为了无线方式，但也可以设为有线方式。通过设为无线方式，能够容易地进行远程的统一管理。

尽管上述对各种各样的实施方式进行了说明，但本发明不限定于这些内容。在本发明的技术思想的范围内能够想到的其他实施方式也包括在本发明的范围内。此外，也可以组合多种实施方式。

附图标记说明

1a、1b、1c、1d、1e、1f…真空泵

10…半导体制造装置

11…泵主体

12…控制器

14…泵转子

16…电机

17…磁轴承

17a、17b…径向磁轴承

17c…轴向磁轴承

21、44…通信端口

22…磁轴承控制部

23…电机控制部

100、100a…处理腔

110…主控制装置

120…泵监视装置

ma、mb…电机电流值

sa、sb…xy值

x1a、x1b、y1a、y1b、x2a、x2b、y2a、y2b、z…位移传感器。